导电抗反射涂层制造技术

技术编号:2669031 阅读:225 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及一种导电抗反射涂层,该涂层带有常规的、夹在两个四分之一波长低折射层中间的半波长高折射层,其中高折射半波长层形成导电层,并且对层材料进行选择以使折射率比值(高折射率/低折射率)在1.45和1.52之间,从而为抗反射涂层提供(较)宽的带宽。优选的,半波长导电高折射层包括氧化铟钛,以提供小于20Ω/sq的薄膜电阻。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于显示的高效抗反射涂层(HEA),并且特别是涉及一种具有最佳抗反射带宽的、导电的、抗反射涂层。
技术介绍
简单的抗反射(AR)涂层,比如1949年8月9号授权给Gaiser的第2,478,385号美国专利,和1965年5月25号授权给Thelen的第3,185,020号美国专利,这些专利里面涉及到的涂层包括安装在基片上的三层结构,其中高折射层被夹在两层低折射层中间,该高折射层的光学厚度为某一给定光带宽的中心波长的一半,该低折射层的光学厚度均为所述中心波长的四分之一。内层四分之一波长层折射率使基片和中间二分之一波长层匹配,同时外层四分之一波长层折射率使中间二分之一波长层和空气相匹配。上述结构就是所谓的QHQ结构。已经发展了对所述基本QHQ结构的改进,来提高QHQ结构的性能,例如1969年3月11号授权给Rock的第3,432,225号美国专利中,内层低折射、四分之一波长层被模拟的四分之一波长层代替,该模拟的四分之一波长层包括一层其光学厚度为中心波长的八分之一的高折射层和一层其光学厚度为中心波长的八分之一的低折射层。更多近来的研究进展包括基于各种原因给基本的QHQ本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种导电抗反射涂层,其为具有中心波长的光提供抗反射作用,包括:第一四分之一波长叠层,其光学厚度大致为所述中心波长的四分之一,所述第一四分之一波长叠层包含具有折射率的第一低折射层;二分之一波长叠层,其光学厚度大致为所述中心波长的二分之一,所述二分之一波长叠层包含第一高折射层,所述第一高折射层是透明的、导电的和具有折射率;第二四分之一波长叠层,其光学厚度大致为所述中心波长的四分之一,所述第二四分之一波长叠层包含具有折射率折射的第二低折射层;其中,所述第一高折射层的折射率和所述第一低折射层的折射率比值在1.45和1.55之间;并且其中,所述第一高折射层包括折射率在2.0和2.15之间的氧化铟钛ITi...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:和晃高野
申请(专利权)人:JDS尤尼弗思公司
类型:发明
国别省市:US[]

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