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本发明公开了一种电子设备外壳纳米光学连续镀膜生产线，包括第一镀膜真空箱、第一镀膜机组、第二镀膜机组、第二镀膜真空箱、第三镀膜机组及第四镀膜机组，第一镀膜真空箱包括第一镀膜真空室及第二镀膜真空室，第二镀膜真空室与第一镀膜真空室相连通；第一镀膜...
该专利属于深圳市嘉德真空光电有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市嘉德真空光电有限公司授权不得商用。

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