利用等离子体的有害气体处理装置和方法制造方法及图纸

本发明专利技术实施例旨在提供一种利用等离子体的有害气体处理装置和方法，通过等离子体和氨的反应生成第一去氨物质，以第一次去氨通过使第一去氨物质和氨再次反应生成第二去氨物质，以第二次去氨，从而可以逐步改善去氨效率。

【技术实现步骤摘要】
利用等离子体的有害气体处理装置和方法
本专利技术涉及一种利用等离子体的有害气体处理装置和方法。
技术介绍
通常，物质的状态分为固体，液体和气体。可以通过向气体施加高能来产生等离子体。等离子体是分离成带负电荷的电子和带正电荷的离子的气体状态，在超高温下通过具有高动能的气体分子的相互碰撞从原子或分子被分离成带负电荷的电子。等离子体可以分为高温等离子体和低温等离子体，高温等离子体是温度高的电弧等，而低温等离子体是电子的能量高，但离子的能量低，因此实际感觉到的温度接近常温。这种等离子体根据压力条件，其产生技术和应用会不同。例如，在压力低的真空条件下，可以稳定地产生等离子体，因此可以将等离子体应用于半导体工艺或新材料合成工艺中的化学反应、沉积等。另外，大气压状态的等离子体可应用于处理对环境有害的气体或制造新材料。近来，已经开发出许多技术，以处理工业生产中排放的有害气体。另外，需要开发出易于去除有害气体中包含的氨的技术。
技术实现思路
技术问题本专利技术实施例旨在提供一种利用等离子体的有害气体处理装置和方法，通过本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种利用等离子体的有害气体处理装置，其包括：/n第一反应单元，其设置在有害气体路径上，用于通过使等离子体反应所产生的等离子体臭氧和有害气体中包含的氨进行第一次反应生成第一去氨物质，以第一次去除有害气体中包含的氨；以及/n第二反应单元，其用于通过使所述第一反应单元中生成的第一去氨物质和所述第一反应单元中未反应的氨进行第二次反应生成第二去氨物质，以第二次去氨。/n

【技术特征摘要】
20190517 KR 10-2019-00582551.一种利用等离子体的有害气体处理装置，其包括：
第一反应单元，其设置在有害气体路径上，用于通过使等离子体反应所产生的等离子体臭氧和有害气体中包含的氨进行第一次反应生成第一去氨物质，以第一次去除有害气体中包含的氨；以及
第二反应单元，其用于通过使所述第一反应单元中生成的第一去氨物质和所述第一反应单元中未反应的氨进行第二次反应生成第二去氨物质，以第二次去氨。


2.根据权利要求1所述的利用等离子体的有害气体处理装置，其中，
所述第一反应单元包括：
反应室，其包括所述有害气体路径上有害气体通过的入口和出口，并且包括有害气体和等离子体反应气体的反应空间；
等离子体电极，其设置在所述反应室内部且包括放电空间，用于产生等离子体放电；以及
注入单元，其对应于所述等离子体电极的周围设置在连接所述反应室的内部和所述等离子体反应气体的供应路径的位置上，用于引导等离子体反应气体供应到所述反应室的内部。


3.根据权利要求1所述的利用等离子体的有害气体处理装置，其中，
所述第一去氨物质包含二氧化氮(NO2)或二氧化硫(SO2)中的一种以上。


4.根据权利要求1所述的利用等离子体的有害气体处理装置，其中，
所述第二去氨物质包含硝酸铵(NH4NO3)...

【专利技术属性】
技术研发人员：洪镛澈，
申请(专利权)人：韩国基础科学支援研究院，
类型：发明
国别省市：韩国;KR