【技术实现步骤摘要】
真空镀膜装置
本专利技术涉及真空镀膜
，特别是涉及一种真空镀膜装置。
技术介绍
真空镀膜是在真空条件下，对薄膜器件镀膜的工艺过程，在镀膜生产过程中，为了提高生产效率，通常采用滚轮结构传输待镀基板或装载有若干数量待镀基片的载板，而滚轮结构包括驱动装置及具有磁力转轴的滚轮，驱动装置驱动磁力转轴转动，以带动滚轮转动，以使得放置在滚轮上的待镀基板或载板在工艺腔中转移。现有的滚轮一般为金属滚轮，采用圆柱型一体式金属结构，待镀基板或载板与金属滚轮接触，在滚轮的带动下实现传输，待镀基板或载板的电流通过金属滚轮传导至腔体，以实现镀膜放电，但是待镀基板或载板与金属滚轮之间相切，二者之间呈现硬接触，使得待镀基板或载板在传输过程中存在震动，导致待镀基板或载板被划伤甚至是被磨损，并且待镀基板或载板与金属滚轮之间呈线接触，接触面积较小，导电速率慢，导电性能差，影响镀膜放电的稳定性，镀膜效果较差，无法满足大产能、高电流、高良率的工艺需求。
技术实现思路
基于此，有必要针对镀膜效果及镀膜放电的稳定性较差的问题，提供一种真...
【技术保护点】
1.一种真空镀膜装置，其特征在于，包括真空腔室以及固定于所述真空腔室的导电机构、多个滚轮机构，所述真空腔室内具有输送方向，其中：/n多个所述滚轮机构沿所述输送方向阵列分布，每一所述滚轮机构包括第一驱动单元及滚轮，所述第一驱动单元具有穿过所述真空腔室的侧壁的第一输出轴，所述滚轮安装于所述第一输出轴位于所述真空腔室内侧的端部，且具有至少一个环绕所述第一输出轴的缓冲圈；/n所述导电机构包括第二驱动单元、导电部及多个接地带，所述导电部与所述第二驱动单元传动连接，具有可与载板相接触的导电面，每一所述接地带的一端固定于所述第二驱动单元且与所述导电部在处于镀膜状态时电连接，另一端固定于所...
【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜装置，其特征在于，包括真空腔室以及固定于所述真空腔室的导电机构、多个滚轮机构，所述真空腔室内具有输送方向，其中：
多个所述滚轮机构沿所述输送方向阵列分布，每一所述滚轮机构包括第一驱动单元及滚轮，所述第一驱动单元具有穿过所述真空腔室的侧壁的第一输出轴，所述滚轮安装于所述第一输出轴位于所述真空腔室内侧的端部，且具有至少一个环绕所述第一输出轴的缓冲圈；
所述导电机构包括第二驱动单元、导电部及多个接地带，所述导电部与所述第二驱动单元传动连接，具有可与载板相接触的导电面，每一所述接地带的一端固定于所述第二驱动单元且与所述导电部在处于镀膜状态时电连接，另一端固定于所述真空腔室且与所述真空腔室在处于镀膜状态时电连接，具有收缩状态和展开状态。
2.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述滚轮上开设有至少一个环绕所述第一输出轴的凹槽，所述缓冲圈嵌设在所述凹槽内，且沿所述滚轮的径向方向，所述缓冲圈背离所述凹槽槽底的表面的高度大于或等于所述滚轮上未设置凹槽的外表面的高度。
3.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述滚轮包括本体，每一所述本体上套设有至少一个所述缓冲圈。
4.根据权利要求1-3任一项所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述缓冲圈的材料包括氟化橡胶、全氟橡胶、高氟橡胶中的一种或多种。
5.根据权利要求1-3任一项所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述第一驱动单元包括同步轮、磁力转轴，所述磁力转轴穿过所述真空腔室的侧壁，且位于所述真空腔室内侧的端部形成所述第一输出轴，位于所述真空腔室外侧的端部安装有同步轮，多个所述同步轮通过同步带带动。
6.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述第二驱动单元包括第一电机、磁流体、齿轮、两个齿条及两个滑动导杆，其中：
所述磁流体穿过所述真空腔室的底壁，且位于所述真空腔室外侧的端部固定于所述第一电机的伸出端，位于所述真空腔室内侧的端部固定有所述齿轮；
两个所述滑动导杆相对设置，每一所述滑动导杆的一端安装有一所述齿条，且另一端安装有所述导电部及所述接地带；
两个所述齿条分别与所述齿轮...
【专利技术属性】
技术研发人员：徐文涛，陈晨，李王俊，孙健，周剑，刘亚南，
申请(专利权)人：苏州迈正科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32
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