【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种添加铬或同时添加铬、钒之钨基体中铬含量的测定 方法。本专利技术中的术语"分析条件的优化"是指一种崭新的氧化还原体系， 使得经典氧化还原滴定法成功应用于钨系统中常量铬的准确测定，方法 简单、准确、快捷。同时，分析条件优化后在分析时对于铬、钒相互之 间的干扰可准确定量消除，可完成同时添加铬钒之鵠基体中铬钒含量的 准确测定。本说明书中的术语"基体"又称"介质"或"基质"。本说明书中的术语"钨基体"是指在分析样品中，除了分析物以外 的所有其他物质和组分都是鵠，例如碳化钨等。
技术介绍
生产细、超细颗粒碳化鴒粉时，往往需单独或同时添加铬钒化合物。 现有国标分析方法中无此常量铬钒的测定方法。且由于铬钒相互干扰， 使得同时添加时铬钒含量的准确测定难度更大。钨行业中大公司多釆用x荧光分析仪完成铬钒等的同时测定，方法快速准确，但进口x荧光分 析仪价格均在百万元以上，中小企业一般没有此类高端检测设备。大多数企业采用经典氧化还原滴定法测鴒系统中常量铬，即在酸性 介质中，以硝酸银作催化剂，锰盐指示，以过硫酸铵为氧化剂氧化低价 铬，以氯化钠破坏高价锰，以亚铁标准溶液滴定...
【技术保护点】
一种单独或同时添加铬、钒之钨基体中铬含量的测定方法，其特征在于， 试样以过氧化钠熔样，热水浸出； 同时以所述过氧化钠兼做氧化剂，将铬全部氧化成高价铬；以及 以氟化氢铵络合主体钨，避免钨酸沉淀析出。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：胡翼淇，
申请(专利权)人：江西稀有稀土金属钨业集团有限公司，
类型：发明
国别省市：36[中国|江西]
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