一种闪光瓷质抛釉砖制造技术

本实用新型专利技术公开了一种闪光瓷质抛釉砖，包括坯体层，所述坯体层的表面设有面釉层，所述面釉层的表面设有喷墨印花层，所述喷墨印花层的表面设有保护釉面层，所述保护釉面层的表面设有闪光釉层。本实用新型专利技术通过以上结构，将喷墨打印纹理和闪光效果相结合，能让瓷质砖有效的还原高端名贵石材的闪光晶体质感，不仅拥有丰富的表面纹理，闪光效果好，具备一定的艺术美感，装饰性强，应用范围广，而且表面装饰图案不易磨损，使用更加持久。

【技术实现步骤摘要】
一种闪光瓷质抛釉砖
本技术涉及瓷质砖
，特别涉及一种闪光瓷质抛釉砖。
技术介绍
瓷质抛釉砖是由天然石料破碎后添加化学粘合剂压合经高温烧结而成的，瓷质抛釉砖具有天然石材的质感，而且更具有高光性、高硬度、高耐磨、高抗污性、吸水率低，色差少以及规格多样化和色彩丰富的优点。现有的瓷质抛釉砖的耐磨度较差，且还原天然石材闪光质感的效果较差。
技术实现思路
本技术目的在于提供一种闪光瓷质抛釉砖，以解决现有技术中所存在的一个或多个技术问题，至少提供一种有益的选择或创造条件。为解决上述技术问题所采用的技术方案：一种闪光瓷质抛釉砖，包括坯体层，所述坯体层的表面设有面釉层，所述面釉层的表面设有喷墨印花层，所述喷墨印花层的表面设有保护釉面层，所述保护釉面层的表面设有闪光釉层。作为上述技术方案的进一步改进，所述闪光釉层的材料为高纯锆英砂、结晶熔块干粒、全抛釉、水、悬浮剂和助熔剂的混合物。作为上述技术方案的进一步改进，所述闪光釉层的表面设有全抛釉面层。作为上述技术方案的进一步改进，所述闪光釉层的材料为高纯锆英砂、结晶熔块干粒和全抛釉的混合物。作为上述技术方案的进一步改进，所述闪光釉层的表面设有耐高温胶水层。本技术闪光釉层中的高纯锆英砂为将原矿材料水洗分选，然后在无尘隔离环境下进行电选和高强磁选，得到80目-150目的高纯锆砂，其主要成分的质量百分比为ZrO2≧66.5%、Fe2O3≦0.03、TiO2≦0.03。本技术闪光釉层中的结晶熔块干粒为按质量百分比，将石英51%、方解石27%、氧化铝6%、纯碱6%、氧化锌4%、碳酸钡3%、硼酸3%混合均匀，经熔块窑1520°高温烧制成钙基析晶熔块，再经破碎加工成80目-200目的砂状干粒。本技术闪光釉层中的全抛釉由以下主要成分：钾钠长石、方解石、石英、硅灰石、高岭土和氧化铝经过混合、球磨制备而成。本技术闪光釉层中的悬浮剂包括高岭土、膨润土、羧甲基纤维素中的一种或几种；助熔剂包括氧化镁、硅灰石、方解石中的一种或几种。本技术闪光釉层的发光原理是根据闪光釉中含有的各晶体的多重反射、色散、折射法来实现闪光效果，而且只需按常规全抛釉产品的抛光工艺进行抛光即可产生闪光效果。与现有技术相比，本技术具有如下有益效果：本技术通过坯体层的表面设有面釉层，面釉层的表面设有喷墨印花层，喷墨印花层的表面保护釉面层，保护釉面层的表面设有闪光釉层，通过设置保护釉面层，防止排墨，使闪光釉面分布均匀，在喷墨纹理图案与闪光釉层之间建立缓冲层，保持纹理图案清晰；通过设置闪光釉层，达到闪光装饰的目的。本技术将喷墨打印纹理和闪光效果相结合，能让瓷质砖有效的还原高端名贵石材的闪光晶体质感，不仅拥有丰富的表面纹理，闪光效果好，具备一定的艺术美感，装饰性强，应用范围广，而且表面装饰图案不易磨损，使用更加持久。附图说明下面结合附图和实施例对本技术做进一步的说明。图1是本技术实施例1的剖面结构示意图；图2是本技术实施例2的剖面结构示意图；图3是本技术实施例3的剖面结构示意图；图4是本技术的闪光效果原理图。图中，100-坯体层，200-面釉层，300-喷墨印花层，400-保护釉面层，500-闪光釉层，600-全抛釉面层，700-耐高温胶水层。具体实施方式本部分将详细描述本技术的具体实施例，本技术之较佳实施例在附图中示出，附图的作用在于用图形补充说明书文字部分的描述，使人能够直观地、形象地理解本技术的每个技术特征和整体技术方案，但其不能理解为对本技术保护范围的限制。在本技术的描述中，需要理解的是，涉及到方位描述，例如上、下、前、后、左、右等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。在本技术的描述中，如果具有“若干”之类的词汇描述，其含义是一个或者多个，多个的含义是两个以上，大于、小于、超过等理解为不包括本数，以上、以下、以内等理解为包括本数。本技术的描述中，除非另有明确的限定，设置、安装、连接等词语应做广义理解，所属
技术人员可以结合技术方案的具体内容合理确定上述词语在本技术中的具体含义。实施例1参照图1和图4，本技术实施例中，一种闪光瓷质抛釉砖，包括坯体层100，所述坯体层100的表面设有面釉层200，所述面釉层200的表面设有喷墨印花层300，所述喷墨印花层300的表面设有保护釉面层400，所述保护釉面层400的表面设有闪光釉层500。各层结合后通过常规的烘干、烧成和抛光工艺即可得到成品瓷质砖。所述闪光釉层500的材料为高纯锆英砂、结晶熔块干粒、全抛釉、水、悬浮剂和助熔剂的混合物。所述高纯锆英砂为将原矿材料水洗分选，然后在无尘隔离环境下进行电选和高强磁选，得到80目-150目的高纯锆砂，其主要成分的质量百分比为ZrO2≧66.5%、Fe2O3≦0.03、TiO2≦0.03。所述闪光釉层500中的结晶熔块干粒为按质量百分比，将石英51%、方解石27%、氧化铝6%、纯碱6%、氧化锌4%、碳酸钡3%、硼酸3%混合均匀，经熔块窑1520°高温烧制成钙基析晶熔块，再经破碎加工成80目-200目的砂状干粒。所述全抛釉由以下主要成分：钾钠长石、方解石、石英、硅灰石、高岭土和氧化铝经过混合、球磨制备而成。所述悬浮剂包括高岭土、膨润土、羧甲基纤维素中的一种或几种；所述助熔剂包括氧化镁、硅灰石、方解石中的一种或几种。实施例2参照图2和图4，本技术实施例中，一种闪光瓷质抛釉砖，包括坯体层100，所述坯体层100的表面设有面釉层200，所述面釉层200的表面设有喷墨印花层300，所述喷墨印花层300的表面设有保护釉面层400，所述保护釉面层400的表面设有闪光釉层500。各层结合后通过常规的烘干、烧成和抛光工艺即可得到成品瓷质砖。所述闪光釉层500的材料为高纯锆英砂、结晶熔块干粒、全抛釉、水、悬浮剂和助熔剂的混合物。所述闪光釉层500的表面设有全抛釉面层600。所述高纯锆英砂为将原矿材料水洗分选，然后在无尘隔离环境下进行电选和高强磁选，得到80目-150目的高纯锆砂，其主要成分的质量百分比为ZrO2≧66.5%、Fe2O3≦0.03、TiO2≦0.03。所述闪光釉层500中的结晶熔块干粒为按质量百分比，将石英51%、方解石27%、氧化铝6%、纯碱6%、氧化锌4%、碳酸钡3%、硼酸3%混合均匀，经熔块窑1520°高温烧制成钙基析晶熔块，再经破碎加工成80目-200目的砂状干粒。所述全抛釉由以下主要成分：钾钠长石、方解石、石英、硅灰石、高岭土和氧化铝经过混合、球磨制备而成。所述悬浮剂包括高岭土、膨润土、羧甲本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种闪光瓷质抛釉砖，其特征在于，包括坯体层，所述坯体层的表面设有面釉层，所述面釉层的表面设有喷墨印花层，所述喷墨印花层的表面设有保护釉面层，所述保护釉面层的表面设有闪光釉层，所述闪光釉层的表面设有全抛釉面层或耐高温胶水层。/n

【技术特征摘要】
1.一种闪光瓷质抛釉砖，其特征在于，包括坯体层，所述坯体层的表面设有面釉层，所述面釉层的表面设有喷墨印花层，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：柯琪琦，欧劲野，李清平，
申请(专利权)人：佛山市蓝瓷创陶科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44