制作双面透明导电氧化物薄膜的镀膜设备制造技术

本实用新型专利技术公开了制作双面透明导电氧化物薄膜的镀膜设备，其至少包括第一镀膜腔（1）和第二镀膜腔（2）、横穿第一和第二镀膜腔的用于传输镀膜载板的传输带（3），第一和第二镀膜腔内分别设有镀膜源，当待镀膜载板依次穿过第一和第二镀膜腔时，所述镀膜源对待镀膜载板双面镀制透明导电氧化物薄膜；本实用新型专利技术解决了离子镀膜和溅射镀膜的缺点，有效解决镀膜粉尘对于TCO薄膜质量及产品效率的影响，尤其适合高效率薄膜硅/晶体硅异质结太阳电池的正面和背面连续生产时、方向由下往上镀膜源上方薄膜积迭所积造成的粉尘而产生缺陷，且本实用新型专利技术的设备和方法可适用于多种具有不同性能的TCO材料及不同型式的镀膜源。

【技术实现步骤摘要】
制作双面透明导电氧化物薄膜的镀膜设备
本技术涉及太阳能电池板制造设备，尤其涉及一种可有效避免粉尘污染的对太阳能电池板制作双面透明导电氧化物薄膜的镀膜设备。
技术介绍
在SHJ太阳电池的TCO薄膜制作工艺中，有的选择磁控溅射镀膜设备和方法，在不需对电池片进行翻转的条件下，在所述镀膜设备中连续对前表面和背面进行TCO镀膜；有的则选择离子镀膜中的反应式等离子体镀膜(reactiveplasmadeposition,RPD)设备和方法，在对其中一面镀膜后，对电池片进行翻转，然后对另一面镀膜。但是，由于磁控溅射镀膜中等离子体轰击损伤对非晶硅薄膜的影响，导致电池的转换效率偏低。而RPD设备中，必须对电池进行翻转才能实现对前表面和背面的镀膜，虽然在TCO镀膜过程中对非晶硅薄膜的轰击和损伤小，电池转换效率明显提高，但是，存在设备结构复杂和运行成本高的缺点。现有技术中有制作双面透明导电氧化物薄膜的镀膜设备，在所述镀膜设备中同时集成有离子镀膜源及溅射镀膜源。但这种设备仍存在缺点,生产过程中产生的粉尘会沉积在腔体内侧上顶盖的遮板上,在实际沉积时因温度本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种制作双面透明导电氧化物薄膜的镀膜设备，其特征在于：至少包括第一镀膜腔（1）和第二镀膜腔（2）、横穿第一和第二镀膜腔的用于传输太阳能电池板的传输带（3），第一和第二镀膜腔内分别设有镀膜源，当太阳能电池板依次穿过第一和第二镀膜腔时，所述镀膜源对太阳能电池板双面镀制透明导电氧化物薄膜；/n所述第一镀膜腔（1）和第二镀膜腔（2）之间设有用以消除粉尘的除尘腔（12）；/n所述除尘腔（12）在连接第一镀膜腔（1）和第二镀膜腔（2）处设有电动隔板，以便将第一镀膜腔、除尘腔、第二镀膜腔分割成各自独立的腔室；除尘腔内部、且位于所述传输带（3）的上方设有静电除尘器（17）。/n

【技术特征摘要】
1.一种制作双面透明导电氧化物薄膜的镀膜设备，其特征在于：至少包括第一镀膜腔（1）和第二镀膜腔（2）、横穿第一和第二镀膜腔的用于传输太阳能电池板的传输带（3），第一和第二镀膜腔内分别设有镀膜源，当太阳能电池板依次穿过第一和第二镀膜腔时，所述镀膜源对太阳能电池板双面镀制透明导电氧化物薄膜；
所述第一镀膜腔（1）和第二镀膜腔（2）之间设有用以消除粉尘的除尘腔（12）；
所述除尘腔（12）在连接第一镀膜腔（1）和第二镀膜腔（2）处设有电动隔板，以便将第一镀膜腔、除尘腔、第二镀膜腔分割成各自独立的腔室；除尘腔内部、且位于所述传输带（3）的上方设有静电除尘器（17）。


2.如权利要求1所述的制作双面透明导电氧化物薄膜的镀膜设备，其特征在于：所述第一镀膜腔内，镀膜源位于传输带上方；所述第二镀膜腔内，镀膜源位于传输带下方。


3.如权利要求2所述的制作双面透明导电氧化物薄膜的镀膜设备，其特征在于：所述镀膜设备集成有三个或以上镀膜腔时，镀膜源位于传输带上方的镀膜腔排列在镀膜源位于传输带下方的镀膜腔前方。


4.如权利要求1所述的制作双面透明导电...

【专利技术属性】
技术研发人员：卢贤政，陈麒麟，李时俊，张勇，
申请(专利权)人：深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44