一种用于制作固态薄膜电池的RF和PVD系统技术方案

本发明专利技术公开了一种用于制作固态薄膜电池的RF和PVD系统，包括位于手套箱中的真空腔室，真空腔室内装有用于夹装片状基片的样品台，样品台台面朝下布置，样品台下方分别设置有用于向基片表面溅射镀膜形成正极的溅射机构，和用于向基片表面蒸发镀膜形成负极的蒸发机构，本发明专利技术结构稳定，布局合理，运行稳定，能够实现对基片进行溅射和蒸发制作正极和负极，实现了薄膜电池电极的制备，满足了现在我国实验室研究使用要求。

A RF and PVD system for solid state thin film batteries

【技术实现步骤摘要】
一种用于制作固态薄膜电池的RF和PVD系统
本专利技术涉及固态电池领域，具体涉及一种用于制作固态薄膜电池的RF和PVD系统。
技术介绍
目前，固态电池制备系统已经广泛应用在研究院校和实验当中。现在技术的固态电池制备大多数都用表面涂覆正负极材料，对于在手套箱内进行射频(RF)和蒸镀(PVD)制作固态电池的设备国内还没有涉及。
技术实现思路
为解决上述技术问题，本专利技术提供一种用于制作固态薄膜电池的RF和PVD系统，包括位于手套箱中的真空腔室，真空腔室内装有用于夹装片状基片的样品台，样品台台面朝下布置，样品台下方分别设置有用于向基片表面溅射镀膜形成正极的溅射机构，和用于向基片表面蒸发镀膜形成负极的蒸发机构。优选的：溅射机构包括磁控溅射靶头和射频电源，磁控溅射靶头设置在真空腔室中，磁控溅射靶头指向样品台用于样品台上基片溅射正极材料，射频电源连接磁控溅射靶头。优选的：蒸发机构包括蒸发头和蒸发电源，蒸发头设置在真空腔室内，蒸发头指向样品台用于向样品台上基片蒸发负极材料，蒸发电源连接蒸发头。优选的：蒸发头内装有本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于制作固态薄膜电池的RF和PVD系统，其特征在于：包括位于手套箱(100)中的真空腔室(200)，真空腔室(200)内装有用于夹装片状基片的样品台(300)，样品台(300)台面朝下布置，样品台(300)下方分别设置有用于向基片表面溅射镀膜形成正极的溅射机构(400)，和用于向基片表面蒸发镀膜形成负极的蒸发机构(500)。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于制作固态薄膜电池的RF和PVD系统，其特征在于：包括位于手套箱(100)中的真空腔室(200)，真空腔室(200)内装有用于夹装片状基片的样品台(300)，样品台(300)台面朝下布置，样品台(300)下方分别设置有用于向基片表面溅射镀膜形成正极的溅射机构(400)，和用于向基片表面蒸发镀膜形成负极的蒸发机构(500)。


2.根据权利要求1所述的一种用于制作固态薄膜电池的RF和PVD系统，其特征在于：所述溅射机构(400)包括磁控溅射靶头(410)和射频电源(420)，磁控溅射靶头(410)设置在真空腔室(200)中，磁控溅射靶头(410)指向样品台(300)用于样品台(300)上基片溅射正极材料，射频电源(420)连接磁控溅射靶头(410)。


3.根据权利要求1所述的一种用于制作固态薄膜电池的RF和PVD系统，其特征在于：所述蒸发机构(500)包括蒸发头(510)和蒸发电源(520)，蒸发头(510)设置在真空腔室(200)内，蒸发头(510)指向样品台(300)用于向样品台(300)上基片蒸发负极材料，蒸发电源(520)连接蒸发头(510)。


4.根据权利要求3所述的一种用于制作固态薄膜电池的RF和PVD系统，其特征在于：所述蒸发头(510)内装有两套蒸发舟，分别为不锈钢蒸发舟和氧化铝蒸发舟。


5.根据权利要求2或3所述的一种用于制作固态薄膜电池的RF和PVD系统，其特征在于：所述真空腔室(200)内装有挡板调节机构，挡板调节机构包括两挡板(260)以及调控组件，...

【专利技术属性】
技术研发人员：方辉，邾根祥，陶育飞，朱沫邑，
申请(专利权)人：合肥科晶材料技术有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34