【技术实现步骤摘要】
铝铜合金膜层的制备方法、声表面波滤波器以及双工器
本专利技术涉及合金膜层制备
，具体而言，涉及一种铝铜合金膜层的制备方法、声表面波滤波器以及双工器。
技术介绍
声表面波双工器器件为改善器件的耐功率性，一般会向铝中掺入微量的铜之类的异种金属以形成铝铜合金膜层。现有技术中，铝铜合金膜层的制备主要采用磁控溅射机台或者金属真空蒸镀机来完成。其中，磁控溅射机台是采用惰性气体离子撞机靶材，使受撞击而离开靶材主体的靶材分子重新在基板上成膜，其所制备的铝铜合金膜层中铝铜合金的含量比例等于机台靶材中铝铜合金的含量比例，即铝铜合金膜层中合金元素的含量比例比较稳定，但是采用磁控溅射机台的制备成本较高。相比之下，金属真空蒸镀机的机台成本较低，且蒸发材料利用率较高，因此在制备铝铜合金膜层时也是被广泛采用。然而，由于铝铜合金材料中，铝元素和铜元素的熔点和沸点不同，导致随着坩埚内材料的使用次数的增加，采用蒸镀的方式制备的铝铜合金膜层中，铜元素的含量会持续增加，从而使得铝铜合金膜层中合金元素的含量难以稳定。然而，铜元素的含量会...
【技术保护点】
1.一种铝铜合金膜层的制备方法，其特征在于，包括：/n获取制备铝铜合金膜层所需的反应基材的消耗量，其中，所述铝铜合金膜层具有目标膜层厚度和目标膜层面积，且所述铝铜合金膜层的铝元素和铜元素具有预设质量比；/n根据所述反应基材的消耗量对应计算铜元素的消耗量和铝元素的消耗量，添加计算的所述铜元素的消耗量和所述铝元素的消耗量，以补充所述反应基材；/n提供预设反应条件，在基层上制备具有目标膜层厚度和目标膜层面积的铝铜合金膜层，其中，所述具有目标膜层厚度和目标膜层面积的铝铜合金膜层的铝元素和铜元素呈所述预设质量比。/n
【技术特征摘要】
1.一种铝铜合金膜层的制备方法，其特征在于，包括：
获取制备铝铜合金膜层所需的反应基材的消耗量，其中，所述铝铜合金膜层具有目标膜层厚度和目标膜层面积，且所述铝铜合金膜层的铝元素和铜元素具有预设质量比；
根据所述反应基材的消耗量对应计算铜元素的消耗量和铝元素的消耗量，添加计算的所述铜元素的消耗量和所述铝元素的消耗量，以补充所述反应基材；
提供预设反应条件，在基层上制备具有目标膜层厚度和目标膜层面积的铝铜合金膜层，其中，所述具有目标膜层厚度和目标膜层面积的铝铜合金膜层的铝元素和铜元素呈所述预设质量比。
2.根据权利要求1所述的铝铜合金膜层的制备方法，其特征在于，所述获取制备铝铜合金膜层所需的反应基材的消耗量，包括：
获取制备前所述反应基材的质量；
获取制备后所述反应基材的质量；
计算制备前所述反应基材的质量与制备后所述反应基材的质量之间的差值，以得到制备目标膜层厚度的铝铜合金膜层所需的反应基材的消耗量。
3.根据权利要求1或2所述的铝铜合金膜层的制备方法，其特征在于，所述根据所述反应基材的消耗量对应计算铜元素的消耗量和铝元素的消耗量，包括：
获取所述反应基材中铝元素和铜元素的质量比；
分别计算所述反应基材的消耗量中铝元素的消耗量和铜元素的消耗量。
4.根据权利要求3所述的铝铜合金膜层的制备方法，其特征在于，所述添加计算的所述铜元素的消耗量和所述铝元素的消耗量，以补充所述反应基材，包括：
根据所述铜元素的消耗量得到所述铜元素的添加量；
根据所述铝元素的消耗量得到所述铝元素的添加量；
根据所述铜元素的添加量和所述铝元素的添加量，分别添加相应质量的铜元素和铝元素以补充所述反应基材。
5.根据权利要求4所述的铝铜合金膜层的制备方法，其特征在于，所述根据所述铜元素的添加量和所述铝元素的添加量，分别添加相应质量的铜元素和铝元素以补充...
【专利技术属性】
技术研发人员：尤建发，林志东，叶俊锋，李雷，杨濬哲，
申请(专利权)人：厦门市三安集成电路有限公司，
类型：发明
国别省市：福建;35
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