判断无尘室是否有有机碳化污染物的方法技术

本发明专利技术提供一种判断无尘室是否有有机碳化污染物的方法，它利用将圆片放在无尘室中一特定时间后，测量圆片表面的微粒子数值，再将圆片经一清洗工艺后，再测量圆片表面的微粒子数值，通过比较两次微粒子数值的变化，而得知无尘室内是否有有机碳化物污染。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术系涉及一种，特别涉及一种使用清洗工艺来。
技术介绍
依据半导体工业的铁律——摩尔定律(moore’srole)的预测，半导体芯片上所能容纳的晶体管数量是以每1.5至2年为一周期，逐期倍增。在旧的技术里，单位面积内只能容纳一千个晶体管的芯片，在新的技术里却能挤进二千个。所以同样制作一片含一千个晶体管的芯片，尺寸将是过去的一半。因为单位面积内拥有更多的晶体管，因此IC芯片中导线电路的间距极小，故当有异物、微粒子(particle)、金属杂质、表面附着有机物、化学污染物等等，都会对成品率(yield)产生重大的影响，所以随着半导体工艺的进展与变化，对无尘室和厂房动力设施设备(utility)的要求逐渐增加。然而，无尘室的基本构成包括由吊杆(ceiling rod)、钢梁(I-Beam或U-Beam)、天花板格子梁(Ceiling grid或Ceiling frame)所构成的天花板系统，由空气舱、过滤器系统、风车等所构成的空调系统，隔墙板(Partitional)，由高架地板或防静电舒美地板所构成的地板，与照明器具等，但是上述的无尘室建材表面或建材的连接点易产生挥发性有机分子附着在园片表面，因此，当无尘室运作时，须对无尘室进行一有机碳化污染物的存在与否的判断，以避免批量生产时有机碳化物对园片造成污染。所以，本专利技术针对上述问题提出一种，来对无尘室的状态进行判断，并进而避免园片因无尘室内的构成物导致失效的危险。
技术实现思路
本专利技术的主要目的，在于提供一种，它利用园片处于有有机碳化污染物的气氛中后，经清洗工艺能够将吸附在园片表面的有机碳化物形成微粒子显现出来，进而利用清洗前后微粒子数值的变化，从而有效且简便的判断无尘室是否有有机碳化物污染的问题。本专利技术的另一目的，在于提供一种，其能够降低组件因有机碳化物污染而导致成品率下降的机率。为达到上述目的，本专利技术提供一种，首先提供一园片；将园片置于待测的无尘室经过一特定时间后，测量园片表面的微粒子的数量值，然后将园片经过一清洗工艺后，测量园片表面的微粒子数量值，由表面微粒子数值的变化即可得知无尘室是否有有机碳化污染物的问题，进而提供了定性、且简易判断无尘室的有机碳化污染物的方法。本专利技术的有益效果为通过一种简便易行的方式判断出无尘室中是否有有机碳化污染物，有效地避免了批量生产时有机碳化物对园片造成污染而导致其失效的危险，从而提高了成品率。附图说明图1为本专利技术的步骤流程示意图。图2为本专利技术依据表一使用十个园片在十个不同时间间隔下，对无尘室进行有无有机碳化污染物监控的微粒子数值变化曲线。图3为一裸晶园片的表面在电子显微镜下的示意图。图4为对图3的表面在电子显微镜下的示意图所显现的微粒子进行EDS分析所得的EDS分析能谱。图5为一经过表面氧化处理的园片在表面电子显微镜下的示意图。图6为对图5的表面电子显微镜下的示意图所显现的微粒子进行EDS分析所得的EDS分析能谱。具体实施例方式以下结合附图及实施例进一步说明本专利技术的结构特征及其所达成的有益效果。本专利技术为一种，其测量的方式，如图1所示，首先如步骤S10先将一园片以一具有开放式开口之的园片存放盒盛载，然后如步骤S12放置在无尘室经过一特定时间后，如步骤S14利用表面污染分析仪(Surface scan)对园片表面进行一表面微粒子数量值(PD)测量，然后如步骤S16将园片置于清洗设备(Scrubber)内进行一清洗工艺，再如步骤S18对园片表面进行一表面微粒子数量值测量，最后如步骤S20进行表面微粒子数值比较，由表面微粒子数值的变化即可得知无尘室是否有有机碳化物污染的问题，其中所述园片可以为一控片，甚至也可是一经表面氧化工艺的园片。请参阅表一与图2，是以十个园片在十个不同的监控时间下，对无尘室是否有有机碳化污染物进行判断的例子，其中每单一园片所使用的有机碳化污染物的判断方法都与上述步骤相同，只是它们的特定监控的时间不同，依据表一与图2中可明显的发现随着监控时间越长，园片在经清洗后所测得的微粒子数量值就越多，因此可得知随着园片在无尘室暴露的时间增长，园片表面所吸附有机碳化污染物逐渐增多。表一 另外，为进一步验证本专利技术利用清洗机对园片进行清洗工艺后的园片表面的微粒子数变化确实可作有机碳化污染物的判断，还使用扫描式电子显微镜(SEM)与能量分散光谱仪(EDS)对经清洗后的裸晶园片作表面分析，请一并参阅图3与图4，由图中可发现园片上的微粒子，确实含有碳元素，因此证明经清洗工艺后，园片表面的微粒子数值增加与否，确实可作为有机碳化污染物是否存在的判断依据。在此，为验证即使经过表面热处理的园片仍可作为判断有无有机碳污染物的园片，请参阅图5与图6，是使用经表面氧化工艺的园片来作为监控园片的表面电子显微镜照相图，与对所述表面电子显微镜照相图所显现的微粒子所作EDS分析能谱，由能谱可证明清洗工艺后，经氧化工艺后的园片表面所增加的微粒子确实含有碳元素，因此经表面热处理后的园片仍可作为是否有有机碳化污染物的监控园片。综上所述，本专利技术为一种，它利用放置在无尘室的园片表面若吸附有机碳化污染物后，经清洗工艺后会有表面微粒子含量升高的现象，来作为，相较于一般对无尘室的有机碳化污染物难以监测的问题提出一种简单的方式来解决，使无尘室内是否有无机碳化污染物的问题能更有效与更简便的控制。以上所述的实施例仅用于说明本专利技术的技术思想及特点，其目的在使本领域内的技术人员能够了解本专利技术的内容并据以实施，当不能仅以本实施例来限定本专利技术的专利范围，即凡依本专利技术所揭示的精神所作的同等变化或修饰，仍落在本专利技术的专利范围内。权利要求1.一种，包括下列步骤提供一园片；将所述园片置于无尘室经过一特定时间后，测量所述园片的表面微粒子数；以及对所述园片进行一清洗工艺后，测量所述园片表面微粒子数，由表面微粒子数值的变化值可得知无尘室是否有有机碳化污染物污染的问题。2.根据权利要求1所述的，其特征在于所述园片的表面颗粒数是通过利用表面污染分析仪对所述园片作表面分析得到。3.根据权利要求1所述的，其特征在于所述园片为一控片。4.根据权利要求1所述的，其特征在于所述园片为一经表面氧化工艺的园片。全文摘要本专利技术提供一种，它利用将圆片放在无尘室中一特定时间后，测量圆片表面的微粒子数值，再将圆片经一清洗工艺后，再测量圆片表面的微粒子数值，通过比较两次微粒子数值的变化，而得知无尘室内是否有有机碳化物污染。文档编号G01N15/02GK1699961SQ20041001846公开日2005年11月23日 申请日期2004年5月19日 优先权日2004年5月19日专利技术者李春雷, 张炳一 申请人:上海宏力半导体制造有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种判断无尘室是否有有机碳化污染物的方法，包括下列步骤：提供一园片；将所述园片置于无尘室经过一特定时间后，测量所述园片的表面微粒子数；以及对所述园片进行一清洗工艺后，测量所述园片表面微粒子数，由表面微粒子数值的变化值可得知无尘室是否有有机碳化污染物污染的问题。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李春雷，张炳一，
申请(专利权)人：上海宏力半导体制造有限公司，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]