【技术实现步骤摘要】
一种具有闪光效果的抛光瓷质釉面砖的制备方法
本专利技术涉及瓷质釉面砖制备
，特别涉及一种具有闪光效果的抛光瓷质釉面砖的制备方法。
技术介绍
高温（≥1180℃）瓷质砖的砖面在灯光下闪光的常见工艺有星光干粒（星光釉）、闪光云母片、钻石干粒、金属干粒以及晶砂干粒。将材料喷洒在砖面上经高温烧成，通过材料本身对光线强反射的物理特性与无反射或弱反射的基础釉面（晶砂干粒可用于≦85°的全抛产品），形成光线的镜面反射差来达到闪光效果，增强产品装饰性。现有瓷质砖釉面闪光工艺较多，但大多为釉上工艺（星光釉、云母片、钻石干粒），因无法进行全抛光加工，所以不适用于全抛光类产品上。也有部分釉中闪光工艺如（铬析晶）和利用耐高温合金金属颗粒（镍基合金）混合在釉中达到闪光效果，但这类闪光效果用的材料本身具有颜色会影响到产品表面的图案效果，因此使用范围有较大的局限性。
技术实现思路
本专利技术目的在于提供一种具有闪光效果的抛光瓷质釉面砖的制备方法，以解决现有技术中所存在的一个或多个技术问题，至少提供一种有益的选择或创造条件...
【技术保护点】
1.一种具有闪光效果的抛光瓷质釉面砖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：/nS1、将高纯锆英砂和结晶熔块干粒进行混合，得到釉料A；/nS2、以大理石抛釉或透明干粒釉作为釉料B，将釉料A和釉料B混合得到混合釉料；/nS3、将瓷质砖粉料均匀铺布在压砖机模腔中并将瓷质砖粉料压制成瓷质砖生坯，然后将瓷质砖生坯在干燥窑中于180-220℃下烘干，备用；/nS4、在S3烘干后的瓷质砖生坯上施加面釉后进行喷墨印刷，然后再依次布施保护釉和混合釉料；/nS5、将S4布施保护釉和混合釉料后的瓷质砖生坯置于干燥窑中于150-200℃下烘干，接着在辊道窑中使用常规的瓷质砖烧成方法，烧成温度为11...
【技术特征摘要】
1.一种具有闪光效果的抛光瓷质釉面砖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1、将高纯锆英砂和结晶熔块干粒进行混合，得到釉料A；
S2、以大理石抛釉或透明干粒釉作为釉料B，将釉料A和釉料B混合得到混合釉料；
S3、将瓷质砖粉料均匀铺布在压砖机模腔中并将瓷质砖粉料压制成瓷质砖生坯，然后将瓷质砖生坯在干燥窑中于180-220℃下烘干，备用；
S4、在S3烘干后的瓷质砖生坯上施加面釉后进行喷墨印刷，然后再依次布施保护釉和混合釉料；
S5、将S4布施保护釉和混合釉料后的瓷质砖生坯置于干燥窑中于150-200℃下烘干，接着在辊道窑中使用常规的瓷质砖烧成方法，烧成温度为1150-1200℃，烧成周期为40-80min，制得半成品瓷质砖；
S6、用金刚砂磨块对S5制得的半成品瓷质砖进行抛光处理，磨边后检验入库。
2.根据权利要求1所述的具有闪光效果的抛光瓷质釉面砖的制备方法，其特征在于，所述S1中高纯锆英砂为将原矿材料水洗分选，然后在无尘隔离环境下进行电选和高强磁选，得到80目-150目的高纯锆砂，其主要成分的质量百分比为ZrO2≧66.5%、Fe2O3≦0.03%、TiO2≦0.03%。
3.根据权利要求1所述的具有闪光效果的抛光瓷质釉面砖的制备方法，其特征在于，所述S1中结晶熔块干粒为按质量百分比，将石英51%、方解石27%、氧化铝6%、纯碱6%、氧化锌4%、碳酸钡3%、硼酸3%混合均匀，经熔块窑1520°高温烧制成钙基析晶熔块，再经破碎加工成80目-200目的砂状干粒。
4.根据权利要求1所述的具有闪光效果的抛光瓷质釉面砖的制备方法，其特征在于，所述S2具体方法为以大理石抛釉作为釉料B，将釉料A和釉料B混合得到混合釉料，所述大理石抛釉由以下主要成分：钾钠长石、方解石、石英、硅灰石、高岭土和氧化铝经过混合、球磨制备而成。
5.根据权利要求1所述的具有闪光效果的抛光瓷质釉面砖的...
【专利技术属性】
技术研发人员：柯琪琦，欧劲野，李清平，
申请(专利权)人：佛山市蓝瓷创陶科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44
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