抗辐射导电光学防护膜制造技术

抗辐射导电光学防护膜，它涉及一种在光学器件表面使用的防护膜。现有防护膜在长期接受空间辐射环境作用后，光谱透过率明显下降，且当航天器遇磁层亚暴环境时，表面被充电，当放电脉冲耦合进入电子系统时造成航天器故障。本发明专利技术的各成分按重量份数计：无水乙醇１～４份，乙酰丙酮２～６份，甲酰胺０．０２～１份，盐酸０．０１～３份，Ｉｎ（ＮＯ↓［３］）↓［３］０．０００１～０．００１份，ＳｎＣｌ↓［４］０．００００１～０．０００４份，Ｃｅ（ＮＯ↓［３］）↓［３］０．０００２～０．００４份，ＬａＣｌ↓［３］０．０００３～０．００５份。本发明专利技术利用Ｃｅ、Ｌａ、Ｓｎ、Ｉｎ元素特性制备的多元素氧化物复合膜，具有高的导电性能、抗辐射性能和光学性能稳定性，在可见及近红外区的光谱透过率达到９２％以上。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种在光学器件表面使用的防护膜。
技术介绍
光学系统是航天器的重要有效载荷。在空间环境因素作用下，光学器件的表面性能将发生退化，从而导致整个系统的性能显著下降。因此，对光学表面进行主动防护是提高航天器可靠性和寿命的重要途径之一。目前，国内外多采用SiO2、MgF2、LiF等晶体薄膜作为空间光学表面的保护膜，这些薄膜的优点在于光谱透过性能好，对光学表面起到良好的保护作用。但在长期接受空间辐射环境作用后，这些薄膜会着色，光谱透过率明显下降。此外，航天器中，许多器件如太阳电池盖片以及电缆外套等，当航天器遇磁层亚暴环境时，表面被充电，当充电电位达到一定值时，就会发生击穿而放电。放电脉冲耦合进入电子系统时造成航天器故障。所以现在在航天器上就需要一种导电性好、光谱透过率高的防护膜；即使是普通器件的防护膜，由于防辐射和防静电效果不好，也存在影响使用寿命等弊端。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种在光学器件表面使用的导电性好且光谱透过率高的防护膜，本专利技术的防护膜的原料成分包括无水乙醇、乙酰丙酮、甲酰胺和盐酸，它的成分中还包括In(NO3)3、SnCl4、Ce(NO3)3和La本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抗辐射导电光学防护膜，它的原料成分包括无水乙醇、乙酰丙酮、甲酰胺和盐酸，其特征在于它的成分中还包括Ｉｎ（ＮＯ↓［３］）↓［３］、ＳｎＣｌ↓［４］、Ｃｅ（ＮＯ↓［３］）↓［３］和ＬａＣｌ↓［３］，以上各成分按重量份数计：无水乙醇１～４份，乙酰丙酮２～６份，甲酰胺０．０２～１份，盐酸０．０１～３份，Ｉｎ（ＮＯ↓［３］）↓［３］０．０００１～０．００１份，ＳｎＣｌ↓［４］０．００００１～０．０００４份，Ｃｅ（ＮＯ↓［３］）↓［３］０．０００２～０．００４份，ＬａＣｌ↓［３］０．０００３～０．００５份。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张丽新，何世禹，杨德庄，魏强，赵丹，
申请(专利权)人：哈尔滨工业大学，
类型：发明
国别省市：93[中国|哈尔滨]