用于化学沉积的上部电极制造技术

技术编号:26420714 阅读:28 留言:0更新日期:2020-11-20 14:16
本实用新型专利技术公开了一种用于化学沉积的上部电极,包括呈板状结构的本体,该本体上具有均匀分布的气孔,所述气孔贯穿本体的厚度方向两侧,所述气孔包括从上至下同轴设置的保压段、增压段和释放段,其中保压段和增压段均呈圆柱状,且保压段直径大于增压段直径,所述增压段呈下大上小的圆台状结构。通过改变上部电极气孔形状和分布方式,同时优化气孔各部分尺寸,最终达到增加气孔缓冲气量,确保各出气口端出气充足且均匀,同时保证气体扩散覆盖面积,提高产品表面膜质均匀性的目的,改善产品良品率。

【技术实现步骤摘要】
用于化学沉积的上部电极
本技术涉及化学气相沉积(CVD)设备领域,其用于在基板表面沉积所需的薄膜,具体涉及一种用于化学沉积的上部电极。
技术介绍
在进行液晶显示屏等类型产品的生产开发时,通常会采用化学气相沉积方法在其表面形成所需的薄膜,该工艺通常在专用的工序腔中完成,工序腔中除了用于固定产品的承载平台之外,还有与承载平台对应设置的上部电极,上部电极上分布有气孔,而工序腔中在上部电极的上方则设有导气板,化学沉积气体通过设置在导气板内的主孔道,再经由安装在主孔道端部的导向结构向四周扩散,最终通过上部电极上的气孔后沉积到产品的表面,然而因为现有上部电极上的气孔多为标准柱孔结构,各气孔内有效缓冲气量较少,且因为采用同尺寸标准设计,直接导致沉积到产品上的薄膜质量不均匀,产品中部薄膜明显比外侧的要厚,大大降低了产品质量。
技术实现思路
为解决上述问题,本技术提供了一种用于化学沉积的上部电极,可有效增加气体流动时的缓冲气量,提高出气量均匀性,有利于在产品表面形成均匀膜质,提高产品质量。为实现上述目的,本技术技术方案如下:一种用本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于化学沉积的上部电极,包括呈板状结构的本体(2),该本体(2)上具有均匀分布的气孔(20),所述气孔(20)贯穿本体(2)的厚度方向两侧,其特征在于:所述气孔(20)包括从上至下同轴设置的保压段(200)、增压段(201)和释放段(202),其中保压段(200)和增压段(201)均呈圆柱状,且保压段(200)直径大于增压段(201)直径,所述增压段(201)呈下大上小的圆台状结构。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于化学沉积的上部电极,包括呈板状结构的本体(2),该本体(2)上具有均匀分布的气孔(20),所述气孔(20)贯穿本体(2)的厚度方向两侧,其特征在于:所述气孔(20)包括从上至下同轴设置的保压段(200)、增压段(201)和释放段(202),其中保压段(200)和增压段(201)均呈圆柱状,且保压段(200)直径大于增压段(201)直径,所述增压段(201)呈下大上小的圆台状结构。


2.根据权利要求1所述的用于化学沉积的上部电极,其特征在于:所述本体(2)的厚度为30.3mm-30.7mm,增压段(201)长度为1.9mm-2.1mm,释放段(202)的长度为7.8mm-8mm,其中增压段(201)的直径为...

【专利技术属性】
技术研发人员:李东一梁君
申请(专利权)人:重庆臻宝实业有限公司
类型:新型
国别省市:重庆;50

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