一种等离子体增强化学气相沉积设备制造技术

本发明专利技术涉及镀膜技术领域，具体涉及一种等离子体增强化学气相沉积设备，包括抽真空机构、反应机构及移送机构，抽真空机构与反应机构相连通，移送机构将待处理产品送入或取出反应机构，反应机构包括反应腔室、电极组件及承载组件，电极组件设置在反应腔室的顶端并在反应腔室的内部移动，承载组件设置在反应腔室的底端并在反应腔室的内部移动，电极组件包括至少一个出气装置，出气装置从上往下依次包括弥散管和弥散球头，弥散管和弥散球头均设有若干个均匀分布的弥散孔。以此可以使镀膜气体从弥散管和弥散球头中全方位发散，确保镀膜气体能均匀地粘附在疫苗瓶内壁，避免疫苗瓶内壁出现镀膜缺陷、不完整的问题，有利于提高疫苗瓶的生产质量。

【技术实现步骤摘要】
一种等离子体增强化学气相沉积设备
本专利技术涉及镀膜
，具体涉及一种等离子体增强化学气相沉积设备。
技术介绍
等离子体增强化学气相沉积(PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition，PECVD)是利用微波或射频等能量，使含有薄膜组成原子的气体电离成高能原子、正负离子、电子等的混合体，形成等离子体并沉积薄膜，从而实现高速率成膜。在包括疫苗瓶在内的一些瓶状物体间通常对其内壁进行镀膜。目前，常见的方式是将疫苗瓶倒放，用于镀膜的气体在疫苗瓶口处从下往上升进而粘附在疫苗瓶的内壁来完成镀膜。然而，在常见的方式中由于用于镀膜的气体是从下往上升，疫苗瓶瓶口处的电镀膜容易出现电镀不均匀的现象，甚至出现电镀缺陷、不完整的问题，大大影响疫苗瓶的生产质量。因此，行业内亟需一种能解决上述问题的方案。
技术实现思路
本专利技术的目的在于针对现有技术的不足而提供一种等离子体增强化学气相沉积设备。本专利技术的目的可以通过如下所述技术方案来实现。一种等离子体增强化学气相沉积设备，包括抽真空机构、反应本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种等离子体增强化学气相沉积设备，其特征在于，包括抽真空机构、反应机构及移送机构，所述抽真空机构与所述反应机构相连通，所述移送机构将待处理产品送入或取出所述反应机构，所述反应机构包括反应腔室、电极组件及承载组件，所述电极组件设置在所述反应腔室的顶端并在所述反应腔室的内部移动，所述承载组件设置在所述反应腔室的底端并在所述反应腔室的内部移动，所述电极组件包括至少一个出气装置，所述出气装置从上往下依次包括呈中空状的弥散管和弥散球头，所述弥散管和所述弥散球头均设有若干个均匀分布的弥散孔，所述电极组件为导电材料，所述电极组件加设偏压电源。/n

【技术特征摘要】
1.一种等离子体增强化学气相沉积设备，其特征在于，包括抽真空机构、反应机构及移送机构，所述抽真空机构与所述反应机构相连通，所述移送机构将待处理产品送入或取出所述反应机构，所述反应机构包括反应腔室、电极组件及承载组件，所述电极组件设置在所述反应腔室的顶端并在所述反应腔室的内部移动，所述承载组件设置在所述反应腔室的底端并在所述反应腔室的内部移动，所述电极组件包括至少一个出气装置，所述出气装置从上往下依次包括呈中空状的弥散管和弥散球头，所述弥散管和所述弥散球头均设有若干个均匀分布的弥散孔，所述电极组件为导电材料，所述电极组件加设偏压电源。


2.根据权利要求1所述的一种等离子体增强化学气相沉积设备，其特征在于，所述弥散管上套设有密封盖板，所述密封盖板在工作时盖压待处理产品并使待处理产品内部真空度范围为1Pa-100Pa，反应腔室的真空度范围为0.1Pa-10Pa。


3.根据权利要求1所述的一种等离子体增强化学气相沉积设备，其特征在于，所述电极组件还包括第一升降机构、上电极板及进气通道，所述第一升降机构固定在所述反应腔室的顶端，所述上电极板固定在所述第一升降机构的升降轴上，所述上电极板与所述进气通道相连通，所述出气装置固定在所述上电极板的底端并与所述上电极板连通，所述上电极板与偏压负极连接。


...

【专利技术属性】
技术研发人员：钱锋，姚飞，王小东，廖运华，梁锦东，陈进福，
申请(专利权)人：东莞帕萨电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44