一种防止形成湿气涡流的化学气相沉积蒸镀设备制造技术

技术编号:26553905 阅读:26 留言:0更新日期:2020-12-01 19:01
本实用新型专利技术公开了一种防止形成湿气涡流的化学气相沉积蒸镀设备,包括依次连接的进料门、材料蒸发池、材料裂解池、镀膜腔体,镀膜腔体依次通过管道连接冷阱、机械真空泵,镀膜腔体与冷阱之间的管道上连接慢开截止阀;在镀膜腔体和冷阱之间增加了可控慢开截止阀,将镀膜腔体抽真空的初始抽速降低,从而有效地避免了镀膜腔体压力陡然下降而造成的湿气涡旋,进而能够避免被镀湿度敏感器件被湿气涡流损坏的问题;通过真空计的反馈信号闭环控制镀膜腔体抽真空和破真空的整个过程,从而有利于实现各个阶段真空度和抽速的自动化控制,管道上缠绕的加热带控制管道温度,有效地避免出现抽真空通道被蒸镀材料堵塞的现象。

【技术实现步骤摘要】
一种防止形成湿气涡流的化学气相沉积蒸镀设备
本技术属于镀膜设备
,具体涉及一种防止形成湿气涡流的化学气相沉积蒸镀设备。
技术介绍
Parylene(派瑞林C)是对二甲苯化合物的环形二聚体,也是直链型聚对二甲苯的单体,在四十年代后期由英国曼彻斯特大学研究高分子的一位化学家首次分离出,后来UnionCarbide公司的科学家威廉戈罕开发了一种气相沉积方法来实现该材料成膜,Parylene及其成膜技术最早用于美国的军事和航天技术,到1990年代才开始民用化。派瑞林C是一种纳米结构的致密薄膜,因此,具有很多其他薄膜不具有的独特优点,如可以根据复杂表面的形态进行等厚度成膜从而形成完全敷型性,具有极低的水分子渗透率和良好的机械性能,因其特有的优越性能被广泛应用于各个领域,如医用材料、医疗器械、文物保护、稀土类磁石和其他有高度特性要求的电子部件。派瑞林C材料的化学气相沉积设备一般是由真空系统、材料热蒸发池、材料裂解池、沉积镀膜腔体组成;真空系统是由机械真空泵和冷阱组成。目前的派瑞林C材料化学气相沉积设备在初期抽真空阶段,由于机械真空泵的强大初始本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种防止形成湿气涡流的化学气相沉积蒸镀设备,其特征在于,包括依次连接材料蒸发池(1)、材料裂解池(2)、镀膜腔体(3),所述材料蒸发池(1)连接进料门(6),所述镀膜腔体(3)依次通过管道连接冷阱(4)、机械真空泵(5),所述镀膜腔体(3)与冷阱(4)之间的管道上连接慢开截止阀(13)。/n

【技术特征摘要】
1.一种防止形成湿气涡流的化学气相沉积蒸镀设备,其特征在于,包括依次连接材料蒸发池(1)、材料裂解池(2)、镀膜腔体(3),所述材料蒸发池(1)连接进料门(6),所述镀膜腔体(3)依次通过管道连接冷阱(4)、机械真空泵(5),所述镀膜腔体(3)与冷阱(4)之间的管道上连接慢开截止阀(13)。


2.根据权利要求1所述一种防止形成湿气涡流的化学气相沉积蒸镀设备,其特征在于,所述慢开截止阀(13)为电磁控制截止阀。


3.根据权利要求1所述一种防止形成湿气涡流的化学气相沉积蒸镀设备,其特征在于,所述冷阱(4)与机械真空泵(5)之间的管道上连接球阀(12)。


4.根据权利要求1所述一种防止形成湿气涡流的化学气相沉积蒸镀设备,其特征在于,所述镀膜腔体(3)与冷阱(4)之间的管道上还连接第二真空计(10)。


5.根据权利要求1所述一种防止形成湿气涡流的化学气相沉积蒸...

【专利技术属性】
技术研发人员:段明浩张哲白新愿
申请(专利权)人:西安瀚维光电科技有限公司
类型:新型
国别省市:陕西;61

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