一种真空镀膜生产线真空腔抽气提速方法及真空气囊技术

本发明专利技术提供一种真空镀膜生产线真空腔抽气提速方法，其可以有效的缩短真空腔体抽气时间，提高工作效率，降低加工成本。本发明专利技术技术方案中，通过设置一种真空气囊，将真空气囊预先进行真空抽气，然后放入进出片腔体，达到缩短抽真空时间，提高工作效率的目的。同时本发明专利技术还公开了一种真空镀膜生产线真空腔抽气提速用真空气囊。

【技术实现步骤摘要】
一种真空镀膜生产线真空腔抽气提速方法及真空气囊
本专利技术涉及真空镀膜
，具体为一种真空镀膜生产线真空腔抽气提速方法及真空气囊。
技术介绍
真空气相沉积技术是指，在初始真空态前提下，对真空态的工艺腔室内通入工艺气体，然后对工艺气体以及镀膜衬底施加反应条件，例如温度、电场、辐射、激光等，让工艺气体与沉底发生理化反应，最终在沉底上成膜。现有加工工序是：首先将放置待镀膜基片的基片承载盘经过通过导轨、滚轮或者其它传输装置进入镀膜工艺腔体，然后在对工艺腔体通过真空泵等方式进行真空抽气。因为真空腔室有传输基片的需求，内部还需要安装加热器、工艺气体入口等大量可能会干涉的部件，所以大部分时候不能直接将真空腔体做成异型的，即无论何种镀膜需求都使用同样真空腔体；很多时候对真空腔体的抽气所需的时间过长，进而导致加工工时边长，进而导致整体加工工序成本变高。
技术实现思路
为了解决现有的镀膜工序中对真空腔体抽气所需时间过长导致整体加工工序成本变高的问题，本专利技术提供一种真空镀膜生产线真空腔抽气提速方法，其可以有效的缩短真空腔体抽气时间，提高工作效率，降低加工成本。同时本专利技术还公开了一种真空镀膜生产线真空腔抽气提速用真空气囊。本专利技术的技术方案是这样的：一种真空镀膜生产线真空腔抽气提速方法，其包括以下步骤：S1：将放置待镀膜基片的基片承载盘通过进出片腔体运传输至所述工艺发生腔体；S2：对所述进出片腔体进行真空抽取；其特征在于，其还包括以下步骤：在步骤S2实施之前，实施以下步骤：a1：预先按照所述进出片腔体的体积，准备本次需要使用的抽气提速用真空气囊；a2：将所述真空气囊预先进行真空抽气；a3：将内部处于真空状态所述真空气囊放入所述进出片腔体中。其进一步特征在于：根据工艺需要，所述真空气囊放置于所述基片承载盘单侧或者双侧；根据所述待镀膜基片产能需要，通过更换不同体积的所述真空气囊，调整所述进出片腔体中需要抽气的空腔体积大小。一种真空镀膜生产线真空腔抽气提速用真空气囊，其特征在于，其包括：内部为真空腔的气囊本体，所述气囊本体外形为矩形，所述气囊本体的侧壁上设置用于连接真空泵的预抽口。其进一步特征在于：所述气囊本体的四周分布设置防滑块；所述气囊本体的材质为薄壁金属材质；所述气囊本体的壁厚的厚度范围为：2mm~3mm。本专利技术提供的一种真空镀膜生产线真空腔抽气提速方法，其将真空气囊预先进行真空抽气，然后放入进出片腔体，可以有效的减少进出片腔体内部的抽真空必要容积，提高进出片腔体的抽真空速度，缩短抽真空时间，提高工作效率，降低工序成本，有效提高整条产线的产能；同时，减少了真空腔体体积的工艺发生腔，还可以根据具体的产能需要，选用功率和抽气速度更小的真空泵，调整抽气时间，进一步的减少真空镀膜生产线的设备投入成本。附图说明图1为放入了真空气囊的进出片腔体的俯视的结构示意图；图2为放入了真空气囊的进出片腔体的分解的结构示意图；图3为图1中A-A方向的剖视的结构示意图。具体实施方式如图1~3所示实施例，为进料腔内放置两个真空气囊2的结构示意图；真空气囊2包括：内部为真空腔的气囊本体2-2，气囊本体2-2外形为矩形，气囊本体2-2的侧壁上设置用于连接真空泵的预抽口2-1；气囊本体2-2的四周分布设置防滑块，包括设置在上下两个侧壁的第一防滑块2-3，真空气囊2放置到进出片腔体1后，第一防滑块2-3可以放置因为意外导致真空气囊2发生滑动；设置在与预抽口2-1相对的侧壁的第二防滑块2-4，真空气囊2放置到进出片腔体1后，第二防滑块2-4避免真空气囊2与进出片腔体1发生摩擦；气囊本体2-2的材质为金属材质，内部设置空腔，气囊本体2-2的壁厚以mm为单位，本实施例中，厚度范围为：2mm~3mm，这样既可以实现真空的需求，又不会因为过厚的金属材质的影响进出片腔体1内部的电磁场、热场的效果，确保待镀膜基片的工艺效果不会因为真空气囊2的设置而发生变化。入料口4为待镀膜基片进入进出片腔体1的入口。本专利技术的一种真空镀膜生产线真空腔抽气提速方法，其包括以下步骤：S1：将放置待镀膜基片的基片承载盘3放到进出片腔体1中，运输至工艺发生腔体；S2：对进出片腔体1进行真空抽取。在步骤S2实施之前，实施以下步骤：a1：预先按照进出片腔体1的体积，准备本次需要使用的抽气提速用真空气囊2；a2：将真空气囊2预先进行真空抽气；a3：将内部处于真空状态真空气囊2放入进出片腔体1中；根据具体的工艺需求，真空气囊2可以在步骤S1之前放置，也可以在步骤S1之后放置，具体实施的时候，可以根据加工工序的具体步骤进行调整，确保不会因为添加真空气囊2而导致整个工序的效率发生过大的变化。本专利技术技术方案中，根据工艺需要，真空气囊2放置于基片承载盘3单侧或者双侧；如图1~3所示实施例中，基片承载盘3双侧各放置了1个真空气囊2；进出片腔体1内的真空腔5的体积被压缩的非常小，具体实施的时候，根据工序的具体产能需要，可以选取功率和抽气速度更小的真空泵，调整抽气时间，进一步的减少真空镀膜生产线的设备投入成本；且具体实施的时候，根据待镀膜基片产能需要，可以通过更换不同体积的真空气囊2，调整进出片腔体1中需要抽气的空腔体积大小，使本专利技术技术方案适用于各种不同的真空镀膜工艺中，确保了本专利技术技术方案的实用性。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空镀膜生产线真空腔抽气提速方法，其包括以下步骤：/nS1：将放置待镀膜基片的基片承载盘通过进出片腔体运传输至所述工艺发生腔体；/nS2：对所述进出片腔体进行真空抽取；/n其特征在于，其还包括以下步骤：/n在步骤S2实施之前，实施以下步骤：/na1：预先按照所述进出片腔体的体积，准备本次需要使用的抽气提速用真空气囊；/na2：将所述真空气囊预先进行真空抽气；/na3：将内部处于真空状态所述真空气囊放入所述进出片腔体中。/n

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜生产线真空腔抽气提速方法，其包括以下步骤：
S1：将放置待镀膜基片的基片承载盘通过进出片腔体运传输至所述工艺发生腔体；
S2：对所述进出片腔体进行真空抽取；
其特征在于，其还包括以下步骤：
在步骤S2实施之前，实施以下步骤：
a1：预先按照所述进出片腔体的体积，准备本次需要使用的抽气提速用真空气囊；
a2：将所述真空气囊预先进行真空抽气；
a3：将内部处于真空状态所述真空气囊放入所述进出片腔体中。


2.根据权利要求1所述一种真空镀膜生产线真空腔抽气提速方法，其特征在于：根据工艺需要，所述真空气囊放置于所述基片承载盘单侧或者双侧。


3.根据权利要求1所述一种真空镀膜生产线真空腔抽气提速方法，其特征在于：根据所...

【专利技术属性】
技术研发人员：叶飞，刘晓萌，
申请(专利权)人：无锡爱尔华光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32