【技术实现步骤摘要】
一种石墨盘
本专利技术属于半导体设备领域,尤其涉及一种石墨盘。
技术介绍
LED外延晶圆(或外延片)一般是通过金属有机化合物气相沉积(Metal-organicChemicalVaporDeposition,简称MOCVD)获得,其制程一般为:将外延晶圆衬底放入石墨盘的凹槽上,连同石墨盘一起被传送至MOCVD反应室内,石墨盘放置于加热装置上,以对石墨盘进行加热,石墨盘受热升温,能够以热辐射和热传导方式对衬底进行加热,反应气体自喷淋头的小孔进入石墨盘上方的反应区域,衬底由于加热装置的热传导加热而具有一定的温度,该温度使得反应气体之间进行化学反应,从而在衬底表面沉积外延材料层。然而,在外延生长时,内圈均匀性较外圈差的情况一直存在。针对此问题,改善生长气流均匀性是其中的一种方式。而石墨盘的转速与气流均匀性有关,具体为相对于外圈石墨盘,内圈石墨盘的气流均匀性较差。提高石墨盘的转速可以在一定程度上提高气流均匀性。
技术实现思路
本技术通过将石墨盘设置为可以分解并且转速不同的内圈盘和外圈盘,提高内圈盘的转速,提高其气流均匀性。具体技术方案如下:一种石墨盘,用于放置晶片,包括复数个放置晶片的凹槽,其特征在于:所述石墨盘包括内圈盘和外圈盘,所述内圈盘和外圈盘的下端中心分别连接内圈转轴和外圈转轴。优选的,所述外圈盘的中间部分具有放置内圈盘的凹陷区。优选的,所述内圈盘和外圈盘通过卡槽或者螺栓固定连接。优选的,所述内圈转轴和外圈转轴的旋转速率不同。优选的,所述晶片凹槽的尺 ...
【技术保护点】
1.一种石墨盘,用于放置晶片,包括复数个放置晶片的凹槽,其特征在于:所述石墨盘包括内圈盘和外圈盘,所述内圈盘和外圈盘的下端中心分别连接内圈转轴和外圈转轴。/n
【技术特征摘要】
1.一种石墨盘,用于放置晶片,包括复数个放置晶片的凹槽,其特征在于:所述石墨盘包括内圈盘和外圈盘,所述内圈盘和外圈盘的下端中心分别连接内圈转轴和外圈转轴。
2.根据权利要求1所述的一种石墨盘,其特征在于:所述外圈盘的中间部分具有放置内圈盘的凹陷区。
3.根据权利要求1所述的一种石墨盘,其特征在于:所述内圈盘和外圈盘通过卡槽或者螺栓连接。
4.根据权利要求1所述的一种石墨盘,其特征在于:所述内圈转轴和外圈转轴的旋转速率不同。
5.根据权利要求1所述的一种石墨盘,其特征在于:所述凹槽的尺寸与所承载的晶片尺寸相匹配。
6.根据权利要求1所述的一种石墨盘,其特征在于...
【专利技术属性】
技术研发人员:周宏敏,王瑜,唐超,李政鸿,林兓兓,张家豪,
申请(专利权)人:安徽三安光电有限公司,
类型:新型
国别省市:安徽;34
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