电子设备外壳纳米光学连续镀膜生产线制造技术

本发明专利技术公开了一种电子设备外壳纳米光学连续镀膜生产线，包括第一镀膜真空箱、第一镀膜机组、第二镀膜机组、第二镀膜真空箱、第三镀膜机组及第四镀膜机组，第一镀膜真空箱包括第一镀膜真空室及第二镀膜真空室，第二镀膜真空室与第一镀膜真空室相连通；第一镀膜机组组配置在第一镀膜真空室内；第二镀膜机组配置在第二镀膜真空室内；第二镀膜真空箱包括第三镀膜真空室及第四镀膜真空室，第四镀膜真空室与第三镀膜真空室相连通；第三镀膜机组配置在第三镀膜真空室内；第四镀膜机组配置在第四镀膜真空室内；气氛隔离箱连接在第一镀膜真空箱和第二镀膜真空箱之间，气氛隔离箱与第二镀膜真空箱之间。本发明专利技术可以实现多层膜结构的连续镀膜，效率高。

【技术实现步骤摘要】
电子设备外壳纳米光学连续镀膜生产线
本专利技术涉及镀膜加工
，尤其涉及一种电子设备外壳纳米光学连续镀膜生产线。
技术介绍
以“手机”为代表的电子设备，已经成为人们随身携带的必需品，随着技术的发展，人们追求电子设备性能的同时，也越来越在意电子设备的外观。近年来，酷炫靓丽的外观逐渐成为商家的卖点之一，例如电子设备的背面具有绚丽图案和色彩，不同的图案色彩，可以定义出各个不同图案版本，例如幻影、极光、冰岛、星空等版本，以供消费者选择。相关技术中，电子设备外壳镀膜加工难度大，尤其是对多层膜结构，需要进行连续镀膜。
技术实现思路
本专利技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本专利技术的目的在于提出一种电子设备外壳纳米光学连续镀膜生产线。为实现上述目的，根据本专利技术实施例的电子设备外壳纳米光学连续镀膜生产线，包括：第一镀膜真空箱，所述第一镀膜真空箱包括第一镀膜真空室及第二镀膜真空室，所述第二镀膜真空室与所述第一镀膜真空室相连通；第一镀膜机组，所述第一镀膜机组组配置在所述第一镀膜真空室内，用以在进入至所述第一镀膜真空室内的基材上镀设打底层；第二镀膜机组，所述第二镀膜机组配置在所述第二镀膜真空室内，用以在所述打底层上镀设光学增亮层；第二镀膜真空箱，所述第二镀膜真空箱包括第三镀膜真空室及第四镀膜真空室，所述第四镀膜真空室与所述第三镀膜真空室相连通；第三镀膜机组，所述第三镀膜机组配置在所述第三镀膜真空室内，用以在所述光学增亮层上镀设非导电金属增亮层；第四镀膜机组，所述第四镀膜机组配置在所述第四镀膜真空室内，用以在所述非导电金属增亮层上镀设保护层；气氛隔离箱，所述气氛隔离箱连接在所述第一镀膜真空箱和第二镀膜真空箱之间，且所述气氛隔离箱与所述第一镀膜真空箱之间具有可启闭的第一隔离门，所述气氛隔离箱与所述第二镀膜真空箱之间具有可启闭的第二隔离门；第一真空机组，所述第一真空机组与所述的第一镀膜真空箱相连，用于对所述第一镀膜真空箱抽真空；第二真空机组，所述第二真空机组与所述第二镀膜真空箱及气氛隔离箱相连，用于对所述第二镀膜真空箱及气氛隔离箱抽真空。根据本专利技术实施例提供的电子设备外壳光学连续镀膜设备，利用气氛隔离箱将第一镀膜真空箱与第二镀膜真空箱隔离开，利用第一镀膜机组及第二镀膜机组在第一镀膜真空箱内分别镀设打底层和光学增亮层，利用第三镀膜机组及第四镀膜机组在第二镀膜真空箱内分别镀设非导电金属则增亮层和保护层，如此，可以实现多层膜结构的连续镀膜，效率高。此外，光学增亮层及非导金属增亮层均具有增亮效果，而且，将光学增亮层及非导金属增亮层结合之后，可以显著提高电子设备外壳的亮白效果，此外，可以利用光学增亮层的折射率，形成不同视角下呈现不同的颜色及图案变化。另外，根据本专利技术上述实施例的电子设备外壳光学连续镀膜设备还可以具有如下附加的技术特征：根据本专利技术的一个实施例，所述第一镀膜真空箱内为充入氧气和惰性气体的第一真空环境，所述第二镀膜真空箱提供充入惰性气体且不含氧的第二真空环境。根据本专利技术的一个实施例，还包括：进料真空箱，所述进料真空箱的入口设有可启闭的第三隔离门；进料缓冲箱，所述进料缓冲箱的入口与所述进料真空箱的出口连通，且所述进料缓冲箱的入口与所述进料真空箱的出口之间设有可启闭的第四隔离门，所述进料缓冲箱的出口与所述第一镀膜真空箱连通，且所述进料缓冲箱的出口与所述第一镀膜真空箱之间设有可启闭的第五隔离门。根据本专利技术的一个实施例，还包括：第一辉光放电设备，所述第一辉光放电设备设在所述进料真空箱内，用于对进入至所述进料真空箱内的基材进行放电轰击；和/或，第二辉光放电设备，所述第二辉光放电设备设在所述进料缓冲箱内，用于对进入至所述进料缓冲箱内的基材进行放电轰击。根据本专利技术的一个实施例，所述光学增亮层包括附着层、第一光学增亮层及第二光学增亮层；所述第二镀膜真空室包括依次连通的第一镀膜真空段、第二镀膜真空段及第三镀膜真空段，所述第一镀膜真空段与所述第一镀膜真空室连通，所述第三镀膜真空段与所述气氛隔离箱通过所述第一隔离门连通；所述第二镀膜机组包括第一镀膜设备、第二镀膜设备及第三镀膜设备，所述第一镀膜设备设在所述第一镀膜真空段内，用于在所述打底层上镀设附着层；所述第二镀膜设备设在所述第二镀膜真空段内，用于在所述附着层上镀设所述第一光学增亮层；所述第三镀膜设备设在所述第三镀膜真空段内，用于在所述第一光学增亮层上镀设第一光学增亮层，所述第一光学增亮层与所述第二光学增亮层的折射率不同。根据本专利技术的一个实施例，所述第二镀膜真空段包括多个第一真空子段，多个所述第一真空子段依次连通，每个所述第一真空子段配置至少一个所述第二镀膜设备，以通过多个所述第二镀膜设备在所述附着层上多次镀膜，形成所述第一光学增亮层；所述第三镀膜真空段包括多个第二真空子段，多个所述第二真空子段依次连通，每个所述第二真空子段配置至少一个所述第三镀膜设备，以通过多个所述第三镀膜设备在所述附着层上多次镀膜，形成所述第二光学增亮层。根据本专利技术的一个实施例，还包括：出料真空箱，所述出料真空箱的出口设有可启闭的第六隔离门；出料缓冲箱，所述出料缓冲箱的出口与所述出料真空箱的入口连通，且所述出料缓冲箱的出口与所述出料真空箱的入口之间设有可启闭的第七隔离门，所述出料缓冲箱的入口与所述第二镀膜真空箱连通，且所述出料缓冲箱的入口与所述第二镀膜真空箱之间设有可启闭的第八隔离门。根据本专利技术的一个实施例，所述非导电金属增亮层包括过渡层及金属增亮层；所述第三镀膜机组包括至少两个第四镀膜设备，至少两个所述第四镀膜设备中的一部分用于在所述光学增亮层上镀设所述过渡层，至少两个所述第四镀膜设备中的另一部分用于在所述光学增亮层上镀设所述金属增亮层。根据本专利技术的一个实施例，所述保护层包括第一保护层和第二保护层，所述第一保护层形成于所述非导电金属增亮层，所述第二保护层形成于所述第一保护层；所述第四镀膜真空室包括相连通的两个第三真空子段；所述第四镀膜机组包括两个第五镀膜设备，两个所述第五镀膜设备中的一个设在两个第三真空子段中的一个上，用以在所述非导电金属增亮层上镀设所述第一保护层，两个所述第五镀膜设备中的另一个设在两个第三真空子段中的另一个上，用以在所述第一保护层上镀设所述第二保护层。根据本专利技术的一个实施例，所述第一镀膜机组采用中频对靶，所述第二镀膜机组、第三镀膜机组及第四镀膜机组采用旋转非平衡圆柱对靶。本专利技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本专利技术的实践了解到。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电子设备外壳纳米光学连续镀膜生产线，其特征在于，包括：/n第一镀膜真空箱，所述第一镀膜真空箱包括第一镀膜真空室及第二镀膜真空室，所述第二镀膜真空室与所述第一镀膜真空室相连通；/n第一镀膜机组，所述第一镀膜机组组配置在所述第一镀膜真空室内，用以在进入至所述第一镀膜真空室内的基材上镀设打底层；/n第二镀膜机组，所述第二镀膜机组配置在所述第二镀膜真空室内，用以在所述打底层上镀设光学增亮层；/n第二镀膜真空箱，所述第二镀膜真空箱包括第三镀膜真空室及第四镀膜真空室，所述第四镀膜真空室与所述第三镀膜真空室相连通；/n第三镀膜机组，所述第三镀膜机组配置在所述第三镀膜真空室内，用以在所述光学增亮层上镀设非导电金属增亮层；/n第四镀膜机组，所述第四镀膜机组配置在所述第四镀膜真空室内，用以在所述非导电金属增亮层上镀设保护层；/n气氛隔离箱，所述气氛隔离箱连接在所述第一镀膜真空箱和第二镀膜真空箱之间，且所述气氛隔离箱与所述第一镀膜真空箱之间具有可启闭的第一隔离门，所述气氛隔离箱与所述第二镀膜真空箱之间具有可启闭的第二隔离门；/n第一真空机组，所述第一真空机组与所述第一镀膜真空箱相连，用于对所述第一镀膜真空箱抽真空；/n第二真空机组，所述第二真空机组与所述第二镀膜真空箱及气氛隔离箱相连，用于对所述第二镀膜真空箱及气氛隔离箱抽真空。/n...

【技术特征摘要】
1.一种电子设备外壳纳米光学连续镀膜生产线，其特征在于，包括：
第一镀膜真空箱，所述第一镀膜真空箱包括第一镀膜真空室及第二镀膜真空室，所述第二镀膜真空室与所述第一镀膜真空室相连通；
第一镀膜机组，所述第一镀膜机组组配置在所述第一镀膜真空室内，用以在进入至所述第一镀膜真空室内的基材上镀设打底层；
第二镀膜机组，所述第二镀膜机组配置在所述第二镀膜真空室内，用以在所述打底层上镀设光学增亮层；
第二镀膜真空箱，所述第二镀膜真空箱包括第三镀膜真空室及第四镀膜真空室，所述第四镀膜真空室与所述第三镀膜真空室相连通；
第三镀膜机组，所述第三镀膜机组配置在所述第三镀膜真空室内，用以在所述光学增亮层上镀设非导电金属增亮层；
第四镀膜机组，所述第四镀膜机组配置在所述第四镀膜真空室内，用以在所述非导电金属增亮层上镀设保护层；
气氛隔离箱，所述气氛隔离箱连接在所述第一镀膜真空箱和第二镀膜真空箱之间，且所述气氛隔离箱与所述第一镀膜真空箱之间具有可启闭的第一隔离门，所述气氛隔离箱与所述第二镀膜真空箱之间具有可启闭的第二隔离门；
第一真空机组，所述第一真空机组与所述第一镀膜真空箱相连，用于对所述第一镀膜真空箱抽真空；
第二真空机组，所述第二真空机组与所述第二镀膜真空箱及气氛隔离箱相连，用于对所述第二镀膜真空箱及气氛隔离箱抽真空。


2.根据权利要求1所述的电子设备外壳光学连续镀膜设备，其特征在于，所述第一镀膜真空箱内为充入氧气和惰性气体的第一真空环境，所述第二镀膜真空箱提供充入惰性气体且不含氧的第二真空环境。


3.根据权利要求1所述的电子设备外壳光学连续镀膜设备，其特征在于，还包括：
进料真空箱，所述进料真空箱的入口设有可启闭的第三隔离门；
进料缓冲箱，所述进料缓冲箱的入口与所述进料真空箱的出口连通，且所述进料缓冲箱的入口与所述进料真空箱的出口之间设有可启闭的第四隔离门，所述进料缓冲箱的出口与所述第一镀膜真空箱连通，且所述进料缓冲箱的出口与所述第一镀膜真空箱之间设有可启闭的第五隔离门。


4.根据权利要求1所述的电子设备外壳光学连续镀膜设备，其特征在于，还包括：
第一辉光放电设备，所述第一辉光放电设备设在所述进料真空箱内，用于对进入至所述进料真空箱内的基材进行放电轰击；和/或，
第二辉光放电设备，所述第二辉光放电设备设在所述进料缓冲箱内，用于对进入至所述进料缓冲箱内的基材进行放电轰击。


5.根据权利要求1所述的电子设备外壳光学连续镀膜设备，其特征在于，所述光学增亮层包括附着层、第一光学增亮层及第二光学增亮层；
所述第二镀膜真空室包括依次连通的第一镀膜真空段、第二镀膜真空段及第三镀膜真空段，所述第一镀膜真空段与所述第一镀膜...

【专利技术属性】
技术研发人员：王建峰，
申请(专利权)人：深圳市嘉德真空光电有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44