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本申请公开了一种掩膜板装置、显示器、曝光机。掩膜板装置包括掩膜板、挡板、至少一刻度尺以及至少一遮光带;刻度尺设于相邻两个曝光区域之间,用于确认首次曝光时挡板遮挡掩膜板的位置;遮光带呈矩形长条,设于掩膜板上且位于刻度尺的一侧,用于机台自动识别...该专利属于深圳市华星光电半导体显示技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过深圳市华星光电半导体显示技术有限公司授权不得商用。
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本申请公开了一种掩膜板装置、显示器、曝光机。掩膜板装置包括掩膜板、挡板、至少一刻度尺以及至少一遮光带;刻度尺设于相邻两个曝光区域之间,用于确认首次曝光时挡板遮挡掩膜板的位置;遮光带呈矩形长条,设于掩膜板上且位于刻度尺的一侧,用于机台自动识别...