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本发明公开了一种离子注入机的作业平台，包括EFEM、两个Loadlock、VTM和PTM，EFEM、Loadlock和VTM沿着第一方向依次排布，两个Loadlock平行地设置于EFEM和VTM之间，PTM在第二方向上与VTM相连，第一方向...该专利属于上海临港凯世通半导体有限公司;上海凯世通半导体股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海临港凯世通半导体有限公司;上海凯世通半导体股份有限公司授权不得商用。