【技术实现步骤摘要】
离子注入机的作业平台
本专利技术涉及一种作业平台，特别涉及真空中传输硅片的作业平台。
技术介绍
图1示出了一种早期的离子注入机的作业平台，其包括多个纵向串列式分布的大气腔室和真空腔室，分别为大气硅片传输模块1001(EFEM)、与EFEM相连的两个预抽真空装置(Loadlock)2001和2002、与两个与抽真空装置相连的真空硅片传输模块300(VTM)以及与VTM相连的工艺处理模块(PTM)400，参考图1中的坐标系，以纸面为xy平面，z轴垂直纸面，其中EFEM1001、预抽真空装置、VTM300和PTM400在y轴方向上依次串行连接。1)先从硅片的传输角度来说，硅片在xy平面中由EFEM被传递至PTM中，在VTM300中配备有两个分别对应于两个Loadlock的机械手3001和3002，在传输硅片的过程中，两个Loadlock轮流作业：即一个Loadlock被充气至大气压后，EFEM1001中的机器人将Loadlock中已完成注入的硅片取走再把需要注入的硅片放入其中，然后对Loadlock抽真空；在上述Loadl...
【技术保护点】
1.一种离子注入机的作业平台，其特征在于，包括EFEM、两个Loadlock、VTM和PTM，其中，EFEM、Loadlock和VTM沿着第一方向依次排布，两个Loadlock平行地设置于EFEM和VTM之间且每个Loadlock均皆与EFEM和VTM相连通，PTM在第二方向上与VTM相连，所述第一方向与所述第二方向不平行，其中，/nEFEM用于在大气中传递硅片；/n每个Loadlock用于在大气状态和真空状态中切换并且承载至少一片硅片；/nVTM用于在真空状态下在每个Loadlock和PTM之间传输硅片，所述VTM包括：真空输运腔室、位于所述真空输运腔室中的两个搬运机器人...
【技术特征摘要】
1.一种离子注入机的作业平台，其特征在于，包括EFEM、两个Loadlock、VTM和PTM，其中，EFEM、Loadlock和VTM沿着第一方向依次排布，两个Loadlock平行地设置于EFEM和VTM之间且每个Loadlock均皆与EFEM和VTM相连通，PTM在第二方向上与VTM相连，所述第一方向与所述第二方向不平行，其中，
EFEM用于在大气中传递硅片；
每个Loadlock用于在大气状态和真空状态中切换并且承载至少一片硅片；
VTM用于在真空状态下在每个Loadlock和PTM之间传输硅片，所述VTM包括：真空输运腔室、位于所述真空输运腔室中的两个搬运机器人和用于承载硅片的中转台；所述两个搬运机器人中，每个搬运机器人有一个可以独立动作的机械手；所述两个搬运机器人中的一个搬运机器人用于把Loadlock中的硅片传输到所述中转台，还用于把注入后的硅片从所述PTM输送到loaklock中；所述两个搬运机器人中的另一个搬运机器人把硅片从所述中转台送到所述PTM而进行注入加工，还可用于把硅片从所述PTM传输到所述中转台；
PTM用于在真空采用离子束对硅片进行加工，所述PTM包括工艺腔、位于工艺腔中的扫描机器人和离子束收集装置以及被传输至工艺腔中的离子束，其中离子束的传输方向与所述第一方向的锐夹角小于等于60°，所述扫描机器人用于接收并持有来自于搬运机器人的硅片并且将硅片翻转至注入平面以进行离子注入，
其中，所述第一方向和所述第二方向构成硅片的传输平面，所述注入平面和所述传输平面的锐夹角小于等于60°，所述注入平面和所述第一方向的锐夹角小于等于60°，所述离子束收集装置位于PTM的远离所述扫描机器人的一端并且在第二方向上与VTM相间隔。
2.如权利要求1所述的作业平台，其特征在于，VTM位于离子束的侧面，离子束传输方向的延伸线不与任一搬运机器人的动作范围交叉。
3.如权利要求1所述的作业平台，其特征...
【专利技术属性】
技术研发人员：夏世伟，陈炯，王占柱，杨立军，王辉，杰夫·贝克，洪俊华，李轩，陈克禄，刘志峰，
申请(专利权)人：上海临港凯世通半导体有限公司，上海凯世通半导体股份有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31
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