绝对法反射率测试装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种绝对法反射率测试装置，包括平台，其特征在于还包括固定在平台上并在平台上排列成等腰梯形的四根立柱，安装在立柱上可调节镜面水平方向的四面反射镜，安装在平台上且对称线与所述等腰梯形对称线一致的支架，通过转轴与支架连接并可绕转轴转动的支杆，通过另一转轴固定在支杆上并可绕支杆翻转的一面反射镜，固定在平台上、位于所述等腰梯形对称线上且对称分布于支架两侧的高度调节装置。本实用新型专利技术在测量反射率时不用顾虑到参考样品本身的存放时间、表面光洁度等客观因素，使得测量数据真实可信。（*该技术在2013年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术属于光学分析仪器，尤其涉及利用平面镜来测试光学产品反射率的装置。
技术介绍
目前光学产品反射率的测试主要采用相对法，即先将表面抛光良好的平面镜镀上反射膜，然后将此样品放在分光光度计上测试，将这一读数置100，这个标样的反射率人为地定为100％；再将被测物(平面反射镜)放在原样品位置，再测一次，其读数与样品比较，由其所占百分比便可得出反射率是多少，如若读数为80，则这个被测物的反射率是80％。然而此测试方法存在一些不足1)作为参考的样品，其反射率会随着存放时间的长短发生变化，或者由于镜面的光洁度、平整度不同而不同，因而被测产品反射率数据亦随着变化。2)测得的反射率不是被测样品的真实反射率，只能判断出相比样品反射率的高或低。
技术实现思路
本技术需要解决的技术问题在于提供一种绝对法反射率测试装置，以克服现有技术无法真实绝对地反映被测产品反射率的缺陷。本技术的技术方案为一种绝对法反射率测试装置，包括平台、固定在平台上排列成等腰梯形的四根立柱，安装在立柱端面上可调节镜面水平方向的四面反射镜，安装在平台上且对称线与所述等腰梯形对称线一致的支架，通过转轴与支架连接并可绕转轴转动的支杆，通过另一转轴固定在支杆上并可绕该转轴翻转的一面反射镜，固定在平台上、位于所述等腰梯形对称线上且对称分布于支架两侧的高度调节装置，所述立柱上的四面反射镜的镜面方向与平台垂直。所述立柱通过螺钉固定在平台上，由于螺孔开得较大，当立柱上的反射镜需要微调时，可以稍稍转动一下立柱，以使得当支架上的反射镜绕支架翻转180度前后，出射光线都能在经过五面反射镜后以与入射光线相同的角度射出。所述高度调节装置用来支撑支杆上的反射镜，通过旋拧该调节装置上的螺丝可变动其高度，从而也可以改变支杆上反射镜的角度，以满足光线的正确反射。所述支架上的反射镜可通过转轴转动180°，使其能有以支架上的转轴轴线严格对称的二个位置。本技术的有益效果是，由于在背景扫描和被测产品的测试中，装置上几个反射镜的反射次数和反射点位置均相同，因而前后两次检测到的几面反射镜的辐射强度相同，可以抵消，所不同的仅在于，当放入被测产品后，通过可180度翻转放置的反射镜使得光线两次经过被测产品，从而在考虑被测产品基础上测得的数据经过开后方便得到了真正的反射率，即绝对反射率，与仪器参考镜的反射率无关。这样，在测量反射率时根本不用顾虑到参考样品本身的存放时间、表面光洁度等客观因素，使得测量数据真实可信。附图说明图1为本技术反射装置的结构示意图；图2为本技术进行背景扫描时的光路示意图；图3为本技术进行产品测试时的光路示意图具体实施方式以下结合附图和具体实施例对本技术作详细说明。如图1，本技术包括平台6、固定在平台上并在平台上排列成等腰梯形的四根立柱7，安装在立柱7端面上可调节镜面水平方向的四面反射镜1、2、4、5，安装在平台6上且对称线与所述等腰梯形对称线一致的支架8，通过转轴与支架8连接并可绕转轴转动的支杆9，通过另一转轴固定在支杆9上并可绕支杆翻转的一面反射镜3，固定在平台上、位于所述等腰梯形对称线上且对称分布于支架8两侧的高度调节装置10，所述立柱上的四面反射镜的镜面方向与平台垂直。所述四面反射镜通过硅胶固定在立柱7的端面上，立柱7的端面上设可改变镜面方向有调节螺丝，从而使得光线的入射方向与射出方向相同。所述支架8上安装有放置被测产品的基座。如图2，当进行背景扫描时，首先调节好立柱上四面反射镜1、2、4、5以及支架上反射镜3的镜面方向以使光线射入反射镜1的方向与从反射镜5射出的方向一致，在本案中反射镜3位于支架(即待放被测产品的位置)下端40mm的地方，镜面朝向支架，反射镜1和5、2和4都左右对称分布在支架两侧。如图，本案中光线以平行反射镜3的方向入射反射镜1，反射镜2上入射光与出射光组成的夹角为20°，反射镜3上入射光与出射光组成的夹角为15°，光路经过1、2、3、4、5五面反射镜转折后按照入射时的方向射出，此时可以通过后面的检测器测出其辐射能量强度。如图3，将被测产品放置在支架上，再将反射镜3绕转轴翻转180度，使其位于图中支架的上方40mm处，镜面朝向支架，这时，光路在经过反射镜1和2之后，首先射入被测产品镜面，然后反射至反射镜3，再反射至被测产品镜面，最后再经过反射镜4、5射出，光出射时的方向与最初入射时相同。与背景扫描相比，反射镜1、2、3、4、5反射的次数及光的落点均相同，所不同的在于所放入的被测产品上经历了两次反射，因而七次反射后光辐射能量强度将小于背景扫描时五此反射后光的辐射能量强度，前后二次检测中只经过装置中五面反射镜后扫描的辐射强度是一样的，可相消，也就是说作为参考的样品反射镜本身的反射率是否一致根本以不用考虑，而当放入被测产品后测得的辐射强度是被测产品的二次反射率的乘积，将得到数据开平方便是样品的真实反射率。权利要求1.一种绝对法反射率测试装置，包括平台(6)，其特征在于还包括固定在平台上排列成等腰梯形的四根立柱(7)，安装在立柱(7)端面上可调节镜面水平方向的四面反射镜(1、2、4、5)，安装在平台(6)上且对称线与所述等腰梯形对称线一致的支架(8)，通过转轴与支架(8)连接并可绕转轴转动的支杆(9)，通过另一转轴固定在支杆(9)上并可绕支杆翻转的一面反射镜(3)，固定在平台(6)上、位于所述等腰梯形对称线上且对称分布于支架(8)两侧的高度调节装置(10)；所述立柱上的四面反射镜(1、2、4、5)的镜面方向与平台(6)垂直。2.如权利要求1所述的反射率测试装置，其特征在于所述四面反射镜(1、2、4、5)通过螺丝固定在立柱(7)的端面上，立柱(7)的端面上设可改变镜面方向有调节螺丝。3.如权利要求1所述的反射率测试装置，其特征在于所述高度调节装置上设置有调节高度的螺丝。4.如权利要求1所述的反射率测试装置，其特征在于所述支架8上安装有放置被测产品的基座。专利摘要本技术公开了一种绝对法反射率测试装置，包括平台，其特征在于还包括固定在平台上并在平台上排列成等腰梯形的四根立柱，安装在立柱上可调节镜面水平方向的四面反射镜，安装在平台上且对称线与所述等腰梯形对称线一致的支架，通过转轴与支架连接并可绕转轴转动的支杆，通过另一转轴固定在支杆上并可绕支杆翻转的一面反射镜，固定在平台上、位于所述等腰梯形对称线上且对称分布于支架两侧的高度调节装置。本技术在测量反射率时不用顾虑到参考样品本身的存放时间、表面光洁度等客观因素，使得测量数据真实可信。文档编号G01N21/55GK2723987SQ0321047公开日2005年9月7日 申请日期2003年9月9日 优先权日2003年9月9日专利技术者吴洪池 申请人:上海天美科学仪器有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种绝对法反射率测试装置，包括平台（６），其特征在于：还包括固定在平台上排列成等腰梯形的四根立柱（７），安装在立柱（７）端面上可调节镜面水平方向的四面反射镜（１、２、４、５），安装在平台（６）上且对称线与所述等腰梯形对称线一致的支架（８），通过转轴与支架（８）连接并可绕转轴转动的支杆（９），通过另一转轴固定在支杆（９）上并可绕支杆翻转的一面反射镜（３），固定在平台（６）上、位于所述等腰梯形对称线上且对称分布于支架（８）两侧的高度调节装置（１０）；所述立柱上的四面反射镜（１、２、４、５）的镜面方向与平台（６）垂直。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：吴洪池，
申请(专利权)人：上海天美科学仪器有限公司，
类型：实用新型
国别省市：31[中国|上海]