光学膜及其制作方法技术

本发明专利技术涉及一种光学膜及其制作方法，其利用溶剂铸膜技术将混掺的聚甲基丙烯酸甲酯（ＰＭＭＡ）均匀混合在溶剂中以形成一湿膜，并利用加热上述湿膜以形成一光学干膜，其中特别是至少一种ＰＭＭＡ、被取代官能基的ＰＭＭＡ或ＰＭＭＡ混掺；以及溶剂，该ＰＭＭＡ、该被取代官能基的ＰＭＭＡ或该ＰＭＭＡ混掺可依所需性质以任意比例均匀混合在该溶剂中以形成一混合溶液，该混合溶液经过热处理后形成光学膜。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术与一种光学膜与混掺光学高分子以制备上述光学膜的方法有关，特别是一种PMMA(Polymethyl Methacrylate)光学膜以及利用溶剂铸膜技术以制备上述PMMA光学膜的方法。
技术介绍
传统光学膜的基材一般是以三醋酸纤维(TACtriacetate)、PC(polycarbonate)、COP为主。而典型的TAC膜又可进一步作为光学膜的保护与支撑膜，所以一般的TAC膜除了必须达到所要求的光学性质外，也必须具有一定的强度，且具有耐高温以及耐潮湿的特性，以达到光学膜的使用需求，或是提供保护TAC膜所构成的光学膜的效果(参考下述专利JP4342202，TW499573，JP2000-324055，JP2001-235625，JP2003-195048，EP 1-285742，EP 1-331245)。另外，美国专利第6,652,926B1号中揭露加入0.04％～0.3％的硅土粒子(silica particle)于TAC中，其一方面增加了TAC膜的韧性，另一方面亦使得TAC的膜厚降低。再者，有关于基板或是保护膜的产生，已揭示于美国专利公告第2004/0086721 A本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学膜，其特征在于，包含：至少选择一种ＰＭＭＡ、被取代官能基的ＰＭＭＡ以及ＰＭＭＡ混掺中的任一材质；以及溶剂，选择对应所选择的该ＰＭＭＡ、该被取代官能基的ＰＭＭＡ以及该ＰＭＭＡ混掺中的任一材质，依所需性质以任意比例均匀混 合在该溶剂中以形成一混合溶液，该混合溶液经过热处理后形成光学膜。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李光荣，王丹青，庄毓蕙，
申请(专利权)人：力特光电科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]