一种通过带电粒子束扫描工件的方法技术

一种通过带电粒子束扫描工件的方法，包括以下步骤：将工件安装在通过带电粒子束扫描工件的扫描系统上；通过所述带电粒子束沿始于和结束于所述工件上基本上相同位置的圆形路径对所述工件执行第一扫描运动；通过带电粒子束沿从工件上不同位置开始和结束的非圆路径对工件进行第二次扫描。

【技术实现步骤摘要】
一种通过带电粒子束扫描工件的方法
本专利技术涉及使用气体团簇离子束(GCIB)辐照衬底的系统和方法，更具体地说，涉及一种用于通过GCIB扫描衬底的改进的设备、系统和方法。
技术介绍
带电粒子尤其是气体团簇离子束(GCIB)用于掺杂、蚀刻、清洗、平滑以及在衬底上生长或沉积层。在本讨论中，气体团簇是在标准温度和压力条件下气态的材料的纳米级聚集物。这种气体团簇可能由包括几个到几千个或更多松散结合在一起的分子的聚集物组成。这些气体团簇可以被电子轰击电离，从而使这些气体团簇形成具有可控制能量的定向束。这些簇离子通常都带有正电荷，由电子电荷的大小和一个大于或等于代表簇离子电荷状态的整数的乘积给出。大尺寸的团簇离子通常是最有用的，因为它们能够携带大量的能量每个团簇离子，而每个分子只有适度的能量。离子团簇在与衬底的冲击下分解。在一个特定的分解离子团簇中，每个单独的分子只携带团簇总能量的一小部分。因此，大离子团簇的影响是实质性的，但仅限于一个非常浅的表面区域。这使得气簇离子能够有效地用于各种表面改性过程，但不会像常规离子束处理那样产生更深的次表面损伤。相本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种通过带电粒子束扫描工件的方法，其特征是，包括以下步骤：将工件安装在通过带电粒子束扫描工件的扫描系统上；通过所述带电粒子束沿始于和结束于所述工件上基本上相同位置的圆形路径对所述工件执行第一扫描运动；通过带电粒子束沿从工件上不同位置开始和结束的非圆路径对工件进行第二次扫描。/n

【技术特征摘要】
1.一种通过带电粒子束扫描工件的方法，其特征是，包括以下步骤：将工件安装在通过带电粒子束扫描工件的扫描系统上；通过所述带电粒子束沿始于和结束于所述工件上基本上相同位置的圆形路径对所述工件执行第一扫描运动；通过带电粒子束沿从工件上不同位置开始和结束的非圆路径对工件进行第二次扫描。


2.根据权利要求1的所述的方法，其特征是，带电粒子束包括气体簇离子束(GCIB)。


3.根据权利要求1的所述的方法，其特征是，圆形路径沿工件的外围边缘区域延伸。


4.根据权利要求1的所述的方法，其特征是，其中的非圆形路径延伸沿直线或弧形路径跨越工件。


5.一种用气体团簇离子束(GCIB)处理衬底的方法，其特征是，包括以下步骤：
将所述衬底安装在衬底与所述GCIB相交或邻近所述GCIB的位置的传输系统上；
利用衬底的旋转运动，确定GCIB工艺参数且去除衬底接近于衬底的边缘的一部分；使用传输系统和工艺参数使衬底围绕GCIB旋转移动，去除使用GCIB的所述接近于衬底的边缘衬底部分。


6.权利要求5的方法，其中工艺参数包括以下一个或多个：多次扫描；扫描间隔；扫描速度；扫描起始半径；扫描结束半径。


7.根据权利要求5所述的方法，其特征是，其中衬底的移动包括：
将衬底靠近GCIB，使GCIB位于或位于起始半径内；
改变衬底的旋转运动，至少部分地基于衬底的厚度剖面；
当GCIB位于末端(结束)半径时，从衬底中分离GCIB。


8.根据权利要求5所述的方法，其特征是，其中工艺参数至少部分基于基材...

【专利技术属性】
技术研发人员：曹路，刘翊，张同庆，
申请(专利权)人：江苏集创原子团簇科技研究院有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32