一种异形玻璃掩膜版生产方法技术

本发明专利技术实施例涉及光刻技术领域，公开了一种异形玻璃掩膜版生产方法，该方法通过接收待生产掩膜版图形，通过CAM系统对所述待生产掩膜版图形进行处理；根据CAM系统的处理结果，对玻璃掩膜版进行常规工艺处理；对常规工艺处理后玻璃掩膜版进行异性工艺处理，则完成异性玻璃掩膜版生产进行包装出货，本发明专利技术实施例提供的异形玻璃掩膜版生产方法实现了异形玻璃掩膜版生产，尤其通过异形加工前的掩膜版保护和异形加工后的清洗，使得加工过程中不损坏掩膜版的功能。

【技术实现步骤摘要】
一种异形玻璃掩膜版生产方法
本专利技术实施例涉及光刻
，特别是涉及一种异形玻璃掩膜版生产方法。
技术介绍
光学掩模板(以下称掩膜版或玻璃掩膜版)在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如IC(IntegratedCircuit，集成电路)、FPD(FlatPanelDisplay，平板显示器)、PCB(PrintedCircuitBoards，印刷电路板)、MEMS(MicroElectroMechanicalSystems，微机电系统)等。掩膜版光刻机的平台工作特点对掩膜版基板的厚度、平整度、倒边、倒角都有要求，掩膜版光刻机的工作原理是在X/Y方向上进行图形光刻处理，在移动光刻时有自动聚焦需求，因此常规掩膜版的外形必须是规则方形材料，如长方形、正方形。同时，部分行业因自身特点，需要基板玻璃外形为异形,比如掩膜版上打孔；掩膜版表面上挖沟槽；掩膜版表面上挖圆形槽；掩膜版侧面挖槽等改变常规掩膜版的形状，然而掩膜版属于精本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种异形玻璃掩膜版生产方法，其特征在于，所述方法包括：/n接收待生产掩膜版图形，通过计算机辅助制造(Computer Aided Manufacturing，CAM)系统对所述待生产掩膜版图形进行处理；/n根据CAM系统的处理结果，对玻璃掩膜版进行常规工艺处理；/n对常规工艺处理后玻璃掩膜版进行异性工艺处理，则完成异性玻璃掩膜版生产进行包装出货。/n

【技术特征摘要】
1.一种异形玻璃掩膜版生产方法，其特征在于，所述方法包括：
接收待生产掩膜版图形，通过计算机辅助制造(ComputerAidedManufacturing，CAM)系统对所述待生产掩膜版图形进行处理；
根据CAM系统的处理结果，对玻璃掩膜版进行常规工艺处理；
对常规工艺处理后玻璃掩膜版进行异性工艺处理，则完成异性玻璃掩膜版生产进行包装出货。


2.根据权利要求1所述的异形玻璃掩膜版生产方法，其特征在于，所述常规工艺处理包括：
依次对玻璃掩膜版进行曝光、显影、蚀刻、第一次清洗干燥、线距测量、缺陷扫描、修补及第二清洗干燥工艺过程。


3.根据权利要求1所述的异形玻...

【专利技术属性】
技术研发人员：荆学军，熊启龙，
申请(专利权)人：深圳清溢光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44