【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种显微成像装置，特别涉及一种高分辨显微三维成像装置。
技术介绍
近年来，随着微纳加工技术和纳米材料的迅速发展，微纳金属结构的电磁学性质正受到越来越多的关注。光与表面微纳金属结构的相互作用产生了一系列新的奇异物理现象。例如，1998年法国科学家Ebbesen及其合作者发现通过亚波长金属孔列阵的光的异常增强现象(Extraordinary Optical Transmission)。H.J.Lezec等人的研究进一步表明当光透过亚波长金属纳米孔时，其透过率不仅可以得到增强，而且光束的衍射角度非常小，传输方向不遵循通常电介质结构中的衍射规律。此外，与表面等离子体金属微纳结构有关的新现象还有光与特殊分布的金属微结构作用后，出现沿左手规则传播的特性，说明材料具有负折射率；光通过特定金属纳米孔结构后，光波出射具有极好的方向性等等。微纳金属结构表面等离子体波的研究已经形成一个新的领域。基于微纳金属结构的新型表面等离子体技术器件可以被广泛应用于军事、医疗、国家安全等多个领域。 根据阿贝-瑞利判据，成像系统的分辨率受到入射光波长和数值孔径的限制，理论上分...
【技术保护点】
一种高分辨显微三维成像装置，其特征在于以下步骤：（１）首先确定入射光，根据入射光的波长λ，选择合适材料的半球棱镜；（２）选择合适的载玻片，并在其表面蒸镀一层金属；（３）将镀有金属层的载玻片放置于半球棱镜的半球平面上，并将物体放置在载玻片的金属表面上；（４）入射光在棱镜半球曲面上的某一点沿棱镜半径方向入射，入射光与载玻片平面之间的夹角为θ，光束在载波片表面产生全反射，ＴＭ波通过全反射在金属表面产生的表面等离子体波的波长为：λ↓［ｓｐ］＝λ↓［０］×（（ε↓［ｍ］＋ε↓［ｄ］）／ε↓［ｍ］×ε↓［ｄ］）↑［１／２］（１）其中ε↓［ｍ］为金属膜的介电常数，ε↓［ｄ］为金属膜上方覆...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：罗先刚，杨学峰，杜春雷，史立芳，
申请(专利权)人：中国科学院光电技术研究所，
类型：发明
国别省市：51[中国|四川]
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