一种高分辨率负性光刻胶及其制备方法技术

本发明专利技术涉及光学材料领域，尤其涉及一种高分辨率负性光刻胶，丙烯酸改性的环氧树脂这种碱溶性负型光刻胶以丙烯酸将丙烯酸作为引入双键的成分，每当引入一个双键，便会消耗一个羧基，很难保证成膜树脂在显影液中的溶解性，易造成具有较高的LER和较低的分辨率；成膜树脂中含有较多的环氧官能团，大大降低了成膜树脂与硅片的附着力，对光刻图形的分辨率十分不利。基于上述问题，本发明专利技术提供一种高分辨率负性光刻胶，在光敏树酯的侧链中引入较为丰富的羟基官能团和刚性结构，采用两种活性稀释剂复配，使得光敏树脂获得合适交联密度，有效改善了光敏树脂在硅片上的附着力，大大提高了光刻图像的分辨率，使得光刻图像具有较小的LER。

【技术实现步骤摘要】
一种高分辨率负性光刻胶及其制备方法
本专利技术涉及光学材料领域，尤其涉及一种高分辨率负性光刻胶。
技术介绍
光刻胶是指通过紫外光曝光光源的照射或辐射使其在显影液中的溶解度发生变化的感光混合液体，是集成电路产业链的关键材料，主要应用于微电子和半导体分立器件的细微图形加工。光刻胶由成膜树脂、感光剂、助剂和溶剂等组成，其中成膜树脂是关键组成部分，能够发生光化学反应，决定光刻胶感光度，分辨率和溶解性。商品化的碱溶性负型光刻胶主要为丙烯酸改性的环氧树脂，但此类树脂的脆性大，在显影时容易造成线条边缘粗糙(李虎.光刻胶用成膜树脂的合成及性能研究[D].)。而且成膜树脂中含有大量的油性官能团使得成膜树脂在硅片上的附着力较小。另外，将丙烯酸作为引入双键的成分，每当引入一个双键，便会消耗一个羧基，成膜树脂分子结构中羧基的数量决定了成膜树脂在显影液中溶解速度和显影效果例如分辨率和线条边缘粗糙度(LER)，因此，在引入双键的同时必须衡量消耗的羧基对光刻图形分辨率和LER的影响。
技术实现思路
针对现有技术中存在的问题，本专利技术要解本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高分辨率负性光刻胶，其特征在于，以重量份数计，包括以下成分：/n光敏树脂 25-30份/n颜料 0.3-0.5份/n光引发剂 3-5份/n活性稀释剂 8-10份/n有机溶剂 50-55份。/n

【技术特征摘要】
1.一种高分辨率负性光刻胶，其特征在于，以重量份数计，包括以下成分：
光敏树脂25-30份
颜料0.3-0.5份
光引发剂3-5份
活性稀释剂8-10份
有机溶剂50-55份。


2.根据权利要求1所述的一种高分辨率负性光刻胶，其特征在于：所述光敏树脂按照以下方法制备：
（1）将45mL丙烯酸叔丁酯、35mL对羟基苯乙烯、50mL己内脂2-（甲基丙烯酰氧基）乙酯、105mL丙烯酸、3mL偶氮二异丁腈、2.5mL链转移剂和150mL丙二醇甲醚醋酸酯均匀混合后，设定反应温度为80℃，开动搅拌器，在氮气保护下充分反应，经红外检测反应体系中的双键消失后，停止反应，得到共聚物Ⅰ；
（2）将上述反应体系温度升高至115℃，加入0.2g对甲氧基酚、1g三苯基磷和50mL丙二醇甲醚醋酸酯中混合均匀，不...

【专利技术属性】
技术研发人员：肖洪健，谢秋梅，罗舜菁，
申请(专利权)人：广东绿色大地化工有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44