导电薄膜制造技术

本发明专利技术为一种导电薄膜，导电薄膜包括基板、硬涂层、第一折射层、第二折射层以及透明导电层。所述硬涂层设置于基板之上，且硬涂层的组成材料包括硅。所述第一折射层、第二折射层以及透明导电层依序设置于硬涂层之上，且透明导电层覆盖部分的第二折射层。当透明导电层受一光线以一入射角射入时，透明导电层以一第一反射率反射所述光线，当第二折射层受所述光线以所述入射角射入时，第二折射层以一第二反射率反射所述光线，第一反射率与第二反射率的差值小于一第一阀值。由此，本发明专利技术的导电薄膜可消除受蚀刻与未受蚀刻区域之间的显色差异。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术有关于一种导电薄膜，特别有关于一种可消除受蚀刻与未受蚀刻的区域之间的显色差异的导电薄膜。
技术介绍
随着制作技术的进步与其在各种应用面的不断 扩展，电子产品也逐渐提供越来越多样化的功能以及更高整合性的使用性，以方便使用者的操作。例如，为了提供可以使使用者更方便、更直接的控制的电子用品，目前电子信息产品已越来越广泛的装设有触控式的显示面板，以取代传统的按键形式的控制按钮。目前，触控面板大致上可分为电阻式、电容式、红外线式及超音波式等等形式的触控面板，其中以电阻式触控面板与电容式触控面板为最常见的产品。以目前的应用而言，电容式触控面板可应用在具有多点触控的特性的触控面板，以提供更为人性化的操作模式，从而使得电容式触控面板逐渐受到市场与使用者的青睐。不过，电容式触控面板的缺点在于其必须以导体材质，例如手指触碰触控面板以进行电子产品的操作。而对于电阻式触控面板而言，无论使用者以何种材质触碰触控面板，都可以进行电子产品的操作与控制，因而提高了触控面板的使用便利性。另外，电阻式触控面板所需成本较低，且电阻式触控面板的技术发展较为成熟，因而目前的主流产品大多使用电阻式触控面板。传统的触控面板直接在玻璃基板表面上积层有一导电薄膜，通过触碰所述导电薄膜，以达成输入信号或感测触控位置等的功能。然而，所述导电薄膜必须经过黄光显影、蚀刻的制作过程，从而在其上得到线路图案，从而成型相关的驱动电路，但在制作过程的实际应用中，蚀刻制作过程会在面板上留下蚀刻的痕迹，例如在透明导电层上形成具有高度差的结构；而在光学的分析中，因蚀刻部分所裸露的玻璃基板与未被蚀刻的透明导电层之间具有很大的反射率差异，会在光谱上出现显著的落差，因此在使用者的视觉上会造成不明的影像或区块，或是出现明显的界线等等，因此造成电子产品质量的下降。有鉴于此，本专利技术人针对上述的问题，提出一种设计合理且可以有效改善上述缺点的本专利技术。
技术实现思路
本专利技术实施例在于提供一种导电薄膜，利用调整改变其中的硬涂层的组成材料与厚度，使得受蚀刻与未受蚀刻的导电薄膜具有相近的反射率，进而使肉眼无法察觉到制作过程中所残留下的痕迹，提高光学上的显示效果。本专利技术实施例提供一种导电薄膜，导电薄膜包括基板、硬涂层、第一折射层、第二折射层以及透明导电层。所述硬涂层设置于基板之上，且硬涂层的组成材料包括硅。所述第一折射层、第二折射层以及透明导电层依序设置于硬涂层之上，且透明导电层覆盖部分的第二折射层。当透明导电层受一光线以一入射角射入时，透明导电层以一第一反射率反射所述光线，当第二折射层受所述光线以所述入射角射入时，第二折射层以一第二反射率反射所述光线，第一反射率与第二反射率的差值小于一第一阀值。在本专利技术一示范实施例中，所述硬涂层的厚度在I至3微米的范围内，且硅所占的重量比例在5%至25%的范围内。第一折射层的厚度在100至300埃的范围内，且第一折射层的折射率在I. 6至2. O的范围内，而第二折射层的厚度在500至700埃的范围内，且第二折射层的折射率在I. 42至1.46的范围内。另外，基板为由选自玻璃以及PET之群组中的材料所组成，且基板的折射率系为I. 52。换句话说，本专利技术为一种导电薄膜，其中包括—基板；一硬涂层，设置于所述基板之上，所述硬涂层的组成材料包括硅；一第一折射层，设置于所述硬涂层之上；·一第二折射层，设置于所述第一折射层之上；以及一透明导电层，设置于所述第二折射层之上，且所述透明导电层覆盖部分的所述第二折射层；其中当所述透明导电层受一光线以一入射角射入时，所述透明导电层以一第一反射率反射所述光线，当所述第二折射层受所述光线以所述入射角射入时，所述第二折射层以一第二反射率反射所述光线，所述第一反射率与所述第二反射率的差值小于一第一阀值。本专利技术所述的导电薄膜，其中，所述硬涂层的组成材料中，硅所占的重量比例在5%至25%的范围内。本专利技术所述的导电薄膜，其中，所述硬涂层的厚度在I至3微米的范围内。本专利技术所述的导电薄膜，其中，所述第一折射层的厚度在100至300埃的范围内，且所述第一折射层的折射率在I. 6至2. O的范围内。本专利技术所述的导电薄膜，其中，所述第二折射层的厚度在500至700埃的范围内，且所述第二折射层的折射率在I. 42至I. 46的范围内。本专利技术所述的导电薄膜，其中，所述第一阀值为O. 5。本专利技术所述的导电薄膜，其中，当所述透明导电层受所述光线以所述入射角射入时，所述透明导电层中的所述光线具有一第一穿透率，当所述第二折射层受所述光线以所述入射角射入时，所述第二折射层中的所述光线具有一第二穿透率，所述第一穿透率与所述第二穿透率的差值小于一第二阀值。本专利技术所述的导电薄膜，其中，所述第二阀值为O. 5。本专利技术所述的导电薄膜，其中，所述基板为由选自玻璃以及PET的群组中的材料所组成，且所述基板的折射率为I. 52。综上所述，本专利技术实施例所提供的导电薄膜，利用调整改变其中的硬涂层之组成材料与厚度，当导电薄膜经过蚀刻的制作过程而使最上层的透明导电层的部分区域受到蚀刻时，本专利技术可使受蚀刻与未受蚀刻的导电薄膜具有相近的反射率。在此，当透明导电层的部分区域受蚀刻时，光线透过透明导电层与第二折射层射入导电薄膜的反射率，相近于光线仅透过第二折射层射入导电薄膜之反射率。由此，本专利技术的导电薄膜可消除受蚀刻与未受蚀刻区域之间的显色差异，使肉眼无法察觉到制作过程中所残留下的痕迹，进而提高光学上的显示效果。为使能更进一步了解本专利技术的特征及
技术实现思路
，请参照以下有关本专利技术的详细说明及附图，然而所附图式仅是为了提供参考与说明之用，并非用来对本专利技术加以限制。附图说明图I示出了根据本专利技术一示范实施例的导电薄膜的示意图。图2示出了根据本专利技术一示范实施例的导电薄膜的立体图。附图标记的说明I:导电薄膜10 :基板12:硬涂层14:第一折射层 16:第二折射层18:透明导电层20 :粘结剂层R1、R2:反射率T1、T2:折射率具体实施例方式〔导电薄膜实施例〕请一并参照图I与图2，图I示出了根据本专利技术一示范实施例的导电薄膜的示意图。图2示出了根据本专利技术一示范实施例的导电薄膜的立体图。如图所示，本专利技术之导电薄膜I具有基板10、硬涂层12、第一折射层14、第二折射层16以及透明导电层18，基板10之上依序设置有硬涂层12、第一折射层14、第二折射层16以及透明导电层18。以下分别描述本专利技术的导电薄膜I的各部分组件。基板10由玻璃或PET(聚对苯二甲酸乙二酯)的材料制成薄膜形状，但本专利技术并不仅限于上述材料。例如，可以使用二乙酰纤维素薄膜、三乙酰纤维素薄膜、乙酰纤维素丁酸酯薄膜等的乙酰纤维素系薄膜；聚碳酸酯系薄膜；环状聚烯烃系薄膜；丙烯酸树脂系薄膜；聚对苯二甲酸乙二酯薄膜、聚对苯二甲酸丁二酯薄膜、聚萘二甲酸乙二酯薄膜等的聚酯系薄膜；聚砜系薄膜；聚醚砜系薄膜；聚醚醚酮系薄膜；聚酰亚胺系薄膜；聚醚酰亚胺系薄膜等的透明塑料薄膜。上述的基板材料中，从光线透射率等的光学特性、加工性、机械物性、吸水率、耐热性、耐候性等的方面考虑，优先为乙酰纤维素系薄膜、聚碳酸酯系薄膜、环状聚烯烃系薄膜、丙烯酸树脂系薄膜及聚酯系薄膜，其中更优选为三乙酰纤维素薄膜、聚碳酸酯系薄膜、环状聚烯烃系薄膜、丙烯酸树脂系薄膜及聚对苯二甲酸乙二酯薄膜本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种导电薄膜，其特征在于，包括：一基板；一硬涂层，设置于所述基板之上，所述硬涂层的组成材料包括硅；一第一折射层，设置于所述硬涂层之上；一第二折射层，设置于所述第一折射层之上；以及一透明导电层，设置于所述第二折射层之上，且所述透明导电层覆盖部分的所述第二折射层；其中当所述透明导电层受一光线以一入射角射入时，所述透明导电层以一第一反射率反射所述光线，当所述第二折射层受所述光线以所述入射角射入时，所述第二折射层以一第二反射率反射所述光线，所述第一反射率与所述第二反射率的差值小于一第一阀值。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：朱兆杰，
申请(专利权)人：智盛全球股份有限公司，
类型：发明
国别省市：