一种PECVD反应炉制造技术

本实用新型专利技术公开了一种PECVD反应炉，包括炉体、炉门、炉尾、设置在所述炉体内的石英炉管、设置在炉尾一端的第一法兰、设置在炉门一端的第五法兰，其特征在于：所述第五法兰与炉门之间朝向炉门方向，并排依次设有第二盘根、第六法兰及第七法兰；在所述第七法兰与炉门相邻的端面上设有与所述石英炉管外壁密封连接的第三密封圈，在第七法兰与炉门之间位于第三密封圈的外侧还间隔设有第四密封圈。本实用新型专利技术提出的PECVD反应炉，在炉口处设置多个法兰，增加了反应炉的长度，相对降低了炉门处的温度，在炉门与相邻法兰之间设置双重密封圈，密封圈不用频繁更换，密封效果较好，有效提高了密封圈使用寿命及产品的可靠性。

【技术实现步骤摘要】
一种PECVD反应炉
本技术涉及光伏设备
，更具体地说，是涉及一种PECVD反应炉。
技术介绍
太阳能作为人类取之不尽用之不竭的可再生能源，其特有的充分清洁性，绝对安全性，相对的广泛性，在长期的能源战略中具有重要的影响地位。太阳能电池片（俗称硅片）可将太阳能直接转换成电能，故在太阳能应用设备中具有非常重要的作用。在光伏行业，PECVD反应炉是太阳能电池片镀减反射膜的主要设备，其工作原理是利用等离子增强化学气相沉积法给硅片镀上一层减反射膜。因硅片镀膜需特殊的特定的高温环境，故需对PECVD反应室进行密封和温度控制。现有技术中，由于工艺温度的不断升高，法兰上的密封圈受热损坏率较高，寿命短，更换频繁，密封效果不好，以及石英炉管直径的不断增加，工艺气体在反应炉内单位面积内的附着量很难保证，通常流动的气体分子对硅片表面的附着力不高，造成反应速度较慢，工作效率较低，需要进一步的改进。
技术实现思路
本技术提出一种PECVD反应炉，以解决现有技术中存在的因工艺温度较高，法兰上的密封圈容易受热损坏，寿命短，更换频繁，密封效本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种PECVD反应炉，包括炉体、炉门、炉尾、设置在所述炉体内的石英炉管、设置在炉尾一端的第一法兰、设置在炉门一端的第五法兰，其特征在于：所述第五法兰与炉门之间朝向炉门方向，并排依次设有第二盘根、第六法兰及第七法兰；在所述第七法兰与炉门相邻的端面上设有与所述石英炉管外壁密封连接的第三密封圈，在第七法兰与炉门之间位于第三密封圈的外侧还间隔设有第四密封圈。/n

【技术特征摘要】
1.一种PECVD反应炉，包括炉体、炉门、炉尾、设置在所述炉体内的石英炉管、设置在炉尾一端的第一法兰、设置在炉门一端的第五法兰，其特征在于：所述第五法兰与炉门之间朝向炉门方向，并排依次设有第二盘根、第六法兰及第七法兰；在所述第七法兰与炉门相邻的端面上设有与所述石英炉管外壁密封连接的第三密封圈，在第七法兰与炉门之间位于第三密封圈的外侧还间隔设有第四密封圈。


2.根据权利要求1所述的PECVD反应炉，其特征在于：所述第一法兰与炉尾之间朝向远离所述炉门方向并排依次设有第一盘根、第二法兰、第三法兰、第四法兰；在所述第三法兰与第四法兰相邻的端面上设有与石英炉管外壁密封连接的第一密封圈，第三法兰与第四法兰之间位于第一密封圈外侧还间隔设置有第二密封圈。


3.根据权利要求1所述的PECVD反应炉，其特征在于：所述石英炉管内靠近所述第一法兰位置设有至少一个均气挡热板。


4.根据权利要求3所述的PECVD反应炉，其特征在于：所述均气挡热板设有若干个相同或不同的通气孔，或者均气挡热板为不带通气孔的平板。


5.根据权利要求3所述的PECVD反应炉，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：邓金生，彭亚萍，王凯，余仲，
申请(专利权)人：深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44