用于处理基板的装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种用于处理基板的装置，其包括：处理容器，在所述处理容器中具有处理空间；基板支承单元，所述基板支承单元支承所述处理空间中的所述基板；以及液体分配单元，所述液体分配单元将处理液体分配到放置在所述基板支承单元上的所述基板上。液体分配单元包括处理液体管，所述处理液体流动通过所述处理液体管；恒温水管，恒温水流动通过所述恒温水管，并且所述恒温水管围绕所述处理液体管，其中所述恒温水将流动通过所述处理液体管的所述处理液体维持在设定温度；恒温水供应管，所述恒温水供应管将所述恒温水供应至所述恒温水管；和活化构件，所述活化构件安装在所述恒温水供应管中并且活化所述恒温水中的离子。

【技术实现步骤摘要】
用于处理基板的装置相关申请的交叉引用本专利技术要求2019年6月11日提交韩国知识产权局的第10-2019-0068587号韩国专利申请的优先权，该韩国专利申请的全部内容通过引用整体并入本文。
本文描述的专利技术构思的实施方案涉及一种用于使用液体处理基板的装置，且更具体地，涉及一种用于将液体分配到基板上的装置。
技术介绍
在基板上执行各种工艺以制造半导体元件。在各种工艺中，在基本工艺中包括在基板上形成图案的光刻工艺。光刻工艺包括利用诸如光刻胶的光敏液体涂覆基板的涂覆工艺、通过使基板上的光敏液体曝光以形成图案的曝光工艺以及使图案显影的显影工艺。在涂覆工艺中将光敏液体施用均匀厚度或设定厚度是非常重要的，并且厚度和均匀性受温度的影响很大。因此，设置用于均匀地维持或调节光敏液体温度的恒温水管，以围绕光敏液体供应管线，通过该光敏液体供应管线供应光敏液体。通常，纯净的水用作恒温水，以节省成本并保持稳定性。然而，纯净水具有腐蚀金属管的致命缺点，并且金属管的腐蚀导致恒温水的泄漏，这导致光敏液体和周围装置的污染。专本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于处理基板的装置，所述装置包括：/n处理容器，在所述处理容器中具有处理空间；/n基板支承单元，所述基板支承单元配置为支承所述处理空间中的所述基板；和/n液体分配单元，所述液体分配单元配置为将处理液体分配到放置在所述基板支承单元上的所述基板上，/n其中，所述液体分配单元包括：/n处理液体管，所述处理液体流动通过所述处理液体管；/n恒温水管，恒温水流动通过所述恒温水管，所述恒温水管配置为围绕所述处理液体管，其中所述恒温水将流动通过所述处理液体管的所述处理液体维持在设定温度；/n恒温水供应管，所述恒温水供应管配置为将所述恒温水供应至所述恒温水管；和/n活化构件，所述活化构件安装在所述恒温水...

【技术特征摘要】
20190611 KR 10-2019-00685871.一种用于处理基板的装置，所述装置包括：
处理容器，在所述处理容器中具有处理空间；
基板支承单元，所述基板支承单元配置为支承所述处理空间中的所述基板；和
液体分配单元，所述液体分配单元配置为将处理液体分配到放置在所述基板支承单元上的所述基板上，
其中，所述液体分配单元包括：
处理液体管，所述处理液体流动通过所述处理液体管；
恒温水管，恒温水流动通过所述恒温水管，所述恒温水管配置为围绕所述处理液体管，其中所述恒温水将流动通过所述处理液体管的所述处理液体维持在设定温度；
恒温水供应管，所述恒温水供应管配置为将所述恒温水供应至所述恒温水管；和
活化构件，所述活化构件安装在所述恒温水供应管中并且配置为活化所述恒温水中的离子。


2.根据权利要求1所述的装置，其中，所述恒温水供应管包括：
上游侧供应管，所述上游侧供应管配置为连接恒温水源和所述活化构件；和
下游侧供应管，所述下游侧供应管配置为连接所述恒温水管和所述活化构件，并且
其中，所述活化构件为从所述上游侧供应管和所述下游侧供应管可拆卸的。


3.根据权利要求2所述的装置，其中，所述活化构件包括：
金属管；和...

【专利技术属性】
技术研发人员：金大城，朴恩雨，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR