掩膜板装置、显示器、曝光机制造方法及图纸

本申请公开了一种掩膜板装置、显示器、曝光机。掩膜板装置包括掩膜板、挡板、至少一刻度尺以及至少一遮光带；刻度尺设于相邻两个曝光区域之间，用于确认首次曝光时挡板遮挡掩膜板的位置；遮光带呈矩形长条，设于掩膜板上且位于刻度尺的一侧，用于机台自动识别第二次及第二次以后曝光时挡板遮挡掩膜板的位置。本申请通过在现有挡板位置监控标志旁增加一个矩形条状遮光带，其不必保留遮光带要保护的图形，即可实现机台自动识别第二次及第二次以后曝光时挡板遮挡掩膜板的位置，从而提高识别精度，减少识别误差，并能提高生产效率。

【技术实现步骤摘要】
掩膜板装置、显示器、曝光机
本申请涉及显示面板制作
，尤其涉及掩膜板装置、显示器、曝光机。
技术介绍
使用掩膜板(mask)在玻璃基板上制作图形时，由于每一次曝光不需要用到掩膜板所有区域，因此要使用挡板对掩膜板上下左右的非曝光区域进行遮挡。在产线实际生产时，会在四方挡板设定位置分别摆放挡板位置监控标志(Maskbladeaccuracyverniermark，MBmark)，来监控挡板位置精度。图1为目前业内使用的挡板位置监控标志的平面结构示意图，如图1所示，挡板位置监控标志90为带有刻度条状的标识，包括间隔设置的第一金属层标识91、第二金属层标识92、过孔标识93、氧化铟锡层标识94，用于分别形成阵列基板上的栅极、源漏极、走线过孔、阳极等结构。其使用方式是通过拍照，人眼读取照片中挡板所在位置的刻度，但是人眼识别精度低，识别误差高。
技术实现思路
本申请实施例提供一种掩膜板装置、显示器、曝光机，可以解决现有挡板位置监控标志需要全程人眼读取曝光时挡板所在位置的刻度，而人眼识别精度低、识别误差高的技术问题。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩膜板装置，其特征在于，包括：/n掩膜板，其内设置有若干曝光区域；/n挡板，环绕所述掩膜板设置，并用于遮挡所述掩膜板的非曝光区域；/n至少一刻度尺，设于相邻两个所述曝光区域之间，用于确认首次曝光时所述挡板遮挡所述掩膜板的位置；/n至少一遮光带，呈矩形长条，设于所述掩膜板上且位于所述刻度尺的一侧，用于机台自动识别第二次及第二次以后曝光时所述挡板遮挡所述掩膜板的位置。/n

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板装置，其特征在于，包括：
掩膜板，其内设置有若干曝光区域；
挡板，环绕所述掩膜板设置，并用于遮挡所述掩膜板的非曝光区域；
至少一刻度尺，设于相邻两个所述曝光区域之间，用于确认首次曝光时所述挡板遮挡所述掩膜板的位置；
至少一遮光带，呈矩形长条，设于所述掩膜板上且位于所述刻度尺的一侧，用于机台自动识别第二次及第二次以后曝光时所述挡板遮挡所述掩膜板的位置。


2.如权利要求1所述的掩膜板装置，其特征在于，相邻两个所述曝光区域之间相互重叠形成一重叠曝光区，所述遮光带位于所述重叠曝光区内。


3.如权利要求1所述的掩膜板装置，其特征在于，所述遮光带设置于所述曝光区域的四角位置。


4.如权利要求1所述的掩膜板装置，其特征在于，所述遮光带的材质包括不透光金属，所述不透光金属包括铬。


5.如权利要求1所述的掩膜板装置，其特征在于，所述遮光带包括间隔设置的第一金属层标识、第二金属层标识、过孔标识以及氧化铟锡层标识。


6.如权利要求5所述的掩膜板装置，其特征在于，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：邓帆，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44