基板处理装置及基板处理方法制造方法及图纸

单一的基板处理装置可包括用于清洗一个第一板或多个第二板的清洗腔、用于干燥所述一个第一板或所述多个第二板的干燥腔、用于向所述一个第一板或所述多个第二板上涂布药液的涂布腔、用于对被涂布药液的所述一个第一板或被涂布药液的所述多个第二板曝光的曝光腔、用于对被涂布药液的所述一个第一板或被涂布药液的所述多个第二板显影的显影腔、以及用于整齐排列所述一个第一板或所述多个第二板的整齐排列装置。

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置及基板处理方法本申请享有2019年6月27日向韩国特许厅申请的韩国专利申请第10-2019-0076776号的优先权。
本专利技术的例示性实施例涉及基板处理装置及基板处理方法。更具体来讲，本专利技术的例示性实施例涉及能够处理具有多种大小的基板的单一的基板处理装置及能够利用这种单一的基板处理装置对具有多种大小的基板执行的包括涂布工程、曝光工程及显影工程的基板处理方法。
技术介绍
在制造有机发光显示装置之类的显示装置时大致可执行在基板上涂布药液、曝光、显影的工程。该情况下，可根据所述显示装置的类型对具有多种大小的多种基板执行涂布工程、曝光工程及显影工程。然而，存在对具有多种大小的基板执行所述涂布工程、所述曝光工程及所述显影工程而需要对具有多种大小的基板分别利用另外的制造装置的问题。
技术实现思路
技术问题本专利技术的一个目的是提供能够处理具有多种大小的基板的单一的基板处理装置。本专利技术的另一目的是提供能够使用所述单一的基板处理装置对具有多种大小的基板执行的包括涂布工程、曝光工程及显影工程的基板处理方法。技术方案根据本专利技术的一个方面，提供一种单一的基板处理装置。所述单一的基板处理装置可包括用于清洗一个第一板或从所述一个第一板分割得到的多个第二板的清洗腔；用于干燥所述一个第一板或所述多个第二板的干燥腔；用于向所述一个第一板或所述多个第二板上涂布药液的涂布腔；用于对被涂布所述药液的一个第一板或被涂布所述药液的多个第二板曝光的曝光腔；用于对被涂布所述药液的一个第一板或被涂布所述药液的多个第二板显影的显影腔；以及用于整齐排列所述一个第一板或所述多个第二板的整齐排列装置。在例示性实施例中，所述涂布腔可具有用于保持所述一个第一板或所述多个第二板的侧部的夹钳，所述一个第一板或所述多个第二板在所述涂布腔内通过所述夹钳浮在涂布工作台的上部，被移送的同时所述药液可涂布到所述一个第一板或所述多个第二板上。该情况下，用于保持所述多个第二板的侧部的夹钳的数量可以比用于保持所述一个第一板的侧部的夹钳的数量大两倍以上。在例示性实施例中，所述干燥腔可包括用于配置所述一个第一板或所述多个第二板的真空干燥工作台；用于支撑所述一个第一板的背面的第一支撑销；以及用于支撑所述多个第二板的第二支撑销。所述第一支撑销可排列成相隔预设距离的多个列，邻接的第一支撑销可以以第一间隔可彼此相隔。所述第二支撑销可排列成邻接于所述第一支撑销的列，或位于所述第一支撑销的列之间的多个列，邻接的第二支撑销可以以第二间隔相隔。在部分例示性实施例中，所述干燥腔还可以包括用于配置所述一个第一板或所述多个第二板的烘干工作台；用于支撑所述一个第一板的背面的第三支撑销；以及用于支撑所述多个第二板的第四支撑销。所述第三支撑销可排列成以第一距离相隔的多个列，所述第四支撑销可排列成邻接于所述第三支撑销的列，或位于所述第三支撑销的列之间的多个列。在例示性实施例中，所述整齐排列装置可包括用于配置所述一个第一板的整齐排列工作台；以及用于将所述一个第一板整齐排列在所述整齐排列工作台上的所需位置的第一推动部件及第二推动部件。所述第一推动部件及第二推动部件可配置在所述整齐排列工作台的对应的角部分上，所述第一推动部件及第二推动部件可推动向所述一个第一板的对角线方向对应的角部分以将所述一个第一板整齐排列在所述整齐排列工作台上的所述所需位置。在部分例示性实施例中，所述整齐排列装置可包括用于配置所述多个第二板的整齐排列工作台；用于将所述多个第二板整齐排列在所述整齐排列工作台上的所需位置的第一推动部件及第二推动部件；以及用于保持所述多个第二板的整齐排列的整齐排列保持部件。所述第一推动部件及第二推动部件可配置在所述整齐排列工作台的对应的角部分上，所述整齐排列保持部件可配置在所述整齐排列工作台的中央部上，所述第一推动部件及第二推动部件可向所述整齐排列保持部件推动向所述多个第二板的对角线方向对应的角部分使得所述多个第二板整齐排列于所述整齐排列工作台上的所述所需位置。根据本专利技术的另一方面，提供一种利用包括清洗腔、干燥腔、涂布腔、曝光腔及显影腔的单一的基板处理装置的基板处理方法。在所述基板处理方法中，在一个第一板被移送到所述涂布腔内时可对所述一个第一板执行涂布工程，从所述第一板分割得到的多个第二板被移送到所述涂布腔时可将所述多个第二板挨个投入到所述涂布腔内，并对所述多个第二板连续地执行所述涂布工程。所述一个第一板被移送到所述曝光腔内时可对所述一个第一板执行曝光工程，所述多个第二板被移送到所述曝光腔时可对所述多个第二板同时执行所述曝光工程。一个第一板被移送到所述显影腔内时可对所述一个第一板执行显影工程，所述多个第二板被移送到所述显影腔时可将所述多个第二板挨个投入到所述显影腔内，并对所述多个第二板连续执行所述显影工程。在例示性实施例中，可以通过用于保持所述一个第一板或所述多个第二板的侧部的夹钳将所述一个第一板或所述多个第二板浮在涂布工作台的上部，并在移送的同时对所述一个第一板或所述多个第二板执行所述涂布工程。在例示性实施例中，执行所述曝光工程的步骤之前还可以执行在所述干燥腔内执行干燥工程以从涂布到所述一个第一板或所述多个第二板上的药液去除溶剂的步骤。所述一个第一板被移送到所述干燥腔内时可对所述一个第一板执行所述干燥工程，所述多个第二板被移送到所述干燥腔时可对所述多个第二板同时执行所述干燥工程。在例示性实施例中，所述干燥工程可具有对所述一个第一板或所述多个第二板依次执行的真空干燥工程及烘干工程。在例示性实施例中，执行所述涂布工程的步骤之前还可以在所述清洗腔内对所述一个第一板或所述多个第二板执行清洗工程。所述一个第一板被移送到所述清洗腔内时可对所述一个第一板执行所述清洗工程，所述多个第二板被移送到所述清洗腔时可以将所述多个第二板挨个投入到所述清洗腔内，并对所述多个第二板连续执行所述清洗工程。在例示性实施例中，执行所述显影工程的步骤之后可以在所述干燥腔内对所述一个第一板或所述多个第二板执行干燥工程。所述一个第一板被移送到所述干燥腔内时可对所述一个第一板执行所述干燥工程，所述多个第二板被移送到所述干燥腔时可对所述多个第二板同时执行所述干燥工程。在部分例示性实施例中，所述单一的基板处理装置还可以包括整齐排列装置，所述基板处理方法还可以包括利用所述整齐排列装置在所述清洗工程、所述干燥工程、所述涂布工程、所述曝光工程、所述显影工程及所述干燥工程之间对所述一个第一板或所述多个第二板执行整齐排列工程的步骤。根据本专利技术的又一方面，提供一种利用包括清洗腔、干燥腔、涂布腔、曝光腔及显影腔的单一的基板处理装置的基板处理方法。在所述基板处理方法中，一个第一板被移送到所述清洗腔内时可对所述一个第一板执行所述清洗工程，两个第二板被移送到所述清洗腔时可以将所述两个第二板挨个投入到所述清洗腔内，并对所述两个第二板连续执行所述清洗工程。一个第一板被移送到所述涂布腔内时可执行向所述一个第一板上涂布药液的涂布工程，从所述第一板分割得到的两个第二板被移送本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种单一的基板处理装置，其特征在于，包括：/n清洗腔，其用于清洗一个第一板或从所述一个第一板分割得到的多个第二板；/n干燥腔，其用于干燥所述一个第一板或所述多个第二板；/n涂布腔，其用于向所述一个第一板或所述多个第二板上涂布药液；/n曝光腔，其用于对被涂布所述药液的一个第一板或被涂布所述药液的多个第二板曝光；/n显影腔，其用于对被涂布所述药液的一个第一板或被涂布所述药液的多个第二板显影；以及/n整齐排列装置，其用于整齐排列所述一个第一板或所述多个第二板。/n

【技术特征摘要】
20190627 KR 10-2019-00767761.一种单一的基板处理装置，其特征在于，包括：
清洗腔，其用于清洗一个第一板或从所述一个第一板分割得到的多个第二板；
干燥腔，其用于干燥所述一个第一板或所述多个第二板；
涂布腔，其用于向所述一个第一板或所述多个第二板上涂布药液；
曝光腔，其用于对被涂布所述药液的一个第一板或被涂布所述药液的多个第二板曝光；
显影腔，其用于对被涂布所述药液的一个第一板或被涂布所述药液的多个第二板显影；以及
整齐排列装置，其用于整齐排列所述一个第一板或所述多个第二板。


2.根据权利要求1所述的单一的基板处理装置，其特征在于：
所述涂布腔具有用于保持所述一个第一板或所述多个第二板的侧部的夹钳，所述一个第一板或所述多个第二板在所述涂布腔内通过所述夹钳浮在涂布工作台的上部，被移送的同时所述药液涂布到所述一个第一板或所述多个第二板上。


3.根据权利要求2所述的单一的基板处理装置，其特征在于：
用于保持所述多个第二板的侧部的夹钳的数量比用于保持所述一个第一板的侧部的夹钳的数量大两倍以上。


4.根据权利要求1所述的单一的基板处理装置，其特征在于，所述干燥腔包括：
真空干燥工作台，其用于配置所述一个第一板或所述多个第二板；
第一支撑销，其用于支撑所述一个第一板的里面；以及
第二支撑销，其用于支撑所述多个第二板。


5.根据权利要求4所述的单一的基板处理装置，其特征在于：
所述第一支撑销排列成相隔预设距离的多个列，邻接的第一支撑销以第一间隔彼此相隔。


6.根据权利要求5所述的单一的基板处理装置，其特征在于：
所述第二支撑销排列成邻接于所述第一支撑销的列，或位于所述第一支撑销的列之间的多个列，邻接的第二支撑销以第二间隔相隔。


7.根据权利要求4所述的单一的基板处理装置，其特征在于，所述干燥腔还包括：
烘干工作台，其用于配置所述一个第一板或所述多个第二板；
第三支撑销，其用于支撑所述一个第一板的背面；以及
第四支撑销，其用于支撑所述多个第二板。


8.根据权利要求7所述的单一的基板处理装置，其特征在于：
所述第三支撑销排列成以第一距离相隔的多个列，所述第四支撑销排列成邻接于所述第三支撑销的列，或位于所述第三支撑销的列之间的多个列。


9.根据权利要求1所述的单一的基板处理装置，其特征在于，所述整齐排列装置包括：
整齐排列工作台，其用于配置所述一个第一板；以及
第一推动部件及第二推动部件，其用于将所述一个第一板整齐排列在所述整齐排列工作台上的所需位置。


10.根据权利要求9所述的单一的基板处理装置，其特征在于：
所述第一推动部件及第二推动部件配置在所述整齐排列工作台的对应的角部分上，所述第一推动部件及第二推动部件推动向所述一个第一板的对角线方向对应的角部分以将所述一个第一板整齐排列在所述整齐排列工作台上的所述所需位置。


11.根据权利要求1所述的单一的基板处理装置，其特征在于，所述整齐排列装置包括：
整齐排列工作台，其用于配置所述多个第二板；
第一推动部件及第二推动部件，其用于将所述多个第二板整齐排列在所述整齐排列工作台上的所需位置；以及
整齐排列保持部件，其用于保持所述多个第二板的整齐排列。


12.根据权利要求11所述的单一的基板处理装置，其特征在于：
所述第一推动部件及第二推动部件配置在所述整齐排列工作台的对应的角部分上，所述整齐排列保持部件配置在所述整齐排列工作台的中央部上，所述第一推动部件及第二推动部件向所述整齐排列保持部件推动向所述多个第二板的对角线方向对应的角部分使得所述多个第二板整齐排列于所述整齐排列工作台上的所述所需位置。


13.一种基板处理方法，其利用包括清洗腔、干燥腔、涂布腔、曝光腔及显影腔的单一的基板处理装置，其特征在于，包括：
一个第一板被移送到所述涂布腔内时对所述一个第一板执行涂布工程，从所述第一板分割得到的多个第二板被移送到所述涂布腔...

【专利技术属性】
技术研发人员：玄宰一，朴奇洪，朱宰成，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR