本申请实施例提供一种耐脏污膜层、一种电子设备工件、一种显示屏、一种壳体，以及一种电子设备。该耐脏污膜层包括亲油膜层和疏油膜层，所述疏油膜层将所述亲油膜层分隔成多个亲油膜层的组成单元，所述亲油膜层的组成单元的尺寸处于纳米或微米级别。在上述技术方案中，通过对亲油膜层和疏油膜层的结构进行调控，从而使耐脏污膜层具有较好的耐脏污性能。此外，该耐脏污膜层还具有较好的耐磨性能和光学性能。
【技术实现步骤摘要】
耐脏污膜层、电子设备工件、显示屏、壳体以及电子设备本申请要求于2019年05月27日提交中国国知局，申请号为201910443530.6，专利技术名称为“具有超疏耐脏污膜层的外观件及其制备方法和终端”的中国专利申请的优先权，其全部内容通过引用结合在本申请中。
本申请涉及工件表面处理
，具体涉及一种耐脏污膜层、一种电子设备工件、一种显示屏、一种壳体，以及一种电子设备。
技术介绍
手机等电子产品的某些工件(例如手机触摸屏、电池盖等)局部或者全部暴露在外界环境中，能够与外界接触。在电子产品的日常使用过程中，电子产品的这些工件表面易粘附脏污与指纹。脏污与指纹不易擦拭，严重影响用户体验。针对该问题，业界通常在电子产品的工件上(例如手机盖板的外表面等)通过镀膜、喷涂、淋涂、涂布等方式形成耐脏污膜层。一般的耐脏污膜层的材质采用全氟聚醚硅氧烷，其表面能较高，约为13mN/m-15mN/m，表面的水接触角＜120°，油接触角＜90°。对于耐脏污膜层来说，膜层表面能越低，水接触角越大，油接触角越大，那么膜层的耐脏污性能就越好。而采用全氟聚醚硅氧烷的耐脏污膜层的表面能依然较高，水接触角和油接触角依然较小，导致电子产品在使用过程中仍然存在脏污问题。因此，耐脏污膜层的耐脏污性能有待进一步提高，这是本领域技术人员亟待解决的问题。
技术实现思路
本申请提供一种耐脏污膜层，该耐脏污膜层包括亲油膜层和疏油膜层，通过对亲油膜层和疏油膜层的结构进行调控，从而使耐脏污膜层具有较好的耐脏污性能。此外，该耐脏污膜层还具有较好的耐磨性能和光学性能。第一方面，本申请提供一种耐脏污膜层，包括亲油膜层和疏油膜层，所述疏油膜层将所述亲油膜层分隔成多个亲油膜层的组成单元，所述亲油膜层的组成单元的尺寸处于纳米或微米级别。采用本实现方式，油污等会优先分布在亲油膜层的组成单元上，但又由于亲油膜层的组成单元的尺寸很小，导致油污无法在亲油膜层的组成单元上稳定地停留，从而使该耐脏污膜层具有较好的耐脏污性能。此外，该耐脏污膜层还具有较好的耐磨性能和光学性能。结合第一方面，在第一方面第一种可能的实现方式中，所述亲油膜层的组成单元的尺寸处于10nm-50μm之间。采用本实现方式，当亲油膜层的组成单元的尺寸处于10nm-50μm之间时，整个耐脏污膜层的耐脏污性能相对更好。结合第一方面及第一方面的第一种可能的实现方式，在第一方面第二种可能的实现方式中，所述亲油膜层的组成单元的形状为规则或不规则形状。采用本实现方式，无论亲油膜层的组成单元为规则形状还是不规则形状，该耐脏污膜层都可以具有较好的耐脏污性能，形状的任意性有利于耐脏污膜层的结构设计和工业化生产。结合第一方面及第一方面的第一至第二种可能的实现方式，在第一方面第三种可能的实现方式中，所述疏油膜层为连续相或非连续相。采用本实现方式，无论疏油膜层为连续相或者非连续相，该耐脏污膜层都可以具有较好的耐脏污性能，便于耐脏污膜层的工业化生产。结合第一方面的第三种可能的实现方式，在第一方面第四种可能的实现方式中，当所述疏油膜层为非连续相时，所述疏油膜层的组成单元的尺寸均处于10nm-50μm之间。采用本实现方式，当疏油膜层的组成单元的尺寸处于10nm-50μm时，整个耐脏污膜层的耐脏污性能相对更好。结合第一方面及第一方面的第一至第四种可能的实现方式，在第一方面第五种可能的实现方式中，所述亲油膜层的厚度为5-100nm；和/或，所述疏油膜层的厚度为5-100nm。采用本实现方式，当疏油膜层和/或疏油膜层的厚度处于上述范围时，整个耐脏污膜层的耐脏污性能相对更好，并且也便于耐脏污膜层的工业化生产。结合第一方面的第五种可能的实现方式，在第一方面第六种可能的实现方式中，所述亲油膜层与所述疏油膜层的厚度差小于50nm。采用本实现方式，采用本实现方式，当疏油膜层和疏油膜层的厚度差处于上述范围时，整个耐脏污膜层的耐脏污性能相对更好，并且也便于耐脏污膜层的工业化生产。结合第一方面及第一方面的第一至第六种可能的实现方式，在第一方面第七种可能的实现方式中，所述亲油膜层的材料包括脂肪族硅氧烷类化合物I中的一种或多种，所述脂肪族硅氧烷类化合物I的结构通式为：其中，a为0-17，b为0-10，c为0-10；R1、R2、R3、R4均分别为甲基、乙基、丁基和芳烃支链中的任一种；所述芳烃支链为包含至少一个芳香烃的支链。采用本实现方式，该耐脏污膜层具有较好的耐脏污性能、耐磨性能和光学性能。结合第一方面的第七种可能的实现方式，在第一方面第八种可能的实现方式中，所述脂肪族硅氧烷类化合物I为甲基三甲氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、正丙基三甲氧基硅烷、异丁基三甲氧基硅烷、十二烷基三甲氧基硅烷、十六烷基三甲氧基硅烷、十八烷基三甲氧基硅烷或四乙氧基硅烷。采用本实现方式，该耐脏污膜层具有较好的耐脏污性能、耐磨性能和光学性能。结合第一方面及第一方面的第一至第八种可能的实现方式，在第一方面第九种可能的实现方式中，所述疏油膜层的材料包括：含全氟聚醚或全氟烷基的硅烷。采用本实现方式，该耐脏污膜层具有较好的耐脏污性能、耐磨性能和光学性能。结合第一方面的第九种可能的实现方式，在第一方面第十种可能的实现方式中，所述含全氟聚醚或全氟烷基的硅烷的分子量为190g/mol-8000g/mol。采用本实现方式，当疏油膜层的材料的分子量处于上述范围之内时，该耐脏污膜层具有较好的耐脏污性能、耐磨性能和光学性能。结合第一方面及第一方面的第一至第十种可能的实现方式，在第一方面第十一种可能的实现方式中，所述亲油膜层的正己烷接触角＜40°；和/或，所述疏油膜层的正己烷接触角＞50°。采用满足上述正己烷接触角要求的亲油材料和疏油材料来分别形成亲油膜层和疏油膜层，有利于形成耐脏污性能较好的耐脏污膜。结合第一方面及第一方面的第一至第十一种可能的实现方式，在第一方面第十二种可能的实现方式中，所述耐脏污膜层的水接触角＞104°。结合第一方面及第一方面的第一至第十二种可能的实现方式，在第一方面第十三种可能的实现方式中，所述耐脏污膜层的橡皮摩擦后水接触角＞45°。结合第一方面及第一方面的第一至第十三种可能的实现方式，在第一方面第十四种可能的实现方式中，所述耐脏污膜层的可见光透过率＞88％。第二方面，本申请提供一种耐脏污膜层的制备方法，包括：在基材表面形成亲油膜层；在所述亲油膜层上设置遮蔽层，其中，所述遮蔽层包括遮蔽区域和未遮蔽区域，所述未遮蔽区域将所述遮蔽区域分隔成多个遮蔽单元，所述遮蔽单元的尺寸处于纳米或微米级别；去除所述未遮蔽区域中的亲油膜层；在所述未遮蔽区域中的所述基材表面形成疏油膜层；去除所述遮蔽层，得到耐脏污膜层。采用本实现方式，可以制备得到具有较好的耐脏污性能、耐磨性能和光学性能的耐脏污膜层。并且，该方法工艺较为简单，适合工业化量产。结合第二方面，在第二方面第一种可能的实现方式中，所述遮蔽单元的尺寸处于10nm-50本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种耐脏污膜层，其特征在于，包括亲油膜层和疏油膜层，所述疏油膜层将所述亲油膜层分隔成多个亲油膜层的组成单元，所述亲油膜层的组成单元的尺寸处于纳米或微米级别。/n
【技术特征摘要】
20190527 CN 20191044353061.一种耐脏污膜层，其特征在于，包括亲油膜层和疏油膜层，所述疏油膜层将所述亲油膜层分隔成多个亲油膜层的组成单元，所述亲油膜层的组成单元的尺寸处于纳米或微米级别。
2.根据权利要求1所述的耐脏污膜层，其特征在于，所述亲油膜层的组成单元的尺寸处于10nm-50μm之间。
3.根据权利要求1或2所述的耐脏污膜层，其特征在于，所述亲油膜层的组成单元的形状为规则或不规则形状。
4.根据权利要求1-3任一项所述的耐脏污膜层，其特征在于，所述疏油膜层为连续相或非连续相。
5.根据权利要求4所述的耐脏污膜层，其特征在于，当所述疏油膜层为非连续相时，所述疏油膜层的组成单元的尺寸均处于10nm-50μm之间。
6.根据权利要求1-5任一项所述的耐脏污膜层，其特征在于，所述亲油膜层的厚度为5-100nm；和/或，所述疏油膜层的厚度为5-100nm。
7.根据权利要求6所述的耐脏污膜层，其特征在于，所述亲油膜层与所述疏油膜层的厚度差小于50nm。
8.根据权利要求1-7任一项所述的耐脏污膜层，其特征在于，所述亲油膜层的材料包括脂肪族硅氧烷类化合物I中的一种或多种，所述脂肪族硅氧烷类化合物I的结构通式为：
其中，a为0-17，b为0-10，c为0-10；
R1、R2、R3、R4均分别为甲基、乙基、丁基和芳烃支链中的任一种；所述芳烃支链为包含至少一个芳香烃的支链。
9.根据权利要求8所述的耐脏污膜层，其特征在于，所述脂肪族硅氧烷类化合物I为甲基三甲氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、正丙基三甲氧基硅烷、异丁基三甲氧基硅烷、十二烷基三甲氧基硅烷、十六烷基三甲氧基硅烷、十八烷基三甲氧基硅烷或四乙氧基硅烷。
10.根据权利要求1-9任一项所述的耐脏污膜层，其特征在于，所述疏油膜层的材料包括：含全氟聚醚或全氟烷基的硅烷。
11.根据权利要求10所述的耐脏污膜层，其特征在于，所述含全氟聚醚或全氟烷基的硅烷的分子量为190g/mol-8000g/mol。
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【专利技术属性】
技术研发人员：庞欢，黄义宏，
申请(专利权)人：华为技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44
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