用于分析测量电容的方法和电路装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种用于分析测量装置的测量电容（ＣＭ）的方法，其具有以下步骤：经第一充电时间（ｔｋ１，ｔｋ２）对所述电容（ＣＭ）充电，以及确定所述电容的电荷以作为第一个测量值（ｔｍ１）。为确定改变所述电容的基本状态的测量条件、例如相对于测量单元的干燥环境的潮湿环境，本发明专利技术具有下列附加的步骤：经不同于所述第一充电时间的第二充电时间（ｔｋ２）对所述电容（ＣＭ）充电，确定所述电容（ＣＭ）的电荷以作为第二个测量值（ｔｍ２），以及将所述第一和第二测量值（ｔｋ１，ｔｋ２）进行相互比较以确定比较结果（Δｔｍ）。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种按照权利要求1的前序部分的、用于分析测量电容的方法，以及涉及一种用于执行所述方法的电路装置。
技术介绍
例如在DE 34 13 849 A1以及DE 35 44 187 A1中公开了用于测量电容的方法。在图1中给出了在第一个提到的文献中的用于测量电容的电路装置，其中用一个端子使所述电容持续地保持在参考电势上，并且使另一个端子在参考电压源和积分器之间转接。该电路包含带运算放大器的、被接在工作电压上的积分装置。所述积分装置用位于待测电容上的电荷来充电，紧接着通过与积分电容器并联的开关装置重新放电。再充电过程的特征量是所述待测电容的度量。在第二个提到的文献中，描述了一个同样具有转换装置的电容测量电路，该转换装置用一个预先确定的转换频率周期性地交替地将所述测量电容加在一个恒定的电压上以进行充电，以及使所述测量电容与储存电容器相连接以进行放电，与所述测量电容相比，该储存电容器的电容很大。通过控制放电电流，储存电容器的端电压基本上被保持在恒定的参考电势上。与第一个提到的文献相反，出现的再充电频率不是待测电容的度量，而是放电电流的大小与测量电容成比例。此外，在DE 42 37本文档来自技高网...

【技术保护点】
用于分析测量装置的测量电容（ＣＭ）的方法，具有以下步骤：　　　　－经过第一充电时间（ｔｋ１，ｔｋ２）对所述电容（ＣＭ）进行充电，　　　　－确定所述电容的电荷以作为第一个测量值（ｔｍ１），　　　　其特征在于下列附加的步骤：　　　　－经过不同于第一充电时间（ｔｋ１）的第二充电时间（ｔｋ２）对所述电容（ＣＭ）进行充电，　　　　－确定所述电容（ＣＭ）的电荷以作为第二个测量值（ｔｍ２），以及　　　　－为确定比较结果（Δｔｍ），将第一个和第二个测量值（ｔｋ１，ｔｋ２）进行相互比较，以便确定改变所述电容（ＣＭ）的基本状态的测量条件。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：M梅勒特，J费希特，H奥贝特，
申请(专利权)人：维加格里沙伯股份公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]