防反射构造体及包括该防反射构造体的光学装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种防反射构造体。扩散板具有形成有多个以所述规定 波长以下的周期规则地排列着的微小凹凸部的表面，该表面的表面粗糙度 大于所述规定波长。而且，该表面的粗糙形状的切面的法线矢量与该表面 的基准面的法线矢量所成的角度大小的平均值在5度以上。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种防反射构造体及包括该防反射构造体的光学装置。
技术介绍
近年来，提出有各种各样的表面施加了抑制光的反射的防反射处理的光学元件。能够列举出的防反射处理(例如特开2001-127852号公报)如下，在表面上形成由多层膜等构成的防反射膜，该防反射膜是例如折射率较低的膜(低折射率膜)、或者是低折射率膜与折射率较高的膜(高折射率膜)相互叠层而构成的多层膜。然而，在形成由这样的低折射率膜或多层膜构成的防反射膜时，需要蒸镀法、溅射法等复杂的工序。因此，问题就是生产性低，生产成本高。另一个问题是，由低折射率膜或多层膜构成的防反射膜，具有较大的波长依赖性和入射角依赖性。鉴于上述问题，有人提出例如在光学元件表面上以入射光波长以下的间隔规则地形成微小凹凸部这样的处理作为波长依赖性和入射角依赖性较小的防反射处理(例如，Daniel H.Raguin and G.Michael Morris，“Analysis of antireflection-structured surfaces with continuousone-dimensional surface profiles”，Ap本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种防反射构造体，用于抑制规定波长以上的光的反射，其特征在于：　　　　该防反射构造体包括形成有多个微小凹凸部的表面，该微小凹凸部以所述规定波长以下的周期规则地排列着，该表面构成为：它的表面粗糙度大于所述规定波长，且该表面的粗糙形状的切面的法线矢量与该表面的基准面的法线矢量所成的角度的平均值在５度以上。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：山田和宏，田村隆正，吉川智延，山口博史，石丸和彦，
申请(专利权)人：松下电器产业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP