铝铜合金膜层的制备方法、声表面波滤波器以及双工器技术

一种铝铜合金膜层的制备方法、声表面波滤波器以及双工器，涉及合金膜层制备技术领域。该铝铜合金膜层的制备方法包括：获取制备铝铜合金膜层所需的反应基材的消耗量，其中，铝铜合金膜层具有目标膜层厚度和目标膜层面积，且铝铜合金膜层的铝元素和铜元素具有预设质量比；根据反应基材的消耗量对应计算铜元素的消耗量和铝元素的消耗量，添加计算的铜元素的消耗量和铝元素的消耗量，以补充反应基材；提供预设反应条件，在基层上制备具有目标膜层厚度和目标膜层面积的铝铜合金膜层，其中，铝铜合金膜层的铝元素和铜元素呈预设质量比。该铝铜合金膜层的制备方法能够提升铝铜合金膜层中元素含量的稳定性，从而改善器件的耐功率性。

The invention relates to a method for preparing a duplex layer acoustic wave filter and a copper alloy surface acoustic filter

【技术实现步骤摘要】
铝铜合金膜层的制备方法、声表面波滤波器以及双工器
本专利技术涉及合金膜层制备
，具体而言，涉及一种铝铜合金膜层的制备方法、声表面波滤波器以及双工器。
技术介绍
声表面波双工器器件为改善器件的耐功率性，一般会向铝中掺入微量的铜之类的异种金属以形成铝铜合金膜层。现有技术中，铝铜合金膜层的制备主要采用磁控溅射机台或者金属真空蒸镀机来完成。其中，磁控溅射机台是采用惰性气体离子撞机靶材，使受撞击而离开靶材主体的靶材分子重新在基板上成膜，其所制备的铝铜合金膜层中铝铜合金的含量比例等于机台靶材中铝铜合金的含量比例，即铝铜合金膜层中合金元素的含量比例比较稳定，但是采用磁控溅射机台的制备成本较高。相比之下，金属真空蒸镀机的机台成本较低，且蒸发材料利用率较高，因此在制备铝铜合金膜层时也是被广泛采用。然而，由于铝铜合金材料中，铝元素和铜元素的熔点和沸点不同，导致随着坩埚内材料的使用次数的增加，采用蒸镀的方式制备的铝铜合金膜层中，铜元素的含量会持续增加，从而使得铝铜合金膜层中合金元素的含量难以稳定。然而，铜元素的含量会改变线路的电阻，从而影响器件的特性指标，因此如何提升铝铜合金膜层中元素含量的稳定性，是目前亟待解决的技术难题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种铝铜合金膜层的制备方法、声表面波滤波器以及双工器，该铝铜合金膜层的制备方法、声表面波滤波器以及双工器均能够提升铝铜合金膜层中元素含量的稳定性，从而改善器件的耐功率性。本专利技术的实施例是这样实现的：本专利技术的一方面，提供一种铝铜合金膜层的制备方法，该铝铜合金膜层的制备方法包括：获取制备铝铜合金膜层所需的反应基材的消耗量，其中，铝铜合金膜层具有目标膜层厚度和目标膜层面积，且铝铜合金膜层的铝元素和铜元素具有预设质量比；根据反应基材的消耗量对应计算铜元素的消耗量和铝元素的消耗量，添加计算的铜元素的消耗量和铝元素的消耗量，以补充反应基材；提供预设反应条件，在基层上制备具有目标膜层厚度和目标膜层面积的铝铜合金膜层，其中，具有目标膜层厚度和目标膜层面积的铝铜合金膜层的铝元素和铜元素呈预设质量比。该铝铜合金膜层的制备方法能够提升铝铜合金膜层中元素含量的稳定性，从而改善器件的耐功率性。可选地，获取制备铝铜合金膜层所需的反应基材的消耗量，包括：获取制备前反应基材的质量；获取制备后反应基材的质量；计算制备前反应基材的质量与制备后反应基材的质量之间的差值，以得到制备目标膜层厚度的铝铜合金膜层所需的反应基材的消耗量。可选地，根据反应基材的消耗量对应计算铜元素的消耗量和铝元素的消耗量，包括：获取反应基材中铝元素和铜元素的质量比；分别计算反应基材的消耗量中铝元素的消耗量和铜元素的消耗量。可选地，添加计算的铜元素的消耗量和铝元素的消耗量，以补充反应基材，包括：根据铜元素的消耗量得到铜元素的添加量；根据铝元素的消耗量得到铝元素的添加量；根据铜元素的添加量和铝元素的添加量，分别添加相应质量的铜元素和铝元素以补充反应基材。可选地，根据铜元素的添加量和铝元素的添加量，分别添加相应质量的铜元素和铝元素以补充反应基材，包括：添加与铜元素的添加量相同质量的纯铜；添加与铝元素的添加量相同质量的纯铝。可选地，根据铜元素的添加量和铝元素的添加量，分别添加相应质量的铜元素和铝元素以补充反应基材，包括：添加铝铜合金，其中，铝铜合金中的铜元素质量与铜元素的添加量相同；添加纯铝，纯铝的质量为铝元素的添加量与铝铜合金中的铝元素质量的差值。可选地，在获取制备铝铜合金膜层所需的反应基材的消耗量之前，包括：获取制备第一膜层厚度的铝铜合金膜层所需的反应基材的消耗量；获取制得的第一膜层厚度的铝铜合金膜层中铝元素与铜元素的质量比；判断制得的第一膜层厚度的铝铜合金膜层中铝元素与铜元素的质量比是否在预设质量比的阈值范围；若是，第一膜层厚度为目标膜层厚度；若否，调整第一膜层厚度，并重新获取制备第一膜层厚度的铝铜合金膜层所需的反应基材的消耗量。可选地，提供预设反应条件，在基层上制备具有目标膜层厚度和目标膜层面积的铝铜合金膜层包括：在真空蒸镀设备中，以预设反应条件，在基层上制备目标膜层厚度和目标膜层面积的铝铜合金膜层。可选地，目标膜层厚度的铝铜合金膜层中铜元素的质量分数在1％至2％之间。本专利技术的另一方面，提供一种声表面波滤波器，该声表面波滤波器包括在基层上形成的铝铜合金膜层，铝铜合金膜层采用上述的铝铜合金膜层的制备方法制备而成。该声表面波滤波器能够提升铝铜合金膜层中元素含量的稳定性，从而改善器件的耐功率性。本专利技术的又一方面，提供一种双工器，该双工器包括上述的声表面波滤波器。该双工器能够提升铝铜合金膜层中元素含量的稳定性，从而改善器件的耐功率性。本专利技术的有益效果包括：本申请实施例提供一种铝铜合金膜层的制备方法，该铝铜合金膜层的制备方法通过获取制备目标膜层厚度和目标膜层面积的铝铜合金膜层所需的反应基材的消耗量，从而确定在前次制备铝铜合金膜层时反应基材的消耗量。然后对应前次制备铝铜合金膜层时反应基材的消耗量，分别计算反应基材的消耗量中铜元素的消耗量和铝元素的消耗量。然后根据铜元素的消耗量和铝元素的消耗量对应补充反应基材，使得反应基材补充至与初次使用坩埚时添加的反应基材的初始量相同。最后根据预设反应条件，制备目标膜层的铝铜合金膜层。这样一来，本实施例提供的制备方法，通过对应补料的方式，可以使得在制备具有目标膜层面积和目标膜层厚度的铜铝合金膜层时，将反应基材补充至与初次使用坩埚制备膜层时的原料相同，从而使得在本次制备铝铜合金膜层时，相当于处于初次使用坩埚制备铝铜合金膜层的状态。如此，通过采用本申请所提供的铝铜合金膜层的制备方法，在一定程度上可以改善因坩埚多次使用造成的铜元素含量持续增加而导致的铝铜合金膜层中铝元素和铜元素的质量比发生改变的情况，进而改善器件的耐功率性。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本专利技术的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。图1为温度和蒸汽压的函数关系图；图2为现有技术中多个补给周期内，沉积次数与原料总重量和膜层中铜的质量分数之间的函数关系图；图3为本专利技术实施例提供的铝铜合金膜层的制备流程图之一；图4为本专利技术实施例提供的铝铜合金膜层的制备流程图之二；图5为本专利技术实施例提供的铝铜合金膜层的制备流程图之三；图6为本专利技术实施例提供的铝铜合金膜层的制备流程图之四；图7为本专利技术实施例提供的铝铜合金膜层的制备流程图之五；图8为本专利技术实施例提供的铝铜合金膜层的制备流程图之六。具体实施方式<本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种铝铜合金膜层的制备方法，其特征在于，包括：/n获取制备铝铜合金膜层所需的反应基材的消耗量，其中，所述铝铜合金膜层具有目标膜层厚度和目标膜层面积，且所述铝铜合金膜层的铝元素和铜元素具有预设质量比；/n根据所述反应基材的消耗量对应计算铜元素的消耗量和铝元素的消耗量，添加计算的所述铜元素的消耗量和所述铝元素的消耗量，以补充所述反应基材；/n提供预设反应条件，在基层上制备具有目标膜层厚度和目标膜层面积的铝铜合金膜层，其中，所述具有目标膜层厚度和目标膜层面积的铝铜合金膜层的铝元素和铜元素呈所述预设质量比。/n

【技术特征摘要】
1.一种铝铜合金膜层的制备方法，其特征在于，包括：
获取制备铝铜合金膜层所需的反应基材的消耗量，其中，所述铝铜合金膜层具有目标膜层厚度和目标膜层面积，且所述铝铜合金膜层的铝元素和铜元素具有预设质量比；
根据所述反应基材的消耗量对应计算铜元素的消耗量和铝元素的消耗量，添加计算的所述铜元素的消耗量和所述铝元素的消耗量，以补充所述反应基材；
提供预设反应条件，在基层上制备具有目标膜层厚度和目标膜层面积的铝铜合金膜层，其中，所述具有目标膜层厚度和目标膜层面积的铝铜合金膜层的铝元素和铜元素呈所述预设质量比。


2.根据权利要求1所述的铝铜合金膜层的制备方法，其特征在于，所述获取制备铝铜合金膜层所需的反应基材的消耗量，包括：
获取制备前所述反应基材的质量；
获取制备后所述反应基材的质量；
计算制备前所述反应基材的质量与制备后所述反应基材的质量之间的差值，以得到制备目标膜层厚度的铝铜合金膜层所需的反应基材的消耗量。


3.根据权利要求1或2所述的铝铜合金膜层的制备方法，其特征在于，所述根据所述反应基材的消耗量对应计算铜元素的消耗量和铝元素的消耗量，包括：
获取所述反应基材中铝元素和铜元素的质量比；
分别计算所述反应基材的消耗量中铝元素的消耗量和铜元素的消耗量。


4.根据权利要求3所述的铝铜合金膜层的制备方法，其特征在于，所述添加计算的所述铜元素的消耗量和所述铝元素的消耗量，以补充所述反应基材，包括：
根据所述铜元素的消耗量得到所述铜元素的添加量；
根据所述铝元素的消耗量得到所述铝元素的添加量；
根据所述铜元素的添加量和所述铝元素的添加量，分别添加相应质量的铜元素和铝元素以补充所述反应基材。


5.根据权利要求4所述的铝铜合金膜层的制备方法，其特征在于，所述根据所述铜元素的添加量和所述铝元素的添加量，分别添加相应质量的铜元素和铝元素以补充...

【专利技术属性】
技术研发人员：尤建发，林志东，叶俊锋，李雷，杨濬哲，
申请(专利权)人：厦门市三安集成电路有限公司，
类型：发明
国别省市：福建;35