【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及成像光学系统。具体地，本专利技术涉及一种成像光学系统，其中光学表 面上的反射系数被抑制，同时处理方便和可获得另人满意的批量生产率。该成像光学 系统适用于诸如数码相机等的各种成像装置。
技术介绍
近几年来，数码相机的巿场容量呈现增长的趋势。 一般来说，数码相机的市场大 致分为以高放大率和高分辨率为目标的市场和以紧凑型数码相机为目标的市场。另一 方面，为了进一步扩展数码相机的市场，正在掀起对于以广角型数码相机为目标的新 市场的市场培养运动。在用于高放大率照相机的诸如变焦透镜系统的成像光学系统中，在一些情况下也 采用具有强负光度的半月型透镜，以在保持相对紧凑的状态下实现高放大倍率。同时， 在一些情况下，在成像光学系统中包含具有大最大倾斜角的光学表面的透镜元件。在用于紧凑型数码相机的诸如变焦透镜系统的成像光学系统中，减小尺寸的目的 要求减小透镜元件的厚度以及减小光学表面的曲率半径。同时，在一些情况下，也需 要在成像光学系统中采用具有大倾斜角的光学表面的透镜元件。另外，在广角型成像光学系统中，对于具有正光度的透镜单元设置在最物侧的类 型的成像光学系统，成像光...
【技术保护点】
一种配备至少一个透镜元件的成像光学系统，其特征在于，该成像光学系统包括：入射光透射的光学表面；和设置在一个或多个光学表面中位于包含光学表面中心的中心区域的周边的周边区域的至少一部分中的抗反射结构，其中该抗反射结构是这样的结构，其中具有预定形状的结构单元以小于入射光中反射应当被阻止的光的最小波长的周期以阵列的形式周期性地排列。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：冈山裕昭，吉川智延，吉次庆记，山本义春，
申请(专利权)人：松下电器产业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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