厚度调节混合制作多级微反射镜的方法技术

本发明专利技术涉及一种厚度调节混合制作多级微反射镜的方法，包括如下步骤：制作ｎ个基片并对其进行清洗处理；将基片并分成Ｎ组基片单元，然后研磨、抛光四个侧面；第一组基片单元上下侧表面之间的高度为Ｈ，依此类推，第Ｎ组基片单元上下侧表面之间的高度为Ｈ＋（Ｎ－１）ｎｈ／Ｎ；分别在各基片的上侧表面沉积不同厚度的薄膜材料；将各基片依次紧密排列置于抛光平板上并固定在一起；在阶梯结构上表面沉积增反膜层。本发明专利技术不仅水平精度高，阶梯的垂直高度还可以在较大的范围内调节，纵向尺寸精度高；并且制作过程不用化学腐蚀，减少了污染。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种多级微反射镜的制作方法，特别涉及一种厚度调节混合制作用于可见及红外波段的多级微反射镜的方法。
技术介绍
多级微反射镜作为一种光的反射器件，在光学系统中有着越来越广泛的应用，如光谱 分析、光束整形和光纤耦合等。随着光学系统向体积小、结构紧凑方向发展，光学系统中的器件微型化成为光学器件的 一个重要研究课题，微型光学器件设计与制作水平直接决定该光仪器的性能。多级微反射镜 可以通过二元光学技术在衬底上进行多次光刻和多次腐蚀(干法或湿法)在石英等多种材料 上制备阶梯微结构，这种方法存在以下缺点1、需要进行多次光刻和多次化学腐蚀，造成 化学污染；2、因多次套刻，水平精度难以保证；3、阶梯垂直间距调节范围小；4、腐蚀或 刻蚀深度难以精确控制，精度和重复性较差。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种不用化学腐蚀，能够减少污染，水平精度高，并且 阶梯垂直间距调节范围大、纵向尺寸精度高的。为解决上述技术问题，本专利技术的包括如下步骤(一) 、选取硅、玻璃、二氧化硅、石英、碳化硅、钼片、铝片或石英片作为基片，并 对其进行清洗处理；(二) 、设定多级微反射镜总级数为n，将n片本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种厚度调节混合制作多级微反射镜的方法，其特征在于包括如下步骤：（一）、选取硅、玻璃、二氧化硅、石英、碳化硅、钼片、铝片或石英片作为基片，并对其进行清洗处理；（二）、设定多级微反射镜总级数为ｎ，将ｎ片基片双面抛光，并分成Ｎ组 ；分别将每个组的１～ｎ／Ｎ个基片叠在一起固定，形成Ｎ组基片单元，然后分别对Ｎ组基片单元整体研磨、抛光四个侧面，使侧面粗糙度达到０．２ｎｍ～１μｍ；第一组基片单元上下侧表面之间的高度为Ｈ，第二组基片单元上下侧表面之间的高度为Ｈ＋ｎｈ／Ｎ，第三组基片单元上下侧表面之间的高度为Ｈ＋２ｎｈ／Ｎ，依此类推，第Ｎ组基片单元上下侧表面之间的高度为Ｈ＋（Ｎ－...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：梁中翥，梁静秋，
申请(专利权)人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，
类型：发明
国别省市：82[中国|长春]