用于HDI板和载板的盲孔填孔电镀铜溶液制造技术

本发明专利技术公开了一种用于HDI板和载板的盲孔填孔电镀铜溶液，电镀铜溶液包括以下浓度的组分：五水硫酸铜：150‑200g/L；硫酸(98％)：40‑80g/L；氯离子：30‑70mg/L；光亮剂:0.5‑4mg/L；润湿剂：200‑500mg/L；整平剂：5‑30mg/L；新添加剂：30‑100mg/L；去离子水：余量；将上述的组分按照浓度混合后形成该电镀铜溶液，该电镀铜溶液电镀时先将电镀槽用Dummy片电解至2AH/L，再用电流密度在1‑3A/dm

【技术实现步骤摘要】
用于HDI板和载板的盲孔填孔电镀铜溶液
本专利技术涉及材料电化学领域，尤其涉及一种用于HDI板和载板的盲孔填孔电镀铜溶液。
技术介绍
印制线路板(PCB)是一种组装电子零件用的基板，在通用基材上按预定设计形成点间连接及印制元件。该产品的主要功能是使各种电子零组件形成预定电路的连接，起中继传输的作用。印制线路板产品是现代信息社会离不开的基础基材，广泛应用在我们生活的各个方面。电子产品的微型化、多功能化推动了印制电路板(PCB)朝线路精细化、小孔微型化的方向发展，其主流产品为HDI(高密度互连)板和IC(集成电路)基板。为满足HDI及IC基板的高密度、高集成化要求，PCB制造业开创了电镀填孔技术。随着盲孔填孔技术需求的提高，盲孔电镀的技术中电镀工艺的改进以及电镀添加剂的选择尤为重要，电镀生产线从过去效率较低的垂直连续电镀生产线，更新到效率极高的水平式电镀生产线，每一步都对盲孔镀铜技术产生了深远的影响。盲孔镀铜添加剂种类的增加以及各种添加剂新组合的不断发现与发展可以提高盲孔填孔的填孔效果以及使用寿命。目前国内的盲孔填孔技术主要的药水提供商还是由国外市场垄断，主要的问题在于药水的可靠性以及槽液寿命相对稳定，国内的药水供应商尚需要在药水配方上加以改进。经实验测试发现，通常来说，适当的药水添加剂配方配合适当的电流密度大部分都可以令药水完整填充，达到性能要求，但是问题在于测试板连续电镀几片后槽液便会失效，无法令孔内完整填充，因此可靠性大大降低，不能达到至少6个月的槽液寿命。造成此原因主要由以下几点原因：第一，添加剂补充分析手段不足导致的添加剂比例失衡，通常来说，溶液中的硫酸铜，硫酸以及氯离子浓度可以由常规检测方法来判定，添加剂浓度需要由CVS分析来判定溶液中损失的程度，但是这只是最基础的补加方案，往往还需要通过打哈氏片的方法来判定溶液中光亮剂的范围，这个是大部分容易忽视的点。第二，随着电镀制程的进行，槽液中不只有原始的开缸组分，还会因为添加剂分解或者磷铜阳极电解产生的一价铜离子影响，其中，添加剂分解通常认为是光亮剂分解的副产物，会取代盲孔填充光亮剂的作用导致盲孔填充不良；一价铜离子一般认为与氯离子结合形成氯化亚铜吸附在阴极镀片表面，影响填孔效果。鉴于上述问题，通常有以下几种办法处理，其中，添加剂分解造成的副产物其实也是氧化还原反应造成，以常用的光亮剂聚二硫二丙烷磺酸钠(SPS)为例，电解过程中是由SPS得到电子生成MPS的过程，那么加入合适的还原剂便有可能阻止大量的副产物产生，同时还可以通过合适的电流密度电解一段时间后，可以降低溶液中的金属杂质，亦可以令副产物达到一定的平衡后调试其余添加剂的浓度范围，借此延长槽液寿命。对于一价铜离子的去除方法在专利CN201610673904和CN201811004521中均有介绍可以采用甲醛等物质将一价铜离子还原为二价铜离子的方法，此外文献中也有描述磷铜阳极膜亦可以阻挡一价铜离子进入槽液中，因此在电镀槽进行做板前最好先电解一段时间后再进行操作。因此急需寻找一种或多种物质解决电镀槽液中副产物导致的填孔效果不良的问题，可以增强电镀槽液的可靠性以及槽液寿命。
技术实现思路
针对上述技术中存在的不足之处，本专利技术提供一种用于HDI板和载板的盲孔填孔电镀铜溶液，该溶液解决现有盲孔电镀工艺中电镀可靠性低，槽液寿命短等缺陷，采用添加新添加剂的方法提高槽液稳定性，可以令盲孔镀层深镀能力较好，填孔率优良，无空洞，无夹缝，面铜较薄，表面光亮，可以有效防止因为盲孔空洞或者等壁生长导致信号传输不稳定、电阻大、功率损耗过多等缺点，进一步提高电子产品的可靠性。为实现上述目的，本专利技术提供一种用于HDI板和载板的盲孔填孔电镀铜溶液包括以下浓度的组分：五水硫酸铜：150-200g/L硫酸(98％)：40-80g/L氯离子：30-70mg/L光亮剂:0.5-4mg/L润湿剂：200-500mg/L整平剂：5-30mg/L新添加剂：30-100mg/L去离子水：余量；将上述的组分按照浓度混合后形成该电镀铜溶液，该电镀铜溶液电镀时先将电镀槽用Dummy片电解至2AH/L，再用电流密度在1-3A/dm2之间进行电镀，温度在15-35℃之间，循环速率2-8TurnOver/H。其中，所述新添加剂优先的浓度为40-50mg/L；其可以由正丙醇胺、六次甲基四胺、乙二胺四乙酸，葡萄糖酸钾中的一种或多种搭配使用；此物质属于弱整平剂，加入该物质后可以同槽液中的整平剂联合作用，加强吸附在盲孔表面和孔内，减弱光亮剂副产物的产生，明显提高槽液的电镀寿命，电镀100AH/L后通过补加新添加剂仍然可以保持盲孔填充电镀效果。其中，所述整平剂优先的浓度为10-20mg/L；其可以由二苯甲烷染料(碱性槐黄)，N-烷基邻苯二甲酰亚胺，噻唑啉基二硫代丙烷磺酸钠(SH110)，丽春红2R中的一种或多种搭配使用。其中，所述润湿剂优先的浓度为300-400mg/L；其可以由十二烷基磺酸钠，月桂醇硫酸钠，聚乙烯亚胺中的一种或多种搭配使用。其中，所述光亮剂优先的浓度为1-2mg/L。其可以由木质素磺酸钠，2-甲酰苯基磺酸钠盐，苯乙烯磺酸钠，1-辛烷磺酸钠中的一种或多种搭配使用。其中，所述氯离子优先的浓度为40-60mg/L，氯离子由氯化铜、氯化钠或盐酸中的一种或多种提供；所述硫酸优先的浓度为50-70g/L；所述五水硫酸铜优先的浓度为180-200g/L。本专利技术的有益效果是：与现有技术相比，本专利技术提供的用于HDI板和载板的盲孔填孔电镀铜溶液，具有如下优势：1)本专利技术相对于现有的电镀铜溶液，增加了新添加剂，此物质属于较弱的整平剂，加入该物质后可以同槽液中的整平剂联合作用，加强吸附在盲孔表面和孔内，减弱光亮剂副产物的产生，明显提高槽液的电镀寿命，电镀100AH/L后通过补加添加剂仍然可以保持盲孔填充电镀效果；2)电镀槽需要用Dummy片用电流密度为1-3A/dm2之间进行电解至2AH/L后进行电镀，此目的为减少电镀槽液中杂质金属对电镀的影响，同时也可令光亮剂产生的少量副产物形成后调试电镀添加剂平衡参数；而且电镀时可以根据不同规格的盲孔孔型来确定合适电流密度，在确保盲孔完整填好的前提下，可以提高电流密度来增加生产效率；3)针对盲孔电镀随着电镀时间的延长，槽液寿命效果明显降低的问题，本专利技术提供一种用于HDI板和载板的盲孔填孔电镀铜溶液，该溶液解决现有盲孔电镀工艺中电镀可靠性低，槽液寿命短等缺陷，采用添加新添加剂的方法提高槽液稳定性，可以令盲孔镀层深镀能力较好，填孔率优良，无空洞，无夹缝，面铜较薄，表面光亮，可以有效防止因为盲孔空洞或者等壁生长导致信号传输不稳定、电阻大、功率损耗过多等缺点，进一步提高电子产品的可靠性。附图说明图1为本专利技术第一实施例在开缸直接电镀时镀层切面外观形貌图；图2为本专利技术第一实施例在电解50AH/L时电镀镀层切面外观形貌图；图3为本专利技术第二实施例在添加新添加剂后开缸直接本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于HDI板和载板的盲孔填孔电镀铜溶液，其特征在于，包括以下浓度的组分：/n五水硫酸铜：150-200g/L/n硫酸(98％)：40-80g/L/n氯离子：30-70mg/L/n光亮剂:0.5-4mg/L/n润湿剂：200-500mg/L/n整平剂：5-30mg/L/n新添加剂：30-100mg/L/n去离子水：余量；/n将上述的组分按照浓度混合后形成该电镀铜溶液，该电镀铜溶液电镀时先将电镀槽用Dummy片电解至2AH/L，再用电流密度在1-3A/dm

【技术特征摘要】
1.一种用于HDI板和载板的盲孔填孔电镀铜溶液，其特征在于，包括以下浓度的组分：
五水硫酸铜：150-200g/L
硫酸(98％)：40-80g/L
氯离子：30-70mg/L
光亮剂:0.5-4mg/L
润湿剂：200-500mg/L
整平剂：5-30mg/L
新添加剂：30-100mg/L
去离子水：余量；
将上述的组分按照浓度混合后形成该电镀铜溶液，该电镀铜溶液电镀时先将电镀槽用Dummy片电解至2AH/L，再用电流密度在1-3A/dm2之间进行电镀，温度在15-35℃之间，循环速率2-8TurnOver/H。


2.根据权利要求1所述的用于HDI板和载板的盲孔填孔电镀铜溶液，其特征在于，所述新添加剂优先的浓度为40-50mg/L；其可以由正丙醇胺、六次甲基四胺、乙二胺四乙酸，葡萄糖酸钾中的一种或多种搭配使用；此物质属于弱整平剂，加入该物质后可以同槽液中的整平剂联合作用，加强吸附在盲孔表面和孔内，减弱光亮剂副产物的产生，明显提高槽液的电镀寿命，电镀100AH/L后通过补加新添加剂仍然可以保持盲孔填充电镀效果。


3.根据权利要求1所述的用于HDI板和载板的盲孔填孔电镀铜溶液，其特征在于，所述整平剂优先的浓度为10-20mg/L；其可以由二苯甲烷染料(碱性槐黄)，N-烷基邻苯二甲酰亚胺，噻唑啉基二硫代丙烷磺酸钠(SH110)...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚成，洪学平，姚吉豪，
申请(专利权)人：深圳市创智成功科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44