集成电路接地孔和信号连接压点的引出制备方法及结构技术

本发明专利技术适用于半导体技术领域，提供了一种集成电路接地孔和信号连接压点的引出制备方法及结构，该方法包括：通过在完成正面工艺的圆片上表面制备BCB层，刻蚀BCB层，露出接地孔压点和信号连接压点；在刻蚀BCB层后的圆片上表面制备电镀层；在电镀层上淀积保护层，并刻蚀掉锡球凸点位置对应的保护层区域内的保护介质；在锡球凸点位置上制备UBM层，并在UBM层上制备锡球，从而可以达到将接地孔压点和信号连接压点从芯片表面引出的目的，并制备凸点锡球，从而满足倒装焊技术使用要求，与传统GaAs芯片接地孔布局形式相比，本实施例从上表面引出接地孔的方式更加灵活、使用性更强，从而可以在高密度电子封装领域上得以应用。

【技术实现步骤摘要】
集成电路接地孔和信号连接压点的引出制备方法及结构
本专利技术属于半导体
，尤其涉及一种集成电路接地孔和信号连接压点的引出制备方法及结构。
技术介绍
倒装焊技术，又称为倒扣焊技术，是指IC芯片面朝下与其它芯片、封装外壳或布线基板等直接互连的一种技术。由于倒装焊技术使芯片和封装间通过焊球连接，省去了引线连接，在芯片和封装间形成最短的连接通路，从而更好的迎合了微电子封装技术追求的更高密度、更小尺寸、更快处理速度、更高可靠性和更经济的发展趋势。GaAs集成电路以优异的芯片性能在电子产品中获得更多青睐，然而目前的GaAs芯片的接地孔和信号连接压点的结构形式，导致在倒装焊等高密度电子封装应用上增加了难度。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术实施例提供了一种集成电路接地孔和信号连接压点的引出制备方法及结构，旨在解决现有技术中GaAs芯片的接地孔和信号连接压点的结构形式，封装难度增加大的问题。为实现上述目的，本专利技术实施例的第一方面提供了一种集成电路接地孔和信号连接压点的引出制备方法，包括：在完成正面工艺的圆片上表面制备BCB层，所述圆片上表面包括接地孔压点和信号连接压点；刻蚀所述BCB层，露出所述接地孔压点和所述信号连接压点；在刻蚀所述BCB层后的圆片上表面制备电镀层；在所述电镀层上淀积保护层，并刻蚀掉锡球凸点位置对应的保护层区域内的保护介质；在所述锡球凸点位置上制备UBM层，并在所述UBM层上制备锡球。作为本申请另一实施例，所述在完成正面工艺的圆片上表面制备BCB层，包括：在完成正面工艺的圆片上表面涂覆BCB形成BCB层，并固化所述BCB层；在固化的BCB层上淀积掩膜介质形成掩膜层；采用干法刻蚀方式刻蚀所述掩膜层，刻蚀掉所述接地孔压点和所述信号连接压点分别对应的掩膜层区域内的掩膜介质。作为本申请另一实施例，所述刻蚀所述BCB层，包括：采用所述掩膜层直接刻蚀所述BCB层；在所述刻蚀所述BCB层之后，还包括：采用BOE将掩膜层剩余的掩膜介质去掉。作为本申请另一实施例，所述BCB层的厚度为21μm～22μm。作为本申请另一实施例，所述掩膜介质为SiO2。作为本申请另一实施例，所述在刻蚀所述BCB层后的圆片上表面制备电镀层，包括：在刻蚀所述BCB层后的圆片上涂光刻胶，曝光显影后通过溅射及电镀工艺制备电镀层；所述曝光显影后光刻胶覆盖区域为圆片上电镀层的区域之间的隔离区域；去除剩余的光刻胶。作为本申请另一实施例，所述电镀层采用的材料为Au；所述保护层对应的保护介质为氮化硅。作为本申请另一实施例，所述在所述锡球凸点位置上制备UBM层，并在所述UBM层上制备锡球，包括：在刻蚀氮化硅层后的圆片上表面溅射UBM层；在所述UBM层上涂光刻胶，曝光显影后刻蚀掉除所述锡球凸点位置之外的UBM层对应的金属；在所述锡球凸点位置对应的UBM层上电镀锡柱；去除剩余的光刻胶；对圆片加温，使所述锡柱形成锡球。作为本申请另一实施例，所述锡柱的高度为40μm～55μm；所述对圆片加温，使所述锡柱形成锡球，包括：对圆片加温到300℃，并持续2min，使所述锡柱熔化并回流形成锡球。本专利技术实施例的第二方面提供了一种集成电路接地孔和信号连接压点的引出结构，包括：在衬底上设置接地孔压点和信号连接压点；所述衬底上表面的裸露区域、所述接地孔压点的第一预设区域和所述信号连接压点的第一预设区域上设置预设厚度的BCB，在所述BCB上表面的第一预设区域、所述接地孔压点的第二预设区域和所述信号连接压点的第二预设区域设置电镀层，在所述电镀层上表面的第一预设区域以及所述BCB上表面的第二预设区域设置保护层，在所述电镀层上表面的第二预设区域设置UBM层，在所述UBM层设置锡球；其中，所述接地孔压点的第一预设区域和所述接地孔压点的第二预设区域构成所述接地孔压点的完整上表面，所述信号连接压点的第一预设区域和所述信号连接压点的第二预设区域构成所述信号连接压点的完整上表面，所述BCB上表面的第一预设区域和所述BCB上表面的第二预设区域构成所述BCB的完整上表面，所述电镀层上表面的第一预设区域和所述电镀层上表面的第二预设区域构成所述电镀层的完整上表面。本专利技术实施例与现有技术相比存在的有益效果是：与现有技术相比，本专利技术通过在完成正面工艺的圆片上表面制备BCB层，刻蚀所述BCB层，露出所述接地孔压点和所述信号连接压点；在刻蚀所述BCB层后的圆片上表面制备电镀层；在所述电镀层上淀积保护层，并刻蚀掉锡球凸点位置对应的保护层区域内的保护介质；在所述锡球凸点位置上制备UBM层，并在所述UBM层上制备锡球，从而可以达到将接地孔压点和信号连接压点从芯片表面引出的目的，并制备凸点锡球，从而满足倒装焊技术使用要求，与传统GaAs芯片接地孔布局形式相比，本实施例从上表面引出接地孔的方式更加灵活、使用性更强，从而可以在高密度电子封装领域上得以应用。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本专利技术实施例提供的集成电路接地孔和信号连接压点的引出制备方法的实现流程示意图；图2是本专利技术实施例提供的完成正面工艺的圆片的示意图；图3是本专利技术实施例提供的涂覆BCB后结构的示意图；图4是本专利技术实施例提供的BCB层刻蚀完成示意图；图5是本专利技术实施例提供的电镀层的示意图；图6是本专利技术实施例提供的氮化硅层的示意图；图7是本专利技术实施例提供的锡球示意图。具体实施方式以下描述中，为了说明而不是为了限定，提出了诸如特定系统结构、技术之类的具体细节，以便透彻理解本专利技术实施例。然而，本领域的技术人员应当清楚，在没有这些具体细节的其它实施例中也可以实现本专利技术。在其它情况中，省略对众所周知的系统、装置、电路以及方法的详细说明，以免不必要的细节妨碍本专利技术的描述。为了说明本专利技术所述的技术方案，下面通过具体实施例来进行说明。图1为本专利技术实施例提供的集成电路接地孔和信号连接压点的引出制备方法的实现流程示意图，详述如下。步骤101，在完成正面工艺的圆片上表面制备BCB层，所述圆片上表面包括接地孔压点和信号连接压点。如图2所示的完成正面工艺的圆片，其中，1所在区域表示GaAs，2所在区域表示接地孔压点，3所在区域表示信号连接压点。可选的，如图3所示，本步骤中在完成正面工艺的圆片上表面涂覆BCB形成BCB层，并固化所述BCB层；在固化的BCB层上淀积掩膜介质形成掩膜层；采用干法刻蚀方式刻蚀所述掩膜层，刻蚀掉所述接地孔压点和所述信号连接压点分别对应的掩膜层区域内的掩膜介本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种集成电路接地孔和信号连接压点的引出制备方法，其特征在于，包括：/n在完成正面工艺的圆片上表面制备BCB层，所述圆片上表面包括接地孔压点和信号连接压点；/n刻蚀所述BCB层，露出所述接地孔压点和所述信号连接压点；/n在刻蚀所述BCB层后的圆片上表面制备电镀层；/n在所述电镀层上淀积保护层，并刻蚀掉锡球凸点位置对应的保护层区域内的保护介质；/n在所述锡球凸点位置上制备UBM层，并在所述UBM层上制备锡球。/n

【技术特征摘要】
1.一种集成电路接地孔和信号连接压点的引出制备方法，其特征在于，包括：
在完成正面工艺的圆片上表面制备BCB层，所述圆片上表面包括接地孔压点和信号连接压点；
刻蚀所述BCB层，露出所述接地孔压点和所述信号连接压点；
在刻蚀所述BCB层后的圆片上表面制备电镀层；
在所述电镀层上淀积保护层，并刻蚀掉锡球凸点位置对应的保护层区域内的保护介质；
在所述锡球凸点位置上制备UBM层，并在所述UBM层上制备锡球。


2.如权利要求1所述的集成电路接地孔和信号连接压点的引出制备方法，其特征在于，所述在完成正面工艺的圆片上表面制备BCB层，包括：
在完成正面工艺的圆片上表面涂覆BCB形成BCB层，并固化所述BCB层；
在固化的BCB层上淀积掩膜介质形成掩膜层；
采用干法刻蚀方式刻蚀所述掩膜层，刻蚀掉所述接地孔压点和所述信号连接压点分别对应的掩膜层区域内的掩膜介质。


3.如权利要求2所述的集成电路接地孔和信号连接压点的引出制备方法，其特征在于，所述刻蚀所述BCB层，包括：
采用所述掩膜层直接刻蚀所述BCB层；
在所述刻蚀所述BCB层之后，还包括：
采用BOE将掩膜层剩余的掩膜介质去掉。


4.如权利要求1-3中任一项所述的集成电路接地孔和信号连接压点的引出制备方法，其特征在于，所述BCB层的厚度为21μm～22μm。


5.如权利要求2或3所述的集成电路接地孔和信号连接压点的引出制备方法，其特征在于，所述掩膜介质为SiO2。


6.如权利要求1-3中任一项所述的集成电路接地孔和信号连接压点的引出制备方法，其特征在于，所述在刻蚀所述BCB层后的圆片上表面制备电镀层，包括：
在刻蚀所述BCB层后的圆片上涂光刻胶，曝光显影后通过溅射及电镀工艺制备电镀层；所述曝光显影后光刻胶覆盖区域为圆片上电镀层的区域之间的隔离区域；
去除剩余的光刻胶。


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【专利技术属性】
技术研发人员：廖龙忠，谭永亮，高渊，胡泽先，付兴中，张力江，
申请(专利权)人：中国电子科技集团公司第十三研究所，
类型：发明
国别省市：河北;13