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本发明涉及一种用于处理基板的装置，其包括：处理容器，在所述处理容器中具有处理空间；基板支承单元，所述基板支承单元支承所述处理空间中的所述基板；以及液体分配单元，所述液体分配单元将处理液体分配到放置在所述基板支承单元上的所述基板上。液体分配单...
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