一种光刻版表面损伤修复溶液及其应用制造技术

本发明专利技术涉及光刻板清洗领域，具体涉及一种光刻版表面损伤修复溶液及其应用，一种光刻版表面损伤修复溶液包括重铬酸钾、水溶性铬盐、浓硫酸和水；光刻版表面损伤修复溶液的修复方法包括如下步骤：(1)将所述修复溶液加热并同时搅拌后，静置；(2)将光刻版放入所述修复溶液中浸泡并超声；(3)冲洗光刻板；(4)干燥光刻板；(5)吹干光刻板。修复溶液配置和使用方法简单，成本低廉。该修复溶液对光刻版表面嵌入颗粒物、硌伤等能起到良好的修复作用，清洗后的光刻版表面光鲜、平整，同时又不导致光刻版铬镀层厚度显著下降。保证了后续作业的光刻质量，有利于提升产品质量，同时降低了由于频繁更换新光刻版造成的损失。

【技术实现步骤摘要】
一种光刻版表面损伤修复溶液及其应用
本专利技术涉及光刻板的清洗领域，具体涉及一种光刻版表面损伤修复溶液及其应用。
技术介绍
在半导体器件生产工艺中，由于受基体材料本身外延表面的质量以及工艺制程能力、作业环境净化能力的影响，容易在基体材料表面产生颗粒物(落点、尘埃、金属镀膜过程中金属源崩溅产生的金属颗粒)、污点(残留胶点、油污)，进而在光刻过程中对光刻板产生表面污染、硌伤等，影响正常图形制作，直接导致产品质量的下降，如区域性图形异常、不规则等。因此需要定期对光刻版进行清洁和表面修复，确保在使用过程中不产生图形复制异常。常规表面清洁方法相对报导较多，技术也较为成熟，但针对表面硬物硌伤或颗粒物嵌入铬镀层的修复却无相关报导，所以如何高效的清洁和修复光刻板表面硬物硌伤或颗粒物，延长光刻板的使用寿命，是目前急需解决的问题。目前常用的清洗方法是通过物理抛光、有机物清洗和强氧化剂混合溶液加热清洗。通过物理抛光的方式进行改善，但抛光本身对于光刻版表现也存在一定的损伤，导致光刻版的透光性下降，影响光刻质量；有机物清洗和强氧化剂虽然可以将表面的污染物本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光刻版表面损伤修复溶液，其特征在于，包括重铬酸钾、水溶性铬盐、浓硫酸和水。/n

【技术特征摘要】
1.一种光刻版表面损伤修复溶液，其特征在于，包括重铬酸钾、水溶性铬盐、浓硫酸和水。


2.根据权利要求1所述的一种光刻版表面损伤修复溶液，其特征在于，所述修复溶液中各组分的质量比例如下：重铬酸钾11wt.％-21wt.％、水溶性铬盐1wt.％-10wt.％、浓硫酸50wt.％-69wt.％、水15wt.％-25wt.％；
进一步优选的，所述修复溶液中各组分的质量比例如下：重铬酸钾11wt.％-15wt.％、水溶性铬盐3wt.％-7wt.％、浓硫酸60wt.％-69wt.％、水20wt.％-25wt.％；
最优选的，所述修复溶液中各组分的质量比例如下：重铬酸钾12wt.％、水溶性铬盐4wt.％、浓硫酸63wt.％、水21wt.％。


3.根据权利要求1所述的一种光刻版表面损伤修复溶液，其特征在于，所述水溶性铬盐为硝酸铬、硫酸铬、氯化铬中的一种或一种以上。


4.一种如权利要求1-3任一项所述的光刻版表面损伤修复溶液的修复方法，其特征在于，包括如下步骤：
(1)将所述修复溶液加热并同时搅拌后，静置；
(2)将光刻版放入所述修复溶液中浸泡并超声；
(3)冲洗光刻板；
(4)干燥光刻板；
(5)吹干光刻板。<...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡夕伦，吴向龙，闫宝华，肖成峰，
申请(专利权)人：山东浪潮华光光电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：山东;37