具有可穿透的表面导电层的低电阻光衰减抗反射的涂层制造技术

本发明专利技术涉及一种具有可穿透的表面导电层的低电阻光衰减抗反射的涂层，该低电阻光衰减抗反射的涂层的多层结构为ＨＬ（ＨＬ）↓［６］Ｈ（Ｈ代表高折射率的物质、Ｌ代表低折射率的物质），其包括八个氧化物层，而该涂层的表层的物质为一可穿透的导电层和具有介于１．９到２．２的高折射率。本发明专利技术之涂层因为该表层有良好的导电特性，该具有可穿透的表面导电层的低电阻光衰减抗反射的涂层可以降低接地工艺所需的工作负荷和增加大量生产的合格率和可靠度，其可运用于液晶显示器或等离子显示器的玻璃基板或塑料基板上。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种具有高抗反射特性的涂层结构，特别是涉及一种具有可穿 透的表面导电层的低电阻光衰减抗反射的涂层。
技术介绍
通常在液晶显示器或等离子显示器的塑料基板(plastic substrate)、玻 璃基板(glass substrate)或塑料网板(plastic web)上，会加上一抗反射的涂 层结构，因此有众多的涂层结构已经被公开。美国专利U. S. 4， 921， 760公开一种在二氧化铈和合成数脂兼具有良好黏 着力的多层抗反射的涂层，该多层系统包括Ce02、 A1A、 Zr02、 Si02、 Ti02和 Ta205，该多层系统的所有薄膜层皆为氧化物，该多层系统包括有三到五层的薄 层，在一实施例中，该五层结构的总厚度约为3580埃，该多层系统的表层的 物质为Si02，其具有一低折射率，当波长为550nm时，折射率为1.46。美国专利U. S. 5， 105, 310公开一种使用反应式溅射而配置于同轴涂布机 器的多层抗反射的涂层，该多层系统包括Ti02、 Si02、 ZnO、 Zr02、和Ta205， 该多层系统的所有薄膜层皆为氧化物，该多层系统包括有四到六层的薄层，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有可穿透的表面导电层的低电阻光衰减抗反射的涂层，其特征在于，包括有：一基板；一第十五层，设置于该基板的一前表面，其由一高折射率的氧化物所构成，物理厚度介于２０ｎｍ和４０ｎｍ间；一第十四层，设置于该第十五层上，其 由一低折射率的金属物质所构成，物理厚度介于８ｎｍ和１２ｎｍ间；一第十三层，设置于该第十四层上，其由一高折射率的氧化物所构成，物理厚度介于３０ｎｍ和８０ｎｍ间；一第十二层，设置于该第十三层上，其由一低折射率的金属物质所构成，物 理厚度介于８ｎｍ和１２ｎｍ间；一第十一层，设置于该第十二层上，其由一高折射率的氧...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张正杰，
申请(专利权)人：智盛全球股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]