感光性树脂组合物、干膜抗蚀剂及树脂组合物与干膜抗蚀剂的硬化物制造技术

本发明专利技术的目的在于提供一种感光性树脂组合物，该感光性树脂组合物保有良好的图像分辨率，且减少硬化物的湿热溶出污染，湿热接着性良好。本发明专利技术提供的感光性树脂组合物，含有(A)光阳离子聚合引发剂及(B)环氧化合物，前述(A)光阳离子聚合引发剂含有由下述式(1)表示的阴离子与阳离子所形成的盐，式(1)中，R

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】感光性树脂组合物、干膜抗蚀剂及树脂组合物与干膜抗蚀剂的硬化物
本专利技术涉及感光性树脂组合物，该感光性树脂组合物有用于MEMS(微电子机械系统，MicroElectroMechanicalSystems)零件、微机械零件、微流体零件、μ-TAS(micro-TotalAnalysisSystem，微全分析系统)零件、喷墨印刷头零件、微反应器零件、电容器或感应器(inductor)等电子零件的绝缘层、LIGA零件、微射出成形及热压花用模具及冲模、微细印刷用途用网板或模板(stencil)、行动终端和IoT(物联网,InternetofThings)零件上装载的MEMS感测器、半导体元件、滤波器元件(frequencyfilterdevice)等封装零件、生物MEMS及生物光子元件(Biophotonicdevice)以及印刷电路板的制作，为分辨率优良，且其硬化物的湿热溶出污染极低，而且与湿热试验后的基板之间的接着性优良。
技术介绍
可光蚀刻(photolithography)加工的抗蚀剂，能够广泛使用于半导体或MEMS、微机械应用上。在此种应用中，光蚀刻加工通过在基板上进行图案化曝光，接着用显影液进行显影以选择性地去除曝光区域或未曝光区域而达成。可光蚀刻加工的抗蚀剂(光致抗蚀剂，photoresist)有正型或负型，曝光部分溶解于显影液的是正型，同理，不溶解的是负型。依据重氮醌-酚醛清漆的组合的传统的正型抗蚀剂，不适合使用于要求厚膜的用途上。此厚度的限制，是因为在使抗蚀剂曝光时，重氮萘醌型光活性化合物在典型上所使用的光学光谱的近红外域中的波长中的吸光度较高所造成的。另一方面，作为已解决正型抗蚀剂的问题的负型抗蚀剂，已有提案为含有多官能环氧树脂与光聚合引发剂的可形成厚膜图案的感光性环氧树脂组合物(参照专利文献1)。专利文献1所揭示的是一种感光性树脂组合物，含有属于锑化合物的特定结构的光聚合引发剂。该文献中记载着使用该种特定结构的光聚合引发剂而将良好的图像分辨率、接着性等特性提升的方式。然而，含有氟化锑系化合物的光聚合引发剂虽然具有比较高的灵敏度，但存在着锑毒性的问题。已有许多锑化合物被指为有害物质，不只强烈限制其用途，也因为加工条件而从氟化锑系化合物中游离出氟化氢，而成为将金属部分腐蚀的原因。因此，有着除了追加避免腐蚀不良的步骤之外别无他法的不便之处。而且，由此引发剂而成的聚合硬化物，在以硬化物单独进行耐湿热性的指标的压力锅试验(pressurecookertest，以下称为「PCT试验」)时，其萃取水呈强酸性，会溶出大量的游离氟化氢及树脂的氧化分解物等。专利文献2及3中，所提案的感光性树脂组合物使用阴离子部分的中心元素为硼或磷的特定结构的非锑化合物的光阳离子聚合引发剂。这些文献中，记载着使用非锑化合物的光阳离子聚合引发剂的感光性树脂组合物显示与使用锑化合物的光阳离子聚合引发剂的感光性树脂组合物为同等或高于该感光性树脂组合物的灵敏度。然而，当将使用这些文献所述的非锑化合物的光聚合引发剂的组合物的硬化物供于PCT试验时，其萃取水显示出高导电率及低pH。此种硬化物不只耐水性或耐湿热性不足，且在湿热环境下或耐水环境下恐会导致酸性溶出物所造成的污染。因此，这些文献的感光性树脂组合物，在应用于使用水系流体的微流体零件、μ-TAS(微全分析系统)零件及喷墨喷嘴零件等用途，和在树脂密封时要求高耐热性的行动信息终端上所装载的滤波器元件或装载在IoT零件上的感测器等电子封装应用等用途上时，受到强烈的限制。[现有技术文献][专利文献][专利文献1]日本专利第4691047号公报[专利文献2]日本专利第6205522号公报[专利文献3]日本专利第5020646号公报。
技术实现思路
[专利技术所欲解决的课题]本专利技术有鉴于上述情况而成，目的在于提供一种感光性树脂组合物，其保有良好的图像分辨率，且减少硬化物的湿热溶出污染、湿热接着性良好。[解决课题的手段]用以解决上述课题的本专利技术的各种方案如下述。[1]一种感光性树脂组合物，含有(A)光阳离子聚合引发剂及(B)环氧化合物；该(A)光阳离子聚合引发剂含有由下述式(1)表示的阴离子与阳离子所形成的盐，且该(B)环氧化合物含有选自：下述式(2)表示的环氧化合物(b-1)、下述式(3)表示的环氧化合物(b-2)、下述式(4)表示的环氧化合物(b-3)、选自下述式(5)至(7)表示的环氧化合物的群组中的一种以上的环氧化合物(b-4)、下述式(8)和/或式(9)表示的化合物与下述式(10)和/或式(11)表示的化合物的共缩合物的环氧化合物(b-5)、下述式(12)表示的环氧化合物(b-6)、下述式(13)表示的环氧化合物(b-7)、下述式(14)表示的环氧化合物(b-8)、下述式(15)表示的环氧化合物(b-9)、及下述式(16)表示的环氧化合物(b-10)所形成的群组中的1种或2种以上的环氧化合物；(式(1)中，R1至R4分别独立地表示碳数1至18的烷基或碳数6至14的芳基。但是，R1至R4中的至少一者表示碳数6至14的芳基。)(式(2)中，R5分别独立地表示缩水甘油基或氢原子，存在多个R5之中的至少2个是缩水甘油基。k表示平均重复数，是0至30的范围的实数。)(式(3)中，R6分别独立地表示氢原子、碳数1至4的烷基或三氟甲基。R7表示氢原子或缩水甘油基，存在多个R7时，各个R7可以相同，也可不同。m表示平均重复数，是0至30的范围的实数。)(式(4)中，R8分别独立地表示氢原子或碳数1至4的烷基。n表示平均重复数，是4至30的范围的实数。)(式(6)中，R9分别独立地表示氢原子或缩水甘油基。)(式(7)中，R10分别独立地表示氢原子或缩水甘油基。)(式(12)中，R12分别独立地表示氢原子或碳数1至4的烷基。p表示平均重复数，是0至10的范围的实数。)(式(13)中，q表示平均重复数，是0至5的范围的实数。)(式(14)中，r表示平均重复数，是0至6的范围的实数。)(式(15)中，R13分别独立地表示氢原子或碳数1至4的烷基。s表示平均重复数，是0至30的范围的实数。)(式(16)中，t、u及v分别表示平均重复数，是满足2≤t+u+v≤60的关系的实数。)[2]如上述[1]项所述的感光性树脂组合物，其中，R1至R4分别独立地为具有全氟烷基作为取代基的苯基、或具有氟原子作为取代基的苯基。[3]如上述[2]项所述的感光性树脂组合物，其中，R1至R4分别独立地为五氟苯基或双(三氟甲基)苯基。[4]如上述[1]至[3]项中任一项所述的感光性树脂组合物，其中，(A)光阳离子聚合引发剂含有由式(1本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种感光性树脂组合物，该感光性树脂组合物含有(A)光阳离子聚合引发剂及(B)环氧化合物；/n该(A)光阳离子聚合引发剂含有由下述式(1)表示的阴离子与阳离子所形成的盐，且/n该(B)环氧化合物含有选自：/n下述式(2)表示的环氧化合物(b-1)、/n下述式(3)表示的环氧化合物(b-2)、/n下述式(4)表示的环氧化合物(b-3)、/n选自下述式(5)至(7)表示的环氧化合物的群组中的一种以上的环氧化合物(b-4)、/n下述式(8)和/或式(9)表示的化合物与下述式(10)和/或式(11)表示的化合物的共缩合物的环氧化合物(b-5)、/n下述式(12)表示的环氧化合物(b-6)、/n下述式(13)表示的环氧化合物(b-7)、/n下述式(14)表示的环氧化合物(b-8)、/n下述式(15)表示的环氧化合物(b-9)、及/n下述式(16)表示的环氧化合物(b-10)/n所形成的群组中的1种或2种以上的环氧化合物；/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171206 JP 2017-2340091.一种感光性树脂组合物，该感光性树脂组合物含有(A)光阳离子聚合引发剂及(B)环氧化合物；
该(A)光阳离子聚合引发剂含有由下述式(1)表示的阴离子与阳离子所形成的盐，且
该(B)环氧化合物含有选自：
下述式(2)表示的环氧化合物(b-1)、
下述式(3)表示的环氧化合物(b-2)、
下述式(4)表示的环氧化合物(b-3)、
选自下述式(5)至(7)表示的环氧化合物的群组中的一种以上的环氧化合物(b-4)、
下述式(8)和/或式(9)表示的化合物与下述式(10)和/或式(11)表示的化合物的共缩合物的环氧化合物(b-5)、
下述式(12)表示的环氧化合物(b-6)、
下述式(13)表示的环氧化合物(b-7)、
下述式(14)表示的环氧化合物(b-8)、
下述式(15)表示的环氧化合物(b-9)、及
下述式(16)表示的环氧化合物(b-10)
所形成的群组中的1种或2种以上的环氧化合物；



式(1)中，R1至R4分别独立地表示碳数1至18的烷基或碳数6至14的芳基；但是，R1至R4中的至少一者表示碳数6至14的芳基；



式(2)中，R5分别独立地表示缩水甘油基或氢原子，存在多个R5之中的至少2个是缩水甘油基；k表示平均重复数，是0至30的范围的实数；



式(3)中，R6分别独立地表示氢原子、碳数1至4的烷基或三氟甲基；R7表示氢原子或缩水甘油基，存在多个R7时，各个R7可以相同，也可不同；m表示平均重复数，是0至30的范围的实数；



式(4)中，R8分别独立...

【专利技术属性】
技术研发人员：今泉尚子，
申请(专利权)人：日本化药株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP