多变量样品分析制造技术

在用分析装置分析一种未知组成的样品的过程中，对一组分析测量和一组参考测量进行调整，以消除与装置相关的操作误差，从而提供经调整的信号响应的第一和第二矩阵，所述测量各自包括一组通过第一和第二分析装置由一组样品获得的一组多变量信号响应。将所述两个经调节的信号响应的矩阵之一分解成一种矩阵的矩阵积，该矩阵积包括一个含有一组主要因素的矩阵，和含有与所述的主要因素组的每一个主要因素相关的量的矩阵。构建一个压缩信号响应矩阵积，该矩阵积包括一个含有所述主要因素组的子集的矩阵，和一个含有与该子集中每一种主要因素相关的量的矩阵。可由后一种矩阵计算出投影矩阵。使用该投影矩阵和包含一种归一化矩阵的第一归一化矩阵积和所述两个的经调节的信号响应的矩阵中的另一个构建压缩归一化矩阵积。计算出能降低所述第一归一化矩阵积和所述压缩归一化矩阵积之间的差异的归一化矩阵的值由此获得最佳的归一化矩阵。构建包括所述最佳归一化矩阵和所述经调节的信号响应矩阵中已被分解成矩阵积的另一个矩阵的第二归一化矩阵积。使用经调节的信号响应的另一个矩阵和第二归一化矩阵积构成一种校准，该校准可用于分析通过第一分析装置由所述未知组成的样品获得的信号响应，并应用于获自该样品的所述信号响应，以测定其组成。（*该技术在2017年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及分析一种未知组成的样品，更具体地说，涉及一种通过构建一种校准分析一种样品的方法，所述的校准是通过随机倍增器微扰的多变量信号响应构成的。
技术介绍
校准是指用经验数据和现有知识确定如何通过某些数学方法，由新的测量值估算定量分析的方法。很多分析仪器能提供不直接与想望的定量测定相关的反应。例如，一种层析谱具有一系列与被引入进行分析的成分的量相关的峰，但每一种成分可以有不同的可能会影响分析的响应因素，除非进行校准，以确定并校正这些各别的响应因素。类似地，由诸如红外光谱学的光谱测定提供了与各别组分的分子运动相关的振动光谱。每一种振动具有取决于该分子特征的某些响应因素。例如，羟基官能度可产生强的振动特征，而碳-硫键在红外光谱中产生弱的振动特征。所述的响应因素影响每一种振动带的相对强度，以致直接分析振动强度将不能得到精确的定量测量值。在将振动光谱数据转换成为定量测定值时，校准提供了一种对有关的响应因素进行说明的手段。由近红外光谱学(NIRS)提供的分子振动运动的数据是与很多较复杂的化学混合物的理想的定量测定值间接相关的。NIRS方法、数据收集、和校准被披露于以下的文献中Stark等本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种利用由一组样品获得的一组分析数据和一组参考数据通过分析装置分析一种未知组成的样品的方法，该方法包括： 用第一分析装置对所述样品组进行测定，从而获得一组包括第一组多变量信号响应的分析数据； 调整所述第一组多变量信号响应，以消除与所述第一分析装置相关的操作误差的影响，从而获得经调节的信号响应的第一矩阵； 用第二分析装置对所述样品组进行测定，从而获得一组由第二组多变量信号响应组成的参考测定值； 调整所述第二组多变量信号响应，以消除与所述第二分析装置相关的操作误差的影响，从而获得经调节的信号响应的第二矩阵； 将所述经调节的信号响应矩阵之一分解成一种矩阵积，该矩阵积包括...

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：DC阿尔斯梅耶，VA尼瑟莱，
申请(专利权)人：伊斯曼化学公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]