【技术实现步骤摘要】
一种双模输入抗单粒子效应的SRAM快速读出电路结构
本专利技术涉及抗辐照电路设计
,具体为一种双模输入抗单粒子效应的SRAM快速读出电路结构。
技术介绍
由于静态随机存储器SRAM具有可靠性好、速度快、功耗小的特性,使其在存储器中占有举足轻重的地位。因此SRAM大面积的应用在微处理器、片上系统、数字信号处理器中,而SRAM由于较小的临界电荷,在辐射环境下很容易受到辐射效应的影响,因此对SRAM存储器的抗辐射加固是IC设计首要考虑的重要问题之一。单粒子翻转(SEU)和单粒子瞬态(SET)是最主要的两种单粒子效应,前者是指由于单粒子辐射引起电路的逻辑状态发生翻转,不会导致器件永久性的损坏,故也被称为软错误。SEU主要发生在时序逻辑电路中;后者是由于单粒子辐射引起电路的信号发生瞬间的变化,其主要发生在组合逻辑电路中。本专利技术主要针对存储器读出电路部分进行加固设计,在提高SRAM抗SEU和SET的能力的同时缩短数据读出的时间。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种双模输入抗单粒子效应的SRA ...
【技术保护点】
1.一种双模输入抗单粒子效应的SRAM快速读出电路结构,包括两个灵敏放大器,其特征在于:两个所述灵敏放大器均包括十六个NCMOS管和十六个PCMOS管,两个所述灵敏放大器分别是SA0、SA1,十六个所述NMOS晶体管依次是N0~N15,十六个所述PMOS晶体管依次是P0~P15。/n
【技术特征摘要】
1.一种双模输入抗单粒子效应的SRAM快速读出电路结构,包括两个灵敏放大器,其特征在于:两个所述灵敏放大器均包括十六个NCMOS管和十六个PCMOS管,两个所述灵敏放大器分别是SA0、SA1,十六个所述NMOS晶体管依次是N0~N15,十六个所述PMOS晶体管依次是P0~P15。
2.根据权利要求1所述的一种双模输入抗单粒子效应的SRAM快速读出电路结构,其特征在于:所述灵敏放大器SA0与P14、N14连接,SA1与P15、N15连接,灵敏放大器的输出端连接有八管DICE锁存单元。
3.根据权利要求2所述的一种双模输入抗单粒子效应的SRAM快速读出电路结构,其特征在于:所述锁存单元中包含有PMOS晶体管P0、P1、P2、P3和NMOS晶体管N0、N1、N2、N3,所述锁存单元的两端QI1、QI2分别连接有读出单元。
4.根据权利要求1所述的一种双模输入抗单粒子效应的SRAM快速读出电路结构,其特征在于:数据输入1经过灵敏放大器SA0与一个PMOS晶体管P14和一个NMOS晶体管N14相连,组成第一路数据输入通路。
5.根据权利要求1所述的一种双模输入抗单粒子效应的SRAM快速读出电路结构,其特征在于:另一组数据输入2经过灵敏放大器SA1与一个PMOS晶体管P15和一个NMOS晶体管N15相连,组成第二路数据输入通路。
6.根据权利要求1所述的一种双模输入抗单粒子效应的SRAM快速读出电路结构,其特征在于:所...
【专利技术属性】
技术研发人员:沈婧,陈玉蓉,薛海卫,张猛华,强小燕,陈振娇,
申请(专利权)人:中国电子科技集团公司第五十八研究所,
类型:发明
国别省市:江苏;32
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。