立方体及其制造方法技术

一种制造立方体的方法，包括步骤：　　　　进行多层涂敷过程，以在一棱镜上形成多层涂层；　　　　进行接触层涂敷过程，以在所述多层涂层顶部形成一接触层涂层；以及　　　　将所述棱镜与一无涂层棱镜组合。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
专利技术
技术介绍
领域本专利技术涉及一种。
技术介绍
通常，为了制造偏振立方体或分束立方体，使具有涂层(例如介质堆)的棱镜与无涂层的棱镜光学接触(例如，胶合)。在使棱镜光学接触时必须考虑多个参数，以保证它们保持粘合，并且具有一定程度的光学相容性。相容要保证光在胶合表面之间传播时产生最少量的反射。对于为使用较短光波长〔例如，真空紫外(VUV)和深紫外(DUV)光〕的系统制造的立方体而言，粘接和反射问题更加常见。在用于VUV和DUV系统的立方体的情形中，由于性能原因，能用于制造立方体的材料非常有限，并且一般不能光学接触。为了调合这个问题，对于DUV应用必须保持严格的环境参数，与当前接触技术不同。为了克服这些问题，已经研究出各种类型的接触方法。不过，这些方法产生其他问题，如可显著降低系统效果的低输出。例如，在光刻系统中，输出光太弱以至于不能将图案写到基板上。从而，需要一种制造可用于任何光波长的立方体的方法，其中所胶合的棱镜牢固地光学接触，并且光学相容，基本上消除了胶合面之间的所有反射，并增加使用该立方体的系统中光的输出。
技术实现思路
本专利技术的一实施例提供一种制造立方体的方法。该方法包括进行多本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：萨马德·M·埃德洛，戴维·H·彼得森，
申请(专利权)人：ASML控股股份有限公司，
类型：发明
国别省市：