【技术实现步骤摘要】
耐脏污膜层、电子设备工件、显示屏、壳体以及电子设备本申请要求于2019年05月27日提交中国国知局,申请号为201910443530.6,专利技术名称为“具有超疏耐脏污膜层的外观件及其制备方法和终端”的中国专利申请的优先权,其全部内容通过引用结合在本申请中。
本申请涉及工件表面处理
,具体涉及一种耐脏污膜层、一种电子设备工件、一种显示屏、一种壳体,以及一种电子设备。
技术介绍
手机等电子产品的某些工件(例如手机触摸屏、电池盖等)局部或者全部暴露在外界环境中,能够与外界接触。在电子产品的日常使用过程中,电子产品的这些工件表面易粘附脏污与指纹。脏污与指纹不易擦拭,严重影响用户体验。针对该问题,业界通常在电子产品的工件上(例如手机盖板的外表面等)通过镀膜、喷涂、淋涂、涂布等方式形成耐脏污膜层。一般的耐脏污膜层的材质采用全氟聚醚硅氧烷,其表面能较高,约为13mN/m-15mN/m,表面的水接触角<120°,油接触角<90°。对于耐脏污膜层来说,膜层表面能越低,水接触角越大,油接触角越大,那么膜层的耐脏污性能就越 ...
【技术保护点】
1.一种耐脏污膜层,其特征在于,包括亲油膜层和疏油膜层,所述疏油膜层将所述亲油膜层分隔成多个亲油膜层的组成单元,所述亲油膜层的组成单元的尺寸处于纳米或微米级别。/n
【技术特征摘要】
20190527 CN 20191044353061.一种耐脏污膜层,其特征在于,包括亲油膜层和疏油膜层,所述疏油膜层将所述亲油膜层分隔成多个亲油膜层的组成单元,所述亲油膜层的组成单元的尺寸处于纳米或微米级别。
2.根据权利要求1所述的耐脏污膜层,其特征在于,所述亲油膜层的组成单元的尺寸处于10nm-50μm之间。
3.根据权利要求1或2所述的耐脏污膜层,其特征在于,所述亲油膜层的组成单元的形状为规则或不规则形状。
4.根据权利要求1-3任一项所述的耐脏污膜层,其特征在于,所述疏油膜层为连续相或非连续相。
5.根据权利要求4所述的耐脏污膜层,其特征在于,当所述疏油膜层为非连续相时,所述疏油膜层的组成单元的尺寸均处于10nm-50μm之间。
6.根据权利要求1-5任一项所述的耐脏污膜层,其特征在于,所述亲油膜层的厚度为5-100nm;和/或,所述疏油膜层的厚度为5-100nm。
7.根据权利要求6所述的耐脏污膜层,其特征在于,所述亲油膜层与所述疏油膜层的厚度差小于50nm。
8.根据权利要求1-7任一项所述的耐脏污膜层,其特征在于,所述亲油膜层的材料包括脂肪族硅氧烷类化合物I中的一种或多种,所述脂肪族硅氧烷类化合物I的结构通式为:
其中,a为0-17,b为0-10,c为0-10;
R1、R2、R3、R4均分别为甲基、乙基、丁基和芳烃支链中的任一种;所述芳烃支链为包含至少一个芳香烃的支链。
9.根据权利要求8所述的耐脏污膜层,其特征在于,所述脂肪族硅氧烷类化合物I为甲基三甲氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、正丙基三甲氧基硅烷、异丁基三甲氧基硅烷、十二烷基三甲氧基硅烷、十六烷基三甲氧基硅烷、十八烷基三甲氧基硅烷或四乙氧基硅烷。
10.根据权利要求1-9任一项所述的耐脏污膜层,其特征在于,所述疏油膜层的材料包括:含全氟聚醚或全氟烷基的硅烷。
11.根据权利要求10所述的耐脏污膜层,其特征在于,所述含全氟聚醚或全氟烷基的硅烷的分子量为190g/mol-8000g/mol。
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