【技术实现步骤摘要】
液处理装置和液处理方法
本公开涉及一种液处理装置和液处理方法。
技术介绍
在专利文献1中公开了一种液处理装置，其具备：多个液处理部，各液处理部是在杯体中设置水平保持基板的基板保持部而构成的；处理液喷嘴，其用于向基板供给处理液；以及除液部，其在杯体的开口部间去除从处理液喷嘴垂下的处理液的液滴。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2010-186974号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题本公开提供一种对于利用从喷嘴喷出的处理液进行的液处理的面内均匀性有效的液处理装置和液处理方法。用于解决问题的方案本公开的一个侧面所涉及的液处理装置具备：处理液供给部，其具有喷出处理液的喷嘴；喷嘴移动部，其使所述喷嘴在用于朝向基板的表面供给所述处理液的涂布位置和与所述涂布位置不同的待机位置之间移动；清洗部，其朝向所述待机位置供给清洗液，以通过所述清洗液对位于所述待机位置的所述喷嘴的顶端面进行清洗；吸引部，其具有朝向位于所述待机位置的所述喷嘴的顶端面开口的吸引口，所...
【技术保护点】
1.一种液处理装置，其特征在于，具备：/n处理液供给部，其具有喷出处理液的喷嘴；/n喷嘴移动部，其使所述喷嘴在用于朝向基板的表面供给所述处理液的涂布位置和与所述涂布位置不同的待机位置之间移动；/n清洗部，其朝向所述待机位置供给清洗液，以通过所述清洗液对位于所述待机位置的所述喷嘴的顶端面进行清洗；/n吸引部，其具有朝向位于所述待机位置的所述喷嘴的顶端面开口的吸引口，所述吸引部吸引从位于所述待机位置的所述喷嘴喷出的所述处理液以及通过所述清洗部供给到所述待机位置的所述清洗液；以及/n控制装置，其控制所述处理液供给部、所述喷嘴移动部、所述吸引部及所述清洗部。/n
【技术特征摘要】 【专利技术属性】
20190426 JP 2019-0860131.一种液处理装置，其特征在于，具备：
处理液供给部，其具有喷出处理液的喷嘴；
喷嘴移动部，其使所述喷嘴在用于朝向基板的表面供给所述处理液的涂布位置和与所述涂布位置不同的待机位置之间移动；
清洗部，其朝向所述待机位置供给清洗液，以通过所述清洗液对位于所述待机位置的所述喷嘴的顶端面进行清洗；
吸引部，其具有朝向位于所述待机位置的所述喷嘴的顶端面开口的吸引口，所述吸引部吸引从位于所述待机位置的所述喷嘴喷出的所述处理液以及通过所述清洗部供给到所述待机位置的所述清洗液；以及
控制装置，其控制所述处理液供给部、所述喷嘴移动部、所述吸引部及所述清洗部。
2.根据权利要求1所述的液处理装置，其特征在于，
在所述处理液供给部停止从位于所述待机位置的所述喷嘴喷出所述处理液后，所述吸引部停止从所述吸引口吸引所述处理液。
3.根据权利要求1或2所述的液处理装置，其特征在于，
所述清洗部具有：清洗槽，其设置于所述待机位置；以及清洗液供给部，其向所述清洗槽内供给所述清洗液，
所述吸引口向所述清洗槽内开口，
所述清洗液供给部向收容有所述喷嘴的所述清洗槽内供给所述清洗液；以及
所述吸引部吸引由所述清洗液供给部供给到所述清洗槽内的所述清洗液。
4.根据权利要求3所述的液处理装置，其特征在于，
所述吸引部还具有吸引头，该吸引头相对于所述清洗槽的底壁突出，
所述吸引口在所述吸引头的上表面开口。
5.根据权利要求4所述的液处理装置，其特征在于，
所述清洗部还具有排液口，该排液口设置于所述清洗槽的所述底壁，向所述清洗槽外排出所述清洗液，
所述排液口位于所述吸引头的周围。
6.根据权利要求5所述的液处理装置，其特征在于，
所述吸引头朝向收容于所述清洗槽内的所述喷嘴的顶端面突出，
所述排液口位于由所述吸引头与所述底壁形成的高低差部中的低的面。
7.根据权利要求5或6所述的液处理装置，其特征在于，
设置有多个所述排液口，多个所述排液口设置于夹着所述吸引头的位置。
技术研发人员：冈泽智树，西山雄太，飞松武志，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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