一种镀膜设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种镀膜设备，其属于镀膜技术领域，包括沉积室、镀膜载具和测厚仪，沉积室具有仓门，仓门上设有透明视窗；镀膜载具包括：测厚仪固定结构，其位于沉积室外，测厚仪固定结构包括固定于仓门上的支撑组件和可滑动设置于支撑组件上的固定组件；固定架，其位于沉积室内并固定于透明视窗上，固定架对应测厚仪固定结构，固定架包括平行于透明视窗的第一表面；测厚仪设置于固定组件，测厚仪具有平行于透明视窗的镜片。本实用新型专利技术提供的镀膜设备能够实现在线检测膜厚，并能降低测厚仪相对于沉积室的仓门发生移动的几率，提高测厚仪测量检测片上膜层厚度的准确度及电子产品的品质。

【技术实现步骤摘要】
一种镀膜设备
本技术涉及镀膜
，尤其涉及一种镀膜设备。
技术介绍
化学气相沉积(chemicalvapordeposition；CVD)真空镀膜设备(以下简称为CVD设备)被广泛应用于集成电路等电子产品的制造过程中。其中，膜层生长速度(即镀膜速率)是CVD设备的关键工艺参数，其影响着电子产品的性能和质量，而镀膜速率与CVD设备的蒸发仓内的温度正相关。现有技术中，化学气相沉积设备是通过沉积室内的压力间接估算镀膜速率，在制程结束后通过离线测量的方式来检测膜厚。也有通过沉积室压力间接估算镀膜速率进而推算膜厚的方法，然而这须要通过大量实验建立压力与膜厚的对应关系，进而确定合适的工艺参数，此方法耗时耗力并且也无法实时监测镀膜制程中的实时速率和膜厚。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种镀膜设备，能够实现在线检测膜厚，并能降低测厚仪相对于沉积室的仓门发生移动的几率，提高测厚仪测量检测片上膜层厚度的准确度及电子产品的品质。如上构思，本技术所采用的技术方案是：一种镀膜设备，包括：>沉积室，具有仓门，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种镀膜设备，其特征在于，包括：/n沉积室，具有仓门(30)，所述仓门(30)上设有透明视窗(301)；/n镀膜载具(10)，包括：/n测厚仪固定结构(1)，其位于所述沉积室外，所述测厚仪固定结构(1)包括固定于所述仓门(30)上的支撑组件(11)和可滑动设置于所述支撑组件(11)上的固定组件(12)；/n固定架(2)，其位于所述沉积室内并固定于所述透明视窗(301)上，所述固定架(2)对应所述测厚仪固定结构(1)，所述固定架(2)包括平行于所述透明视窗(301)的第一表面(21)；/n测厚仪(20)，设置于所述固定组件(12)，所述测厚仪(20)具有平行于所述透明视窗(301)的镜片。/...

【技术特征摘要】
1.一种镀膜设备，其特征在于，包括：
沉积室，具有仓门(30)，所述仓门(30)上设有透明视窗(301)；
镀膜载具(10)，包括：
测厚仪固定结构(1)，其位于所述沉积室外，所述测厚仪固定结构(1)包括固定于所述仓门(30)上的支撑组件(11)和可滑动设置于所述支撑组件(11)上的固定组件(12)；
固定架(2)，其位于所述沉积室内并固定于所述透明视窗(301)上，所述固定架(2)对应所述测厚仪固定结构(1)，所述固定架(2)包括平行于所述透明视窗(301)的第一表面(21)；
测厚仪(20)，设置于所述固定组件(12)，所述测厚仪(20)具有平行于所述透明视窗(301)的镜片。


2.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述支撑组件(11)包括固定于所述仓门(30)上的连接底板(111)，分别与所述连接底板(111)两端连接的连接竖板(112)，两端分别与两个所述连接竖板(112)连接的连接顶板(113)，以及两端分别设置在两个所述连接竖板(112)上且能相对所述连接竖板(112)移动的调节板(114)，所述固定组件(12)滑动设置于所述调节板(114)上。


3.根据权利要求2所述的镀膜设备，其特征在于，所述支撑组件(11)还包括第一螺钉(115)，所述调节板(114)上具有沿所述调节板(114)长度方向延伸的第一腰型孔(1141)，所述固定组件(12)通过所述第一螺钉(115)滑动设置于所述第一腰型孔(1141)上。


4.根据权利要求3所述的镀膜设备，其特征在于，所述支撑组件(11)还包括两个第二螺钉(116)，所述连接竖板(112)的中部设有沿所述连接竖板(112)的长度方向延伸的第二腰型孔(1121)，所述调节板(114)的一端通过一个所述第二螺钉(116)滑动设置于一个所述连接竖板(112)上的所述第二腰型孔(1121)上...

【专利技术属性】
技术研发人员：王凯，张建飞，盛兆亚，宋文庆，
申请(专利权)人：苏州沃盾纳米科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32