镀膜装置制造方法及图纸

一种镀膜装置，其包括蒸发腔室以及固定在所述蒸发腔室的外表面上的支撑板，所述镀膜装置还包括与所述支撑板固定在一起的滑动元件以及与所述滑动元件相配合的导向元件，所述滑动元件能够在所述镀膜装置受热变形时沿平行于所述蒸发腔室的轴向的方向而相对所述导向元件移动，以补偿温度变形。

coating device

【技术实现步骤摘要】
镀膜装置
本技术涉及一种镀膜装置，属于气相沉积设备

技术介绍
气相沉积设备，例如化学气相沉积(CVD)设备，一般包括蒸发腔室、裂解腔室以及裂解加热单元。CVD设备在工作时，裂解腔室需要被加热至700℃左右，此温度下裂解腔室的轴向伸长将可多达10mm左右。与之相连的结构如果在轴向上没有伸缩的空间，可能导致与蒸发腔室和裂解腔室硬连接的密封法兰的气密性变差，破坏镀膜腔室的真空度。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种能够补偿温度变形的镀膜装置。为实现上述目的，本技术采用如下技术方案：一种镀膜装置，其包括蒸发腔室以及固定在所述蒸发腔室的外表面上的支撑板，所述镀膜装置还包括与所述支撑板固定在一起的滑动元件以及与所述滑动元件相配合的导向元件，所述滑动元件能够在所述镀膜装置受热变形时沿平行于所述蒸发腔室的轴向的方向而相对所述导向元件移动。作为本技术进一步改进的技术方案，所述滑动元件为滑动柱，所述滑动柱通过过盈配合固定在所述支撑板上。作为本技术进一步改进的技术方案，所述镀膜装置包括限位板，所述导向元件为设置在所述限位板上的狭槽。作为本技术进一步改进的技术方案，所述限位板包括上限位板以及下限位板，所述狭槽位于所述上限位板与所述下限位板之间。作为本技术进一步改进的技术方案，所述镀膜装置包括与所述限位板相配合的底部支撑板以及调整所述底部支撑板的纵向位置的调整螺钉。作为本技术进一步改进的技术方案，所述调整螺钉的数量为两个或者两个以上。作为本技术进一步改进的技术方案，所述导向元件为导向柱，所述滑动元件为套接在所述导向柱上的滑块，所述滑块设有让所述导向柱穿过的限位孔。作为本技术进一步改进的技术方案，所述导向元件为导轨，所述导轨设有限位槽；所述滑动元件为套接在所述导轨上且嵌设于所述限位槽中的滑块。作为本技术进一步改进的技术方案，所述镀膜装置包括与所述蒸发腔室相连的裂解腔室。作为本技术进一步改进的技术方案，所述蒸发腔室与所述裂解腔室通过密封法兰相连接。作为本技术进一步改进的技术方案，所述滑动柱仅有在平行于所述轴向的方向上的自由度。作为本技术进一步改进的技术方案，所述滑动柱的数量为两个或者两个以上。相较于现有技术，本技术通过设置滑动元件以及导向元件，所述滑动元件能够在所述镀膜装置受热变形时沿平行于所述蒸发腔室的轴向的方向而相对所述导向元件移动，以补偿温度变形。附图说明图1是本技术镀膜装置的立体图。图2是图1的主视图。图3是图1的右侧视图。图4是图3中画圈部分的局部放大图。图5是图1的部分立体分解图。图6是图5进一步的立体分解图。图7是图4另一实施方式中的示意图，其中滑动柱的数量为若干个。图8是图4再一实施方式中的示意图，其中滑动柱的形状为矩形。图9是图8另一实施方式中的示意图，其中上限位板与下限位板一体成型。图10是限位板与滑动块在另一实施方式中的示意图。图11是限位板与滑动块在再一实施方式中的示意图。图12是限位板与底部支撑板通过调整螺钉进行配合的示意图。具体实施方式请参图1至图6所示，本技术揭示了一种镀膜装置100，其能够应用于化学气相沉积(以下简称CVD)镀膜设备、物理气相沉积(以下简称PVD)镀膜设备或者其他的真空镀膜设备中。详细而言，所述镀膜装置100包括蒸发腔室1、与所述蒸发腔室1相连的裂解腔室(未图示)、固定在所述蒸发腔室1的外表面上的两个支撑板2、与每一个支撑板2固定在一起的滑动元件以及与所述滑动元件相配合的导向元件。在本技术的一种实施方式中，所述蒸发腔室1与所述裂解腔室通过密封法兰6(参图3所示)相连接。在本技术的一种实施方式中，所述滑动元件为滑动柱3，所述导向元件为狭槽4；所述滑动柱3通过过盈配合固定在所述支撑板2上；如此设置，所述蒸发腔室1、支撑板2以及滑动柱3形成一个整体，使得滑动柱3只保留平行于蒸发腔室1轴向的方向上的移动自由度，而无法沿着其他方向移动。所述滑动柱3能够在所述镀膜装置100受热变形时(尤其是裂解腔室受热变形时)沿平行于所述蒸发腔室1的轴向的方向(参图4中的箭头方向)而相对所述狭槽4移动，以补偿温度变形。具体而言，在本实施方式中，当所述镀膜装置100受热变形时，所述滑动柱3沿平行于所述蒸发腔室1的轴向的方向在所述狭槽4内滑动，而不会沿着其他方向移动。请参图4至图6所示，在本技术图示的实施方式中，所述镀膜装置100包括限位板5以及支撑所述限位板5的底部支撑板7。请参图4、图6至图8所示，在本专利技术的一些实施方式中，所述限位板5包括上限位板51以及下限位板52，所述底部支撑板7位于所述下限位板52的底部，所述狭槽4位于所述上限位板51与所述下限位板52之间。这样的设计使上限位板51和下限位板52各自的凹槽加工精度容易保证，且装配简便。优选地，上限位板51以及下限位板52对所述滑动柱3共同达成限位，使得所述滑动柱3仅有在平行于所述轴向的方向上的自由度，即蒸发腔室1、支撑板2、滑动柱3连成的整体只具有沿平行于所述轴向的方向的自由度；如此设置，当所述镀膜装置100受热变形时，所述蒸发腔室1只具有沿平行于所述轴向的方向的变形，所述蒸发腔室1并不会因为重力作用而同时产生重力方向上的变形，因而所述蒸发腔室1与所述裂解腔室之间可以保持优异的气密效果，不会因为所述蒸发腔室1在重力方向上的变形造成所述蒸发腔室1与所述裂解腔室在垂直方向上的错位而导致的气密性问题。此外，此设置也有利于对中调整支撑结构。在本技术的一种实施方式中，所述镀膜装置100包括调整底部支撑板7纵向位置的调整螺钉8。请参图12所示，所述底部支撑板7用以与所述下限位板52相配合。所述纵向为在水平面内垂直于蒸发腔室1轴向的方向。所述调整螺钉8的数量为若干个(大于等于两个)，通过调整螺钉8可以对蒸发腔室1的纵向安装位置进行微调，便于调整蒸发腔室1和裂解腔室的法兰对中。请参图4所示，在本技术的一种实施方式中，所述滑动柱3的数量为一个。当然，所属
的技术人员可以理解，所述滑动柱3的数量并不限于此，其也可以为两个或者两个以上。例如，请参图7所示，其显示了滑动柱3数量为两个的实施方式。请参图4所示，在本技术的一种实施方式中，所述狭槽4的两端分别是半圆形，而狭槽4的中间段为矩形，然而本技术并不限于此。在图8、图9的实施方式中，所述狭槽4也可以是矩形。请参图4、图6至图8所示，在本技术图示的一些实施方式中，上限位板51以及下限位板52是分体式的结构。然而本技术并不限于此。在图9所示的实施方式中，上限位板51以及下限位板52也可以是一体成形的结构，即限位板5为一块板。请参图10所示，在本技术的另一实施方式中，所述导向元件为导向柱54，其中所述限位板5设有狭槽4，所述本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种镀膜装置(100)，其包括蒸发腔室(1)以及固定在所述蒸发腔室(1)的外表面上的支撑板(2)，其特征在于，所述镀膜装置(100)还包括与所述支撑板(2)固定在一起的滑动元件以及与所述滑动元件相配合的导向元件，所述滑动元件能够在所述镀膜装置(100)受热变形时沿平行于所述蒸发腔室(1)的轴向的方向而相对于所述导向元件移动。/n

【技术特征摘要】
1.一种镀膜装置(100)，其包括蒸发腔室(1)以及固定在所述蒸发腔室(1)的外表面上的支撑板(2)，其特征在于，所述镀膜装置(100)还包括与所述支撑板(2)固定在一起的滑动元件以及与所述滑动元件相配合的导向元件，所述滑动元件能够在所述镀膜装置(100)受热变形时沿平行于所述蒸发腔室(1)的轴向的方向而相对于所述导向元件移动。


2.如权利要求1所述的镀膜装置(100)，其特征在于：所述滑动元件为滑动柱(3)，所述滑动柱(3)通过过盈配合固定在所述支撑板(2)上。


3.如权利要求2所述的镀膜装置(100)，其特征在于：所述镀膜装置(100)包括限位板(5)，所述导向元件为设置在所述限位板(5)上的狭槽(4)。


4.如权利要求3所述的镀膜装置(100)，其特征在于：所述限位板(5)包括上限位板(51)以及下限位板(52)，所述狭槽(4)位于所述上限位板(51)与所述下限位板(52)之间。


5.如权利要求3所述的镀膜装置(100)，其特征在于：所述镀膜装置(100)包括与所述限位板(5)相配合的底部支撑板(7)以及调整所述底部支撑板(7)的纵向位置的调整螺钉(8)。


6.如权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：王凯，何宝东，宋文庆，张建飞，
申请(专利权)人：苏州沃盾纳米科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32