真空室内框架监控装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了真空室内框架监控装置，包括固定在框架(2)底部的射频芯片(3)、及固定在真空室(1)底部的射频芯片读写器(4)，所述射频芯片读写器(4)经套封(5)固定在所述真空室(1)底部的外壁上，所述套封(5)与所述真空室(1)的外壁密封配合。本实用新型专利技术提供的真空室内框架监控装置，可监控真空室内框架的状态，提高生产效率。

【技术实现步骤摘要】
真空室内框架监控装置
本技术涉及磁控溅射
，特别涉及一种真空室内框架监控装置。
技术介绍
磁控溅射技术目前国内外已非常常见，它能制造各种功能性薄膜产品。随着磁控溅射的普及，客户对磁控溅射的均匀性、可靠性的要求也越来越高。进而对磁控溅射的设备要求也越来越高。而镀膜稳定性又是最基本的要求。框架是镀膜基片的载体，框架行进的稳定有利于提高基片镀膜的均匀性，以及工艺的稳定性。因而框架监控的重要性也不言而喻。市面上大部分镀膜线采用3种框架监控模式：一是观测孔进行监测，这种监测方式比较主观，一般大的异常容易发现，但小异常无法判别，而且时间长了观测孔易被镀上膜而看不清，失去监控意义；第二种是在进出口室安装框架传感器，能解决框架信息读取，从而实现框架计数与框架使用次数的问题，但无法准确记录在真空室的信息；第三种是在真空室内布置的位置传感器，但它又只能监控位置，无法与框架编号进行匹配。如上三种方案均存在不同程度的缺陷。
技术实现思路
本技术目的是提供一种真空室内框架监控装置，可监控真空室内框架的状态。>基于上述问题，本技本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.真空室内框架监控装置，其特征在于：包括固定在框架(2)底部的射频芯片(3)、及固定在真空室(1)底部的射频芯片读写器(4)，所述射频芯片读写器(4)经套封(5)固定在所述真空室(1)底部的外壁上，所述套封(5)与所述真空室(1)的外壁密封配合。/n

【技术特征摘要】
1.真空室内框架监控装置，其特征在于：包括固定在框架(2)底部的射频芯片(3)、及固定在真空室(1)底部的射频芯片读写器(4)，所述射频芯片读写器(4)经套封(5)固定在所述真空室(1)底部的外壁上，所述套封(5)与所述真空室(1)的外壁密封配合。


2.根据权利要求1所述的真空室内框架监控装置，其特征在于：所述套封(5)包括穿设在所述真空室(1)的外壁上且延伸至所述真空室(1)内部的筒状部(5-1)、及贴合在所述真空室(1)外壁上的盘状部(5-2)，所述筒状部(5-1)与所述盘状部(5-2)一体设置，所述套封(5)具有容置所述射频芯片读写器(4)的容纳腔，所述容纳腔内端封闭且外端延伸至所述盘状部(5-2)外端。


3.根据权利要求2所述的真空室内框架监控装置，其特征在于：所述盘状部(5-2)的外侧设有压板(6)，所述压板(6)固定在所述真空室(1)的外壁上，所述压板(6)的中部设有...

【专利技术属性】
技术研发人员：关治军，朱安秋，
申请(专利权)人：苏州胜利精密制造科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32